製品概要
本高性能4ゾーンチューブ炉は、熱処理工学の最高峰を体現する装置であり、大規模材料サンプルや8インチウェーハの処理に特化して設計されています。直径600mm（24インチ）の大口径高純度石英管を採用することで、容量と精度の両方が求められる特殊熱処理に対し、十分な処理空間を提供します。本装置の核心的価値はマルチゾーン構成にあり、熱勾配の緻密な制御が可能なため、均一性が不可欠な高度な化学気相成長（CVD）、焼鈍、焼結プロセスにおいて欠かせないツールとなっています。
産業界の研究開発拠点や材料科学研究室を対象とした本装置は、多様な雰囲気条件下での処理に優れた性能を発揮します。高真空下から特定の保護ガス環境下まで、堅牢な設計によりシステムの完全性を維持します。空冷一体型の二層鋼製筐体により、内部チャンバーが高温に達しても外部表面は安全な温度に保たれ、生産的で安全な研究環境を実現します。本装置は新材料の合成に最適化されており、研究者がベンチスケールまたはパイロットスケールレベルで複雑な産業製造条件をシミュレートできる柔軟性を提供します。
本設計では信頼性が最優先されており、耐火性繊維状アルミナ断熱ライナーを採用することでエネルギー効率と熱安定性を最大化しています。要求の厳しい産業用負荷サイクルに耐えられるよう設計されており、数千時間の運転を通じて安定した性能を持続します。先進炭素材料の構造規則化や黒鉛化処理に対応できる本装置は、触媒開発、半導体研究、冶金試験を伴うプロジェクトの信頼できる基盤として機能します。本システムは単なる炉ではなく、重要度の高い材料イノベーションのための総合的な熱ソリューションです。
主な特長
- 4ゾーン独立温度管理: システムにはそれぞれ長さ300mmの4つの独立した加熱ゾーンがあり、総加熱長は1200mmです。この構成により、正確な熱勾配の作成、または最大1100mmの非常に長い定温ゾーンの実現が可能で、長尺基板や大容量バッチの処理に対して比類のない柔軟性を確保します。
- 特大口径石英処理管: 外径600mm（24インチ）の高純度石英管を標準搭載しており、8インチウェーハなどの大判材料の処理に特化して設計されています。石英素材は優れた熱衝撃耐性と化学的不活性を備えており、高純度な焼結・焼鈍のための無汚染環境を維持します。
- 精密マイクロプロセッサPID制御: 各ゾーンは専用のデジタルコントローラーで制御され、30セグメントのプログラム可能サイクルと自動調整機能を備えています。マイクロプロセッサベースのPIDロジックにより温度オーバーシュートを防ぎ、±1℃の定常精度を維持するため、敏感な材料変化や再現性のある結果を得るのに非常に重要です。
- 高度な多段真空シーリング: 本システムには、迅速なアクセスと優れたシール性を実現する水冷ステンレス鋼製ヒンジ式フランジが一対搭載されています。シリコンOリングと一体型KF40ポートを使用することで、2段ターボ分子ポンプと組み合わせた場合に10-5 torrまでの真空度を達成可能で、超クリーンな処理環境を実現します。
- 産業グレードの発熱体: 高品質なNiCrAl抵抗線ヒーターを使用することで、最高加熱温度1150℃を達成します。これらの発熱体は耐久性と安定した放熱特性が選定されており、頻繁な熱サイクルにさらされても長期的な信頼性を確保します。
- 統合安全・冷却システム: 二層鋼製筐体は内部空冷設計により、外部表面温度を70℃以下に維持します。この設計により研究員を保護し周囲の熱蓄積を防ぐと同時に、フランジへの循環式冷水チラーの搭載により、高温運転時のシールを保護します。
- 総合的なモニタリング・校正: 本装置には各ゾーンをリアルタイムでモニタリングするために4本のK型熱電対が搭載されています。フランジには2次校正用熱電対用の専用ポートが備わっており、ユーザーが内部温度を検証し、プロセス検証と品質管理の最高基準を確保できます。
