製品概要


この真空焼結炉は、カーボンチューブ加熱体を備えたボトムリフト式設計を採用しており、1600℃までの清潔で均一な熱処理を実現します。垂直チャンバーにより、重量物や複雑な部品の装着が容易であると同時に、作業ゾーン全体で優れた温度均一性を維持します。
主な用途には、金属やセラミック粉末の真空焼結、光学結晶のアニーリング、航空宇宙およびエネルギー産業向けの精密組立品のろう付けが含まれます。本システムは高真空(≤1 Pa)運転と不活性ガス環境の両方をサポートしており、カーボンナノチューブ複合材料や高融点金属など、酸化に敏感な材料に適しています。
過酷な研究開発環境向けに設計されたこの炉は、堅牢な構造と高度な自動化を融合させています。PLCベースの制御システムはプロセスの再現性と安全性を保証し、実験および小ロット生産作業のための信頼できるプラットフォームを提供します。過熱保護、冷却水流量監視、インターロックを備えた完全統合型安全システムにより、無人運転時の安全性が保証されます。直感的なタッチスクリーンインターフェースにより、レシピの作成と変更が容易に行えます。ボトムリフト機構は、加熱ゾーンを乱すことなく、重量物や壊れやすいサンプルの装着を容易にし、サイクルの均一性をさらに向上させます。
主な特徴
- ボトムリフト構成: 電動式ボトムエレベーターによりサンプルの積み下ろしが簡素化され、重量物または繊細な組立品の安全なハンドリングが可能となり、加熱ゾーンへの均一な曝露が保証されます。垂直リフト設計は熱損失を最小限に抑え、部品の精密な位置決めを可能にします。
- カーボンチューブ加熱体: 高純度黒鉛/カーボンチューブヒーターにより、1600℃までの迅速、効率的、かつ均一な放射加熱を提供し、清潔で汚染のない熱環境を必要とするプロセスに最適です。この配置は加熱効率を高め、加熱体の寿命を延長します。
- 精密温度制御: 熱電対フィードバック付きの高度なPIDコントローラーが、室温から1500℃の作業温度範囲で±1℃の精度を維持します。多セグメントプログラム可能なプロファイルにより、複雑な熱サイクルにおける精密な昇温と均熱化を可能にし、バッチ間の均一性を保証します。
- 高真空性能: 到達真空度≤1 Pa(冷態、空載、ベーキング後)を達成し、酸化を効果的に防ぎ、液相焼結時のカーボンナノチューブ複合材料などの材料の緻密化を促進します。これは、酸化に敏感な強化材の構造的完全性を維持し、完全な密度を達成するために不可欠です。
- 不活性ガス雰囲気: 0.05 MPaまでの圧力で不活性ガス(アルゴン、窒素)を使用した制御雰囲気焼結をサポートし、酸素に敏感な材料に対するプロセスの柔軟性を拡大します。分圧制御により、材料特性の微調整が可能です。
- PLCタッチスクリーン制御: プログラム可能なレシピを備えた直感的なタッチスクリーンインターフェースにより、容易な操作、データロギング、および産業用自動化システムとのシームレスな統合が可能です。温度、真空度、ガス流量パラメータのリアルタイム表示により、オペレーターはプロセスの安定性を監視し、異常を迅速に特定できます。
- 堅牢な構造: 重厚なステンレス鋼製水冷チャンバーと耐久性のあるシールシステムにより、高温真空条件下での長期的な信頼性とオペレーターの安全性が保証されます。堅牢なフレームは振動と熱変形を最小限に抑えます。
- 均一な温度場: 垂直方向とカーボンチューブの配置により、優れた温度均一性(通常、作業ゾーン全体で±5℃以内)が提供され、ロケットノズルなどの大型薄肉部品における熱応力と変形を最小限に抑えます。
- 安全システム: 無人運転時の安全を確保するため、過熱保護、冷却水流量監視、および安全インターロックを含みます。冗長センサーにより、緊急時の確実なシャットダウンが保証されます。
用途
| 用途 | 説明 | 主なメリット |
|---|---|---|
| 金属粉末焼結 | ステンレス鋼、工具鋼、チタン、ニッケル超合金などの加圧金属粉末を加工し、高密度部品を製造します。真空脱ガスにより酸化物が除去され汚染が防止されるほか、不活性ガスオプションにより炭素量の制御が可能です。 | 低酸素量と微細で均一な結晶粒組織により、機械的特性と耐食性が向上します。 |
