製品概要


この高温管状炉は、過酷なラボ環境や産業用R&D環境向けに特別に設計された、熱処理技術の最高峰です。最高使用温度1800℃と高純度雰囲気制御システムを統合し、材料合成、焼結、アニールに優れたプラットフォームを提供します。迅速な熱応答性、驚異的な温度均一性、堅牢な真空密閉環境を兼ね備えており、繊細な材料を最も厳格な条件下で一貫して処理できることが最大の強みです。
主に材料科学研究者や産業エンジニア向けに設計されており、化学気相成長(CVD)、雰囲気制御焼結、真空アニールなどの用途で卓越した性能を発揮します。熱勾配とガス環境の精密な制御が不可欠な航空宇宙、半導体、先端セラミックス産業で広く利用されています。二重構造のスチール製ハウジングと統合された空冷システムにより、内部チャンバーが極高温に達しても外装は安全に触れられる温度に保たれ、ラボの安全性と運用効率を維持します。
高品質なコンポーネントを採用しているため、高い信頼性を誇ります。日本から輸入した高性能発熱体と多結晶アルミナ繊維断熱材を使用しており、過酷な連続高温サイクルに耐えうる設計です。高度な安全インターロックと日本製のPID制御電子機器を搭載し、あらゆる実験や生産バッチを過昇温から保護することで、重要な研究開発に安定した再現性の高い熱環境を提供します。
主な特徴
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高度な1900グレードMoSi2発熱体:1900℃対応の高品質な二ケイ化モリブデン発熱体を採用しており、1750℃の連続運転を余裕を持って維持できます。優れた耐酸化性と、加熱長全体にわたる高度に均一な温度場を提供するために選定されています。
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精密な島電製デジタル制御:日本から輸入した島電製コントローラー「FP93」を搭載し、複数の独立したプログラムに分割可能な40セグメントのプログラム機能を備えています。複雑な昇温、保持、冷却サイクルが可能であり、6つの異なるPIDパラメータグループにより、低・中・高温域全体でピンポイントの精度を保証します。
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高純度アルミナ繊維断熱材:内部チャンバーは98%多結晶アルミナ繊維で構成されています。日本から輸入したこの高反射材料は、優れた保温性と耐熱衝撃性を備えており、急速な加熱・冷却サイクル中のひび割れや劣化を防ぎます。
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真空密閉雰囲気制御:セラミックチューブの両端に、二重リングシリコンシールを備えたステンレス製真空フランジを採用しています。これにより、最大10⁻⁴ torrの真空レベル(適切なポンプ使用時)や、統合された流量計で制御される不活性ガス、還元ガス、特殊ガス雰囲気での処理が可能です。
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二重壁空冷ハウジング:安全性と性能を考慮し、内壁と外壁の間にアクティブ空冷システムを備えた二重構造を採用しています。この設計により、処理後の冷却速度を速め、外装表面温度を低く保つことで作業者の安全を守ります。
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包括的な安全インターロックシステム:作業者の安全を確保するため、カバーにオーバートラベルリミットスイッチを統合しています。動作中にチャンバーを開けると自動的に電源が遮断されます。さらに、漏電保護や、熱電対故障・過電流発生時の自動シャットダウンプロトコルも含まれています。
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デジタルデータロギングと接続性:RS485通信インターフェースと専用ソフトウェアにより、PCからすべてのパラメータを監視・制御できます。リアルタイムの加熱曲線を記録し、正確なデータ追跡や、監査証跡のための過去のプロセスパラメータの保存・呼び出しが可能です。
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耐久性に優れた輸入セラミックプロセスチューブ:極端な熱負荷や化学的暴露下でも構造的完全性を維持できるよう厳選された、高品質な輸入セラミックチューブを装備しており、高スループット環境でも長寿命を保証します。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| CVD / PECVD研究 | 気相堆積法を用いたカーボンナノチューブ、グラフェン、2D材料の合成。 | 均一な膜成長のための精密なガス流量と温度安定性。 |
| テクニカルセラミックス焼結 | 高純度アルミナ、ジルコニア、炭化ケイ素部品の極高温焼結。 | 1800℃対応により先端セラミックスの完全緻密化が可能。 |
| 真空アニール | 金属合金や半導体ウェハーの酸化を防ぐための真空熱処理。 | 高真空シール性能により繊細な基板の汚染を防止。 |
| 雰囲気還元 | 水素やフォーミングガスなどのカスタマイズされた還元雰囲気での材料処理。 | 信頼性の高い気密フランジと流量制御により安全な雰囲気操作を実現。 |
| 電池材料分析 | 次世代電池用正極・負極材料の焼成および熱試験。 | 厳格なR&Dドキュメントのためのサイクル再現性とデータロギング。 |
| 粉末冶金 | 金属粉末の高温固化による固体部品の製造。 | 優れた温度均一性により一貫した機械的特性を確保。 |
| 触媒合成 | 制御されたガス環境下での触媒材料の熱活性化および試験。 | マルチセグメントPID制御により複雑な多段階反応プロファイルに対応。 |
技術仕様
| 仕様 | TU-GS17-I | TU-GS17-II |
|---|---|---|
| チューブ径 | 60 mm | 80 mm |
| チューブ長 | 1000 mm | 1000 mm |
| 加熱長 | 300 mm | 300 mm |
| 最高温度 | 1800°C | 1800°C |
| 常用温度 | 1750°C | 1750°C |
| 昇温速度 | ≤ 30°C/分 | ≤ 30°