- 高効率耐火断熱: 高品質な繊維状アルミナ断熱ライナーにより、熱損失と消費電力を最小化します。この省エネ設計とセラミックチューブブロックの組み合わせにより放射熱を効果的に封じ込め、熱エネルギーを周囲環境ではなく処理ゾーンに集中させます。
用途
| 用途 | 説明 | 主なメリット |
|---|---|---|
| 半導体ウェーハ焼鈍 | 8インチシリコンまたは化合物半導体ウェーハの成膜後熱処理 | 高い均一性で結晶構造と電気特性を改善 |
| 大規模CVDプロセス | 大表面積全体への薄膜またはナノ材料の化学気相成長 | 高純度コーティングのためのガス動態と温度勾配の精密制御 |
| 炭素黒鉛化 | 窒素ドープ炭素の1100℃熱処理による導電性向上 | 燃料電池用途におけるCo-Nクラスターの安定性と触媒性能を最適化 |
| マルチゾーン焼結 | 特定の昇温・降温勾配が必要なセラミックまたは金属サンプルの熱処理 | 制御された熱分布により割れや構造欠陥を防止 |
| 雰囲気研究 | 流量制御付きの不活性ガスまたは反応性ガス（N2、Ar、H2）制御下での熱処理 | 実験室環境下で複雑な産業化学環境のシミュレーションが可能 |
| 粉末冶金 | 高い密度と純度を達成するための先進合金粉末の真空焼結 | 固化プロセス中に酸化物を除去し、汚染を防止 |
| 材料老化試験 | 熱疲労を評価するための産業用部品の定常高温試験 | 信頼性の高い劣化データのための安定した長期的熱安定性を提供 |
技術仕様
| 項目 | 仕様詳細（モデル TU-47） |
|---|---|
| 加熱ゾーン長 | 合計 1200 mm（4ゾーン × 1ゾーンあたり 300 mm） |
| 定温ゾーン | 長手方向 1000 mm（±3℃） または 1100 mm（±5℃） |
| 最高温度 | 1150℃（1時間未満） |
| 連続使用温度 | 200℃ ～ 1100℃ |
| 昇温/降温速度 | ≤ 5℃/分 |
| 温度精度 | ± 1℃ |
| 温度均一性 | ± 3℃（断面方向） |
| 石英管寸法 | 外径 600 mm × 内径 590 mm × 長さ 1500 mm（直径 24インチ） |
| 炉構造 | 空冷付き二層鋼製筐体；表面温度 ＜ 70℃ |
| 断熱ライナー | 耐火性繊維状アルミナ断熱 |
| 発熱体 | NiCrAl 抵抗線 |
| コントローラー | 4台のデジタルPIDコントローラー、30セグメントプログラム可能 |
| 熱電対種別 | 4本のK型熱電対（1ゾーンあたり1本） |
| 真空度 | 10-2 torr（機械ポンプ）；最大 10-5 torr（ターボポンプ） |
| フランジ種別 | KF40および1/4インチポート付き水冷ステンレス鋼ヒンジ式フランジ |
| チラー要件 | 16L/min循環式冷水チラー標準搭載 |
| 消費電力 | 約 50 KW |
| 定格電圧 | 三相 220V AC、50/60 Hz |
| 認証 | CE認証済（NRTL/CSA認証は要見積） |
| ガス流量制限 | ＜ 200 SCCM（熱衝撃低減のため） |
| 圧力制限 | ＜ 0.2 bar / 3 psi |
当社を選ぶ理由
- 優れた熱均一性: 4ゾーンアーキテクチャにより非常に大きな定温ゾーンを提供するため、熱の安定性が製品品質を左右する大判基板やバルク処理に最適な装置です。
- 堅牢な産業用設計: 高耐久鋼、水冷ステンレス鋼フランジ、高効率アルミナ断熱で設計された本システムは、長時間の研究開発やパイロット生産環境の過酷な使用に耐えられるよう設計されています。
- 優れた真空完全性: ヒンジ式フランジ設計と高速ターボポンプの互換性により、研究者は高純度化学気相成長に必要な超清浄雰囲気を達成・維持することができます。