| ファインセラミックス焼結 | アルミナ、ジルコニア、窒化ケイ素、炭化ケイ素などのエンジニアリングセラミックスを、分解や相変化を避けるために精密な温度プロファイルと制御雰囲気で焼結します。 | 理論密度に達した組織、制御された微細構造、および一貫した誘電特性または機械的特性を実現し、要求の厳しい電子および構造用途に対応します。 |
| カーボンナノチューブ複合材料 | カーボンナノチューブで強化された金属母相またはセラミックス母相複合材料の真空焼結。高真空(10⁻⁵~10⁻⁴ MPa)により、1600℃までの温度におけるCNTの酸化的劣化を防ぎ、その強化効果を維持します。 | CNTの構造的完全性を最大化し、比強度に優れ、多機能性を備えた複合材料を実現します。 |
| 光学材料熱処理 | サファイア、YAGなどの光学結晶、特殊ガラス、レーザー母体材料のアニーリング、精製、および熱サイクル処理を行い、内部応力を緩和して透明度を向上させます。清浄な真空環境により、揮発性不純物が除去されます。 | 欠陥や介在物を低減することで光学品質を高め、レーザー耐性閾値の向上と均一な屈折率を実現します。 |
| ロケットノズルろう付け | 大型薄肉ノズル組立品をボトムローディングし、複数のろう材を含む複雑なろう付けサイクル中に均一に加熱します。均一な温度場によりホットスポットを防ぎ、垂直方向の向きは重力による変形を最小限に抑えます。 | 後加工での寸法修正が最小限で済む、強固で気密性の高いろう付け継手を実現し、航空宇宙推進システムにおいて重要です。 |
| 高融点金属加工 | 高温用途向けのタングステン、モリブデン、タンタルおよびその合金の焼結。揮発性酸化物による脆化や気孔を防ぐために、1 Pa以下の真空レベルが必要です。 | 照明、医療、炉産業における過酷な使用環境に耐えられる、純度が高く高密度な部品を製造します。 |
| パイロットスケール生産 | 本格的な生産に移行する前に、柔軟性と精密なプロセス制御が重要となる特殊材料の小ロット焼結。システムのプログラム可能なレシピにより、迅速なプロトタイピングとプロセス最適化が可能です。 | 一貫した品質でコスト効率の高い低ボリューム製造を可能にし、先進材料の市場投入までの時間を短縮します。 |
技術仕様
下表は、TU-SJDモデルの主要な技術パラメータをまとめたものです。
| パラメータ | 値 |
|---|---|
| モデル | TU-SJD |
| 電源 | 三相 380V、50 Hz |
| 加熱電力 | 60 kW ±10% |
| 最高設計温度 | 1600℃ |
| 使用温度 | 室温 ~ 1500℃ |
| 有効寸法 | Φ220 × 500 mm (D × H) |
| 炉寸法 | Φ600 × 900 mm (D × H) |
| 温度制御ゾーン | シングルゾーン |
| 温度制御方式 | 熱電対 |
| 温度制御精度 | ±1℃ |
| 到達真空度(冷態、空載、ベーキング後) | ≤ 1 Pa |
| 不活性ガス雰囲気 | 不活性ガス(アルゴン、窒素など) |
| 最高ガス圧力 | ≤ 0.05 MPa |
| 装着方法 | ボトムリフト(電動) |
| 制御システム | タッチスクリーン + PLC |
この製品を選ぶ理由
- 実証された長期信頼性: 重厚なコンポーネントと厳格な品質管理で製造されており、連続高温真空運転下で一貫した性能を発揮し、ダウンタイムとメンテナンスコストを最小限に抑えます。
- 精密製造: 厳しい公差設計と高度な温度制御により再現性のある結果をもたらし、重要な研究開発および生産プロセスにおける廃棄物と手直しを削減します。
本製品の具体的な焼結要件についてご相談ください。この高性能ボトムリフト式真空炉のカスタマイズされたお見積もりをご提案いたします。
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい!
