製品概要
この真空炭素管焼結炉は、真空または保護雰囲気下で幅広い材料を処理するために設計された特殊な高温システムです。最高2300°Cまでの卓越した熱均一性と精密な温度制御を実現し、材料科学研究および小規模な工業生産に不可欠なツールとなっています。堅牢な黒鉛加熱要素と高度な制御システムにより、最も過酷な環境下でも信頼性の高い再現性のある結果が保証されます。
主な用途には、無酸素環境を必要とする先進セラミックス（SiC、ZrO2、Al2O3）、超硬合金、複合材料の焼結が含まれます。また、希土類の精製やサファイアのアニールプロセスにも適しており、学術研究室やR&D施設をサポートします。キャスター（移動車輪）付きのコンパクトで統合されたデザインは、迅速な設置と再配置を容易にし、内蔵式水冷チラーにより外部配管の必要がなくなります。
信頼性を追求して設計された本装置は、あらゆる運用条件で一貫した性能を発揮するよう厳格なテストを受けています。急速な熱サイクルから長時間の保持時間に至るまで、炉は卓越した温度安定性と真空気密性を維持し、精密なプロセス制御とダウンタイムの最小化を実現します。
主な特徴
- 統合コンパクトデザイン: 炉はロック可能なキャスターを備えたユニット構造を採用しており、複雑な現場準備なしに容易な移動と迅速な設置が可能です。設置面積は小さく、貴重なラボスペースを節約しながら完全な機能性を維持します。
- 柔軟なドア構成: 上開き、横開き、昇降式などのデザインが用意されており、様々な搬入要件やワークフローの好みに対応でき、異なるサンプルサイズやハンドリング方法における操作性を向上させます。
- 高度なタッチスクリーン＆PLC制御: PLC自動化を搭載した直感的なタッチスクリーンインターフェースにより、温度、真空、ガス流量を精密に管理できます。システムは多ステッププロセスプログラミングをサポートし、リアルタイムモニタリングと異常時のアラート機能を備えています。
- レシピの保存と呼び出し: 数十の焼結プロファイルをコントローラーに直接保存できます。ユーザーは複雑なレシピの作成、編集、保存、および即時の呼び出しが可能で、セットアップ時間を短縮し、繰り返し生産時のオペレーターミスを最小限に抑えます。
- 包括的なデータロギング: 温度や真空レベルなどの重要なプロセスパラメータを継続的に記録します。データはオンデマンドで開始/停止でき、履歴を照会して、分析や品質コンプライアンス文書用にエクスポート可能です。
- 高温能力: 黒鉛加熱要素により最高2300°Cの温度に到達し、作業ゾーン全体で優れた熱安定性と均一性を実現し、極限の熱を必要とする難焼結材料の焼結を可能にします。
- 内蔵式水冷チラー: 内蔵されたクローズドループ冷却システムにより外部配管が不要になり、設置を簡素化し、長時間の高温運転中に炉コンポーネントの確実な冷却を保証します。
- 構成可能な真空レベル: 粗真空（5 Pa）用の機械式ポンプシステム、または高真空（5×10⁻³ Pa）用の拡散ポンプまたは分子ポンプを組み合わせたハイブリッドシステムから選択でき、基本的な焼結から高度な材料精製まで、多様なプロセス要件に対応します。
- オフラインプロセスシミュレーション: コントローラーは焼結プロファイルのオフラインシミュレーションが可能で、オペレーターは実際のサイクルを実行する前にレシピのロジックとタイミングを検証でき、貴重なサンプルを保護し試行錯誤の回数を削減します。
- 安全インターロックと診断: 過熱保護、冷却水流量監視、ドアインターロックを含む包括的な安全機能を備えており、オペレーターの安全を確保し、偶発的な故障時の設備損傷を防ぎます。
用途
| 用途 | 説明 | 主なメリット |
|---|---|---|
| 先進セラミックス焼結 | シール、切削工具、構造部品用の炭化ケイ素、ジルコニア、アルミナ、その他のファインセラミックスの焼結。 | 精密な温度制御と真空環境により、高密度と微細な結晶粒組織を実現します。 |
| 超硬合金焼結 | 耐摩耗部品や切削工具に使用される超硬合金の処理。 | 均一な加熱と低酸素雰囲気により、一貫した硬度と強度が得られます。 |
