8インチ加熱ゾーンとプログラマブルコントローラーを備えた1250Cコンパクト分割型チューブ炉

管状炉

8インチ加熱ゾーンとプログラマブルコントローラーを備えた1250Cコンパクト分割型チューブ炉

商品番号: TU-17

最高使用温度: 1250°C 加熱ゾーン長さ: 8" (200mm) 温度制御精度: ±1°C
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製品概要

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このコンパクト分割型チューブ炉は、効率的な熱工学の頂点を表し、スペースと精度が同様に極めて重要な材料科学研究および産業研究開発のために特別に設計されています。高性能実験室加熱システムとして、最高1250°Cの作業温度を提供し、高温焼結、アニーリング、化学気相成長プロセスに理想的な選択肢です。この装置は、熱均一性と省エネルギーに焦点を当てて設計されており、安定した再現性のある熱プロファイルを提供しながら、わずか1.2 KWの電力しか消費しません。多用途な分割シェル設計と先進的な断熱材を統合することで、熱環境の品質を損なうことなく、複雑な実験セットアップを管理する柔軟性を研究者に提供します。

この装置の主な使用例は、冶金学、半導体開発、先進セラミックスに及びます。特に、制御雰囲気または真空下で小ロットサンプルを処理するための信頼性の高いシステムを必要とする学術および産業研究所で高く評価されています。ユニットの構造はコンパクトな設置面積を重視しており、標準的なフード内や混雑した実験室作業台に容易に統合できます。調達チームや施設管理者にとって、このシステムは、現代の材料特性評価と合成の厳しい要求に対応する、メンテナンスが少なく稼働率の高いソリューションを表しています。

この加熱ソリューションへの信頼は、堅牢な産業用コンポーネントと細心の組み立てに基づいています。システムは二重層鋼構造を採用し、能動的空冷を組み込むことで、長時間の高温サイクル中でも安全な外表面温度を維持します。この運転安定性への焦点により、炉は多人数が利用する研究施設の日々の過酷な使用に耐えることができます。精密に設計された加熱要素と高純度繊維断熱材により、わずかな温度変動でもデータの完全性が損なわれる可能性のある繊細な実験に必要な一貫性を提供します。

主な特徴

  • 革新的な分割カバー設計: ヒンジ付き炉シェルにより、内部チャンバーへの迅速なアクセスが可能になり、プロセスチューブ、セラミックブロック、複雑な実験セットアップの取り付けや取り外しが、全体を分解する必要なしに容易になります。
  • 精密PID温度制御: 洗練された内蔵コントローラーは、加熱、保持、冷却のための最大30のプログラマブルセグメントを提供し、特定の熱サイクルが+/-1°Cの精度で実行され、再現性のある科学的結果を保証します。
  • エネルギー効率の高い断熱: 高純度Al2O3繊維断熱モジュールは、熱損失を最小限に抑え、エネルギー消費を削減します。この低熱容量断熱材は、従来の耐火材料と比較して、より速い加熱および冷却速度も可能にします。
  • 先進的な安全保護機能: システムには、内蔵の過熱保護および熱電対故障保護機構が装備されており、安全な動作パラメータを超えた場合に加熱要素への電源を自動的に遮断します。
  • 二重層鋼製ハウジング: 外装構造は、ファン冷却を統合した二重シェル設計を特徴とし、ユニットの表面温度を大幅に低下させ、実験室の安全性を向上させ、内部電子機器を熱暴露から保護します。
  • 柔軟なチューブ互換性: 1インチおよび2インチの外径プロセスチューブの両方に対応するように設計されており、異なるサンプルサイズや化学環境間をシームレスに切り替えるために必要な汎用性を提供します。
  • 交換可能な加熱モジュール: 内部加熱モジュールは簡単に交換できるように設計されており、長期的な保守性を確保し、定期的なメンテナンス時や重工業使用後のダウンタイムを削減します。
  • CEおよびUL対応: この装置はCE規格に準拠するよう製造され、UL 6010対応であり、システムが実験室用ハードウェアの国際的な安全性および性能規制に準拠していることを保証します。