関連製品
先端材料研究向け:自動ボトムローディング機能・1700°C対応・雰囲気制御縦型高温炉
自動電動ボトムローディングおよび真空機能を備えた、1700°C対応の高度な縦型雰囲気炉です。精密な焼結やアニール処理のために設計されており、水冷チャンバーやEurotherm製PID制御を搭載した、要求の厳しい産業研究開発向けの高性能システムです。
500C 真空式縦型チューブ炉 84mm OD 試料回転・昇降システム
この高性能真空式縦型チューブ炉は、高温性能と84mm ODムライトチューブを備え、試料回転および手動昇降システムにより、先端材料研究や産業用熱処理プロセスにおいて均一な焼結を実現します。卓越したエンジニアリングが信頼性を提供します。
CVDおよび材料焼結用3ゾーン高温真空管状炉
この高性能3ゾーン管状炉は、各ゾーンを独立して制御することで精密な温度勾配を実現します。CVDや真空アニール用に設計されており、優れた温度均一性、高度なPIDプログラミング、産業用R&D向けの堅牢な真空シールを提供します。
8.6インチ径石英チャンバー搭載 急速ガス冷却式 1200℃ ボトムローディング真空炉
精密材料研究向けに設計された先進的な1200℃ボトムローディング真空炉で、急速ガス焼入れとデュアルゾーンPID制御を特長としています。本産業用システムは要求の厳しい研究開発環境や高純度処理用途において、優れた熱均一性と真空の完全性を確保します。
粉末球状化・材料焼結用 高温1700℃縦型チューブ炉
本1700℃縦型チューブ炉システムは、電池電極や3Dプリンティング向け粉末球状化処理を最適化します。自動フィーダーと双区域制御を搭載し、真空または制御雰囲気下での高純度加工を実現し、産業用材料研究の高度なニーズに応えます。
ボトムローディング式真空炉 1200℃ 急冷・雰囲気制御・石英チャンバー
ガス急冷機能、デュアルPID制御、高純度石英チャンバーを備えた先進的な1200℃ボトムローディング式真空炉です。精密な研究開発や産業用材料加工向けに設計されており、優れた温度均一性と迅速なサイクルタイムを実現します。
先進セラミック焼結用 双方向加圧式真空誘導加熱プレス炉
高精度な双方向加圧、高速誘導加熱、先進的なPLC制御を備えた高性能真空誘導加熱プレス炉で、高密度な先進セラミックスや複合材料の焼結を実現し、先進材料開発を最適化します。
5トン真空拡散接合焼結炉
プログラマブルPLCを搭載した先進的な5トン真空拡散接合焼結炉で、最高1400°C、真空度6.67×10⁻⁴ Pa、高精度サーボ圧力制御を実現し、セラミックス、金属、ナノ材料の研究開発に対応。再現性の高い高密度焼結が求められる大学や産業研究機関で信頼されています。
1400℃ ボトムロード式不活性ガス雰囲気箱型炉 125L容量 精密油圧リフト搭載
この1400℃ボトムロード式不活性ガス雰囲気箱型炉で、卓越した熱処理結果を実現します。125Lのチャンバー、油圧リフト、水冷ジャケットにより、先進的な産業研究開発や要求の厳しい高純度生産環境での精密な材料加工を提供します。
1200°C 雰囲気制御式自動ボトムローディング炉(6インチ石英管付き)
6インチ石英管とデュアルゾーン加熱を備えた、高度な1200°C雰囲気制御式自動ボトムローディング炉です。一貫した精度と完全な自動化統合機能を必要とする研究開発ラボでの材料研究や産業用熱処理アプリケーションに最適です。
1000℃ 制御雰囲気実験室材料焼結用 コンパクトハイブリッドマッフル・チューブ炉