| 希土類精製 | 電子部品や光学部品用の希土類元素およびその酸化物の精製。 | 高温真空処理により、酸化することなく不純物を除去します。 |
| サファイアアニール | 光学および電子応用向けの合成サファイアの熱処理。 | 精密な温度プロファイルにより、歪みを緩和し光学透明度を向上させます。 |
| バイオ炭素化 | 下水汚泥や農業廃棄物などのバイオマスをバイオ炭に変換。 | 無酸素加熱により燃焼を防ぎ、炭素の収率と多孔性を最大化します。 |
| マグネシウム複合材料焼結 | 生体医用インプラント用のハイドロキシアパタイトを含むマグネシウム基複合材料の焼結。 | 超低酸素環境によりマグネシウムの酸化を防ぎ、複合材料の完全性を維持します。 |
| 酸化ベリリウム複合材料焼結 | 電子セラミック基板用のBeOとTiO₂の同時焼結。 | 真空環境により気孔を排除し、汚染なしで相拡散を可能にします。 |
| 透明セラミックス焼結 | レーザーや装甲用途向けのYAGやスピネルなどの透明セラミックスの調製。 | 均一な温度と低減された炭素汚染により、光学透明度が保証されます。 |
技術仕様
モデルバリエーション
| モデル | 最高温度 (°C) | 電力 (kW) | 到達真空度 (Pa) | 有効寸法 (mm) | 備考 |
|---|---|---|---|---|---|
| TU-SJF-5-20 | 2000 | 8 | 5.0 | Ø40×60 | – |
| TU-SJF-15-20 | 2000 | 15 | 6.7×10⁻³ | Ø80×80 | 真空および温度のアップグレード可能 |
| TU-SJF-18-22 | 2200 | 18 | 6.7×10⁻³ | Ø80×80 | 真空および温度のアップグレード可能 |
| TU-SJF-25-20 | 2000 | 25 | 6.7×10⁻³ | Ø120×120 | 真空および温度のアップグレード可能 |
| TU-SJF-30-23 | 2300 | 30 | 6.7×10⁻³ | Ø120×120 | 真空および温度のアップグレード可能 |
| TU-SJF-40-20 | 2000 | 40 | 6.7×10⁻³ | Ø160×160 | 真空および温度のアップグレード可能 |
| TU-SJF-50-20 | 2000 | 50 | 6.7×10⁻³ | Ø200×200 | 真空および温度のアップグレード可能 |
| TU-SJF-65-20 | 2000 | 65 | 6.7×10⁻³ | Ø250×300 | 真空および温度のアップグレード可能 |
非標準の温度範囲や有効寸法を持つカスタムモデルは、ご要望に応じて製作可能です。
システム構成オプション
| パラメータ | オプション / 範囲 |
|---|---|
| 真空システム | 機械式ポンプ (5 Pa); 機械式 + 拡散ポンプ (5×10⁻³ Pa); 機械式 + 分子ポンプ (5×10⁻³ Pa) |
| 加熱電力 | 8 – 150 kW |
| 有効寸法 | Ø40×60 mm から Ø250×300 mm、カスタムサイズも対応可能 |
| 温度範囲 | 標準 1000 – 2300°C、モデルに基づいて選択可能 |
| 制御システム | レシピ保存機能付きタッチスクリーン + PLC; オプションでデータエクスポート機能付きPC制御 |
| 冷却 | 内蔵式水冷チラー（クローズドループ） |
| ドア構成 | 上開き、横開き、または昇降式（モデルごとの利用状況についてはご相談ください） |
この製品を選ぶ理由
- 実証済みの高温信頼性: 黒鉛加熱要素と高度な熱設計により、最高2300°Cでの一貫した動作を実現し、重要な焼結プロセスにおける再現性のある結果を保証します。実績のあるコンポーネントはダウンタイムとメンテナンスコストを最小限に抑え、厳格な工場出荷テストによって裏付けられています。