応用例

応用分野 説明 主な利点
化学気相成長 (CVD) 制御されたガスフローを用いた、グラフェンなどの高品質薄膜および2D材料の成長。 高純度薄膜成長のための、ガス動力学と温度均一性の精密制御。
炭化研究 自己ドープ多孔質炭素材料の開発のための動力学の制御。 安定した加熱速度により細孔閉鎖を防ぎ、超高比表面積を得ることが可能。
金属のアニーリング 合金の物理的・化学的特性を変更するための制御された加熱・冷却サイクル。 精密冷却による酸化防止および所望の結晶粒構造の実現。
セラミックスの焼結 技術セラミックスの高温焼成による最大密度と強度の達成。 1200°C以上の信頼性の高い熱安定性により、バッチ間で一貫した構造的完全性を確保。
触媒合成 表面サイトを活性化し性能を最適化するための触媒材料の熱処理。 コンパクトな加熱ゾーンにより、小型の高価値触媒サンプルの効率的な試験が可能。
半導体ドーピング 真空または不活性ガス下での、半導体ウェハーまたは基板へのドーパント拡散。 分割シェル設計により、チューブ内への繊細なウェハーホルダーの事前組み立てが可能。
熱応力試験 急速な温度サイクルまたは長時間加熱下での部品の耐久性評価。 プログラマブル30ステップコントローラーにより、実世界の条件をシミュレートする複雑な熱プロファイルが可能。

技術仕様

特徴 TU-17の仕様詳細
モデル識別子 TU-17 コンパクト分割型チューブ炉
最高温度 1250°C (短期間 < 1時間)
連続運転温度 (ムライトチューブ) 1200°C
連続運転温度 (石英チューブ) 1100°C
加熱ゾーン長さ 8インチ (200 mm)
定温ゾーン 2.3インチ (60 mm)、精度 +/-1°C @ 900°C
温度制御 PID自動制御、30プログラマブルセグメント
温度精度 +/- 1°C
最大昇温速度 <= 10°C / 分
電源 110VAC (単相) または 220VAC (オプション); 1.2 KW
対応チューブサイズ 外径1インチ または 外径2インチ (石英またはムライト)
外形寸法 (閉時) 350mm x 390mm x 400mm (長さ x 幅 x 高さ)
外形寸法 (開時) 350mm x 440mm x 560mm (長さ x 幅 x 高さ)
断熱材 高純度Al2O3繊維断熱材
冷却システム 二重層鋼構造、空冷式
正味重量 18 Kg
安全認証 CE認証済み; UL 6010対応; NRTL / CSAは要請に応じて対応
オプションアクセサリー ノートPC制御、Labviewベースソフトウェア、真空フランジ、耐火ブロック

選ばれる理由

この炉システムへの投資は、プレミアムエンジニアリングと運転一貫性の原則に基づいて構築されたツールを施設に提供します。一般的な加熱ユニットとは異なり、このシステムは交換可能な加熱モジュールアーキテクチャで設計されており、熱処理能力のコア部分が将来にわたって維持・サービス可能であることを保証します。分割シェル設計は、現代の研究者にとって重要な利点であり、標準的なチューブ炉によく関連付けられる機械的ストレスなしに、事前組み立てされた真空ラインやセンサーの統合を可能にします。

30セグメントPIDコントローラーの技術的精度により、多孔質構造の炭化やCVD薄膜の成長など、最も敏感な材料反応でさえ、絶対的な再現性をもって処理されます。さらに、1.2 KWのコンパクトな設置面積と低エネルギー消費は、性能を犠牲にすることなくユーティリティコストを最適化しようとする研究所にとって持続可能な選択肢となります。国際的な認証と利用可能なNRTL/CSAアップグレードにより、このユニットは学術機関と企業の両方の厳格な安全要件を満たしています。

当社の成功へのコミットメントは、初期購入を超えて広がり、専門のエンジニアリングチームによる1年間の限定保証と生涯にわたる技術サポートを提供します。特定の研究目的に完全に合致するよう、特殊なチューブ材料やソフトウェア統合を含む広範なカスタマイズオプションを提供しています。見積もりのご依頼や、独自の実験室要件を満たす熱処理ソリューションをどのように調整できるかについてのご相談は、本日お問い合わせください。

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