- 精密な設計とサポート: すべてのシステムは厳格な規格に基づき校正され、ガス供給システム、水素リークディテクター、校正キットなどの各種アクセサリーを利用可能で、長期的な運用精度を確保します。
- カスタマイズ可能な大容量処理: ユニークな600mm管径を持つ本炉は、標準的な実験室用装置と産業生産用炉の間のギャップを埋め、先進材料研究のスケールアップにプロフェッショナルグレードのソリューションを提供します。
当社の技術チームは、お客様の特定の処理要件に最適な熱ソリューションの構成を支援する準備ができています。技術相談または正式な見積もりのご依頼は、今すぐお問い合わせください。
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい！
関連製品
1100°C 大口径石英チューブ炉（24インチ加熱ゾーンおよび水冷フランジ付き）
この1100°C大口径石英チューブ炉は、24インチの加熱ゾーンと精密なCVD処理のための水冷フランジを備えています。材料研究や産業用R&Dに最適で、優れた熱安定性と堅牢な熱性能を提供します。
1100°C 高温石英チャンバー炉 8インチ外径 7.6リットル容量 真空雰囲気対応
外径8インチ、容量7.6リットルの1100°C石英チャンバー炉で、研究室の能力を向上させましょう。真空および制御雰囲気環境向けに設計されたこのシステムは、先端材料研究や半導体製造のための精密な熱処理を提供します。
1100°C デュアルゾーン分割型縦型チューブ炉（4インチ石英管および真空シールフランジ付き）
この1100°Cデュアルゾーン分割型縦型チューブ炉は、4インチの石英管と真空シールフランジを備えています。CVDおよびPVD用途向けに設計されたこの高精度システムは、研究開発において卓越した熱均一性を実現します。
12ゾーン超長尺分割型チューブ炉（20フィート石英管、最高温度1100℃）
この高精度な12ゾーン分割型チューブ炉は、6メートルの加熱長と最高温度1100℃を実現し、長尺サンプルの処理に最適です。独立したPID制御と真空対応フランジを備え、先端材料科学や研究開発用途において卓越した均熱性を提供します。
タッチスクリーン制御・高純度石英管・真空シールフランジ付き 1200℃ 4ゾーン分割型チューブ炉
高度なタッチスクリーンコントローラー、高純度石英管、柔軟な真空シールフランジを備えたこの1200℃ 4ゾーン分割型チューブ炉で、材料科学研究を強化しましょう。産業用途全体で精密な温度勾配制御と一貫した高温処理を実現します。
研究室材料研究および高度な産業用熱処理向け 1100℃ マルチポジション管状炉
このマルチポジション管状炉は、垂直および水平方向の柔軟な設置が可能で、1100℃の精密加熱を実現します。先端材料研究向けに設計されており、30セグメントPIDコントローラーと高純度繊維断熱材を採用することで、優れた熱安定性と信頼性の高い産業用研究室性能を提供します。
オプションの大型径石英管付き 1200°C 最大 4ゾーン分割チューブ炉
オプションの直径14インチチャンバーと高純度断熱材を備えた、この1200°C 4ゾーン分割チューブ炉で材料研究を加速します。広い加熱ゾーン全体で高精度な温度均一性を実現し、大規模焼結、アニーリング、先進的な工業用気相成長プロセスに最適です。
1100°C デュアルゾーン水素ガス管状炉（石英管および水素漏れ検知システム一体型）
この高性能デュアルゾーン水素管状炉は、最大1100°Cまでの安全な熱処理を実現するHoneywell製ガス検知器を内蔵しています。材料科学の研究開発向けに設計されており、60mmまたは80mmの石英管を使用して精密な雰囲気制御が可能です。
8ゾーン 1100℃ 高温分割式チューブ炉 4インチ外径石英チューブ タッチスクリーン制御パネル付き
先進的な産業研究開発や化学気相成長プロセス向けに、タッチスクリーン制御パネルによる精密な温度勾配制御と大型4インチ外径石英チューブを備えた8ゾーン1100℃分割式チューブ炉で、材料研究の最適化を実現します。