- カスタマイズされた構成: 幅広い真空レベル、定格電力、有効寸法により、特定のプロセス要件に合わせてシステムをカスタマイズできます。ベンチトップR&Dモデルから大規模な生産ユニットまで、性能を妥協することなく、必要な正確な構成を提供します。
- 卓越した品質: 高級材料と真空気密溶接技術を使用して構築されており、この炉は極限条件下でも完全性を維持します。内蔵診断機能と安全インターロックはオペレーターとサンプルの両方を保護し、設備の寿命を延ばします。
- 高度な自動化とデータ完全性: PLCベースの制御システムは複雑なレシピ処理と包括的なデータロギングを可能にし、業界標準への準拠を簡素化し、プロセス最適化を促進します。直感的なレシピ管理とリアルタイムトレンドモニタリングにより、人的ミスを削減します。
- 迅速な技術サポート: 経験豊富なエンジニアチームによってサポートされており、設置、トレーニング、および継続的なサポートに対して迅速な対応を提供します。特殊な用途にはカスタムエンジニアリングソリューションも提供可能であり、焼結プロセスが最高効率を達成できるようにします。
競争力のあるお見積もりやカスタム構成についてご相談される場合は、本日までに技術営業チームまでお問い合わせください。
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい！
関連製品
CVDおよび材料焼結用3ゾーン高温真空管状炉
この高性能3ゾーン管状炉は、各ゾーンを独立して制御することで精密な温度勾配を実現します。CVDや真空アニール用に設計されており、優れた温度均一性、高度なPIDプログラミング、産業用R&D向けの堅牢な真空シールを提供します。
粉末球状化・材料焼結用 高温1700℃縦型チューブ炉
本1700℃縦型チューブ炉システムは、電池電極や3Dプリンティング向け粉末球状化処理を最適化します。自動フィーダーと双区域制御を搭載し、真空または制御雰囲気下での高純度加工を実現し、産業用材料研究の高度なニーズに応えます。
500C 真空式縦型チューブ炉 84mm OD 試料回転・昇降システム
この高性能真空式縦型チューブ炉は、高温性能と84mm ODムライトチューブを備え、試料回転および手動昇降システムにより、先端材料研究や産業用熱処理プロセスにおいて均一な焼結を実現します。卓越したエンジニアリングが信頼性を提供します。
DCS DC急速真空ホットプレス焼結炉
DCS DC急速真空ホットプレス焼結炉は、1000°C/minの昇温速度、最高温度2400°C、および精密な圧力制御を実現します。ナノ材料、傾斜機能材料、および希土類磁石の急速な高密度化に最適です。
材料焼結用50mmアルミナ管および真空フランジ付きコンパクト高温1600℃管状炉
50mmアルミナ管と真空フランジを備えた、このコンパクトな高温1600℃管状炉で研究室の能力を強化しましょう。材料焼結や化学研究に最適で、産業用R&D用途向けに精密な熱処理と卓越した信頼性を提供します。
5トン真空拡散接合焼結炉
プログラマブルPLCを搭載した先進的な5トン真空拡散接合焼結炉で、最高1400°C、真空度6.67×10⁻⁴ Pa、高精度サーボ圧力制御を実現し、セラミックス、金属、ナノ材料の研究開発に対応。再現性の高い高密度焼結が求められる大学や産業研究機関で信頼されています。
先端材料の熱処理・焼結向け高圧600T真空誘導ホットプレス炉
この業務用600T真空誘導ホットプレス炉は、先進セラミックスや複合材料の焼結において、正確な温度・圧力制御を提供します。研究開発から工業生産まで、完全な熱処理信頼性のもと、理論密度に近い緻密化と微細結晶粒組織を実現します。
先進セラミック焼結用 双方向加圧式真空誘導加熱プレス炉
高精度な双方向加圧、高速誘導加熱、先進的なPLC制御を備えた高性能真空誘導加熱プレス炉で、高密度な先進セラミックスや複合材料の焼結を実現し、先進材料開発を最適化します。
材料焼結および研究用アニール向け 8インチIDチャンバー搭載 1000℃高温真空炉
8インチIDチャンバーを備えたこの1000℃真空炉で、精密な焼結やろう付けなど、優れた熱処理を実現します。このデュアルゾーンシステムは、超高真空レベルとEurotherm PID制御を提供し、要求の厳しい産業用R&D材料科学アプリケーションに対応します。