この多機能コンパクトハイブリッド炉は、マッフル炉とチューブ炉の機能を組み合わせ、精密な1000℃熱処理を実現します。省エネ設計と小型フットプリントにより、グローブボックスへの組み込み、真空焼結、高性能な産業および実験室用制御雰囲気材料研究アプリケーションに最適です。
貴金属溶解および材料研究用 高真空対応1100℃コンパクトトップローディング式縦型真空管状炉
この1100℃コンパクトトップローディング式縦型真空管状炉は、貴金属の溶解や材料研究に高真空環境を提供します。精密なPID制御と高耐久ヒーターを備え、要求の厳しい研究開発や産業用熱処理アプリケーションにおいて、信頼性の高い安定した性能を発揮します。
先端材料焼結・アニール用高温コールドウォール真空炉 1600℃ 加熱エリア 200x200x300mm
この高温コールドウォール真空炉は、クリーンな金属加熱ゾーン内で1600℃の熱処理を実現します。一体型水冷チラーと高精度Eurothermコントローラーを搭載し、先端冶金や材料科学研究に不可欠な汚染のない環境を保証します。
1200°C コンパクト自動ボトムローディング炉(精密コントローラーおよび急速冷却機能付き)
この1200°Cコンパクトボトムローディング炉は、自動化された材料研究のための精密な温度制御と急速冷却を提供します。グローブボックスへの統合を想定して設計されており、高度な産業用R&D向けに信頼性の高い高温処理とシームレスなデータロギングを実現します。
材料科学研究および制御雰囲気下での少量サンプル処理用 20mm石英管・真空フランジ付き1000℃ミニ管状炉
20mm石英管と真空フランジを備えたこの1000℃ミニ管状炉で、研究室の実験を加速させましょう。少量サンプルの処理やCVDアプリケーションに最適化されており、精密なPID制御と、垂直または水平設置が可能な柔軟な構成により、多目的な用途に対応します。
統合真空システムおよび精密温度校正器付きコンパクト分割管状炉
統合真空システムと精密温度校正器を備えた、この高性能コンパクト分割管状炉で材料研究を強化しましょう。要求の厳しい実験室用途や高度な産業用熱処理プロセスにおいて、最大1200°Cまでの優れた熱均一性と高精度な温度制御を実現します。
材料研究およびCVDプロセス用高温デュアルゾーン真空管状炉
この高精度デュアルゾーン真空管状炉で、研究室の能力を強化しましょう。高度な材料研究やCVDプロセス向けに設計されており、独立した温度制御、急速昇温、堅牢な真空シールを備え、工業グレードの一貫した熱処理結果を提供します。
1700℃ 高温縦型雰囲気制御炉 自動ボトムローディング式 13リットル真空熱処理システム
自動ボトムローディング、高精度Eurothermコントローラー、高真空機能を備えた1700℃縦型雰囲気炉で、高度な材料研究や要求の厳しい産業用R&Dにおいて、常に優れた熱処理結果を実現します。
挿入型温度校正器および真空システム一体型コンパクト分割式管状炉
この高性能なコンパクト分割式管状炉は、真空システムと精密温度校正器を一体化しています。1200°Cまでの材料研究用に設計されており、優れた熱均一性、高度なPID制御、および要求の厳しい産業・研究用加熱用途に対応する堅牢な性能を提供します。
急速熱焼入れおよび制御雰囲気下での材料処理用 ステンレス製真空フランジ付きコンパクト縦型分割式石英管炉
高精度研究用に設計されたこのコンパクトな縦型分割式石英管炉は、最大1100°Cまでの急速加熱を実現します。ステンレス製真空フランジと30セグメントのプログラム制御を備えており、材料科学や工業的な焼入れ用途に不可欠なツールです。信頼性の高い性能を提供します。