大型ウェーハ処理用 8.5～11インチ外径石英管および真空フランジ付き 1100°C 3ゾーン管状炉
8.5～11インチの大型石英管と密閉フランジを備えた、精密な1100°C 3ゾーン管状炉です。優れた熱均一性と高真空対応により、産業用R&Dプロジェクトや大規模なウェーハ処理、先端材料研究に最適です。
1100°C 分割型縦型チューブ炉（80mm石英管およびステンレス製真空フランジ付き）
この高性能な1100°C分割型縦型チューブ炉は、80mm石英管、ステンレス製真空フランジ、および精密な30セグメントPID制御を備えています。材料研究開発、急速冷却、および専門的な産業研究所での雰囲気制御熱処理のために設計されています。
1200°C 5インチ垂直型石英管状炉（ステンレス製真空フランジ付き）
5インチ径のチャンバーとステンレス製真空フランジを備えた高性能1200°C垂直型石英管状炉。30セグメントの精密PID制御により、材料科学の研究開発、CVD、および制御雰囲気下での特殊な焼入れ用途において正確な熱処理を実現します。
8インチまたは11インチ石英管と高真空フランジを装備した大型縦型3ゾーン管状炉 1200℃
当社の設計による大容量縦型3ゾーン炉は、独立した温度制御と11インチ石英管への対応により、要求の厳しい実験環境下での重要な産業用焼鈍・焼結研究および先端材料科学開発において、優れた均熱性と向上した真空完全性を実現します。
マルチゾーンアニールおよび材料研究用 3インチ石英管付き 高スループット1200℃ 4チャンネル管状炉
各3インチ石英管を個別に制御可能な、当社の先進的な1200℃ 4チャンネル管状炉で材料研究を加速させます。この高スループットシステムは、産業および学術研究開発ラボにおけるアニールや状態図研究に比類のない効率性を提供します。
4インチ石英管およびステンレス鋼製真空フランジ付き、最大1200℃対応の5ゾーン分割式縦型チューブ炉
この高性能な1200℃対応の5ゾーン分割式縦型チューブ炉は、5つの独立加熱ゾーンと4インチ石英管を備え、先端材料研究および産業用熱処理において卓越した温度均一性と急冷性能を提供します。
急速熱処理用1200℃石英管・ステンレス鋼真空フランジ付き分割型垂直管状炉
この1200°C対応分割型垂直管状炉は、5インチ石英管と精密PID制御を備え、急速焼入れ、真空処理、高度な材料合成を実現し、要求の高い産業研究環境における研究効率を最大化します。
自律型材料研究および先端ラボR&D向け 高温自動5インチチューブ炉
精密真空制御、高純度石英処理、遠隔対応の統合機能を備えたこの1200°C自動チューブ炉で、材料合成を加速します。要求の厳しい産業材料科学分野や先端R&D開発ワークフロー全体にわたり、高スループットのAI研究および自律型ラボ用途を支えます。
粉末CVDおよび材料合成用 5インチ2ゾーン回転管状炉 1100℃
高精度1100℃ 2ゾーン回転管状炉で材料研究を加速させます。均一な粉末CVDおよびコアシェル合成のために特別に設計されたこの5インチ石英システムは、高度な雰囲気制御と独立したデュアルゾーン熱処理最適化を提供します。
1200C 三ゾーン分割式縦型チューブ炉 4インチ石英管 ステンレス鋼真空フランジ
この1200C三ゾーン分割式縦型チューブ炉は、高精度な熱処理のための4インチ石英管とステンレス鋼真空フランジを備えています。材料の急冷や合成に最適で、この堅牢なシステムは均一加熱と迅速な試料投入アクセスを実現します。
最高使用温度1200℃・大口径石英管採用 7ゾーン分割型チューブ炉
この高性能な7ゾーン分割型チューブ炉は、82.6インチの広大な加熱長と8インチの石英管を備えています。精密な材料研究のために設計されており、優れた温度均一性と高度な雰囲気制御を実現し、産業用R&Dや要求の厳しい製造用途に最適です。