5トン真空ホットプレス焼結炉
先進材料の高密度化に対応した高性能5トン真空ホットプレス焼結炉です。サーボ電動式圧力制御と超高真空環境により最大2300°Cの処理を実現し、研究開発から小規模生産まで最適です。セラミックスや金属の研究開発に向けて精密に設計されています。
貴金属溶解および材料研究用 高真空対応1100℃コンパクトトップローディング式縦型真空管状炉
この1100℃コンパクトトップローディング式縦型真空管状炉は、貴金属の溶解や材料研究に高真空環境を提供します。精密なPID制御と高耐久ヒーターを備え、要求の厳しい研究開発や産業用熱処理アプリケーションにおいて、信頼性の高い安定した性能を発揮します。
先端材料研究向け：自動ボトムローディング機能・1700°C対応・雰囲気制御縦型高温炉
自動電動ボトムローディングおよび真空機能を備えた、1700°C対応の高度な縦型雰囲気炉です。精密な焼結やアニール処理のために設計されており、水冷チャンバーやEurotherm製PID制御を搭載した、要求の厳しい産業研究開発向けの高性能システムです。
熱処理および焼結用石英チャンバー搭載 1100C 高温真空るつぼ炉
この1100C真空るつぼ炉は、精密な熱処理のための石英チャンバーを備えています。真空または不活性雰囲気下での焼結および熱処理用に設計されており、材料科学研究、産業エンジニアリング、およびプロフェッショナルな研究開発ラボの品質要件に応える一貫した結果を提供します。
先端材料焼結・アニール用高温コールドウォール真空炉 1600℃ 加熱エリア 200x200x300mm
この高温コールドウォール真空炉は、クリーンな金属加熱ゾーン内で1600℃の熱処理を実現します。一体型水冷チラーと高精度Eurothermコントローラーを搭載し、先端冶金や材料科学研究に不可欠な汚染のない環境を保証します。
1000℃ 制御雰囲気実験室材料焼結用 コンパクトハイブリッドマッフル・チューブ炉
この多機能コンパクトハイブリッド炉は、マッフル炉とチューブ炉の機能を組み合わせ、精密な1000℃熱処理を実現します。省エネ設計と小型フットプリントにより、グローブボックスへの組み込み、真空焼結、高性能な産業および実験室用制御雰囲気材料研究アプリケーションに最適です。
材料研究およびCVDプロセス用高温デュアルゾーン真空管状炉
この高精度デュアルゾーン真空管状炉で、研究室の能力を強化しましょう。高度な材料研究やCVDプロセス向けに設計されており、独立した温度制御、急速昇温、堅牢な真空シールを備え、工業グレードの一貫した熱処理結果を提供します。
統合真空システムおよび精密温度校正器付きコンパクト分割管状炉
統合真空システムと精密温度校正器を備えた、この高性能コンパクト分割管状炉で材料研究を強化しましょう。要求の厳しい実験室用途や高度な産業用熱処理プロセスにおいて、最大1200°Cまでの優れた熱均一性と高精度な温度制御を実現します。
一体型ターボポンプシステムと8インチ加熱ゾーンを備えた1200℃高真空コンパクトチューブ炉
この1200℃高真空コンパクトチューブ炉は、10^-5 torrを実現する一体型ターボポンプシステムを搭載しています。材料科学の研究開発に最適で、精密なPID制御、8インチの加熱ゾーン、そして処理用の堅牢な石英管構造を備えています。
急速熱焼入れおよび制御雰囲気下での材料処理用 ステンレス製真空フランジ付きコンパクト縦型分割式石英管炉
高精度研究用に設計されたこのコンパクトな縦型分割式石英管炉は、最大1100°Cまでの急速加熱を実現します。ステンレス製真空フランジと30セグメントのプログラム制御を備えており、材料科学や工業的な焼入れ用途に不可欠なツールです。信頼性の高い性能を提供します。
急速熱処理用1200℃石英管・ステンレス鋼真空フランジ付き分割型垂直管状炉
この1200°C対応分割型垂直管状炉は、5インチ石英管と精密PID制御を備え、急速焼入れ、真空処理、高度な材料合成を実現し、要求の高い産業研究環境における研究効率を最大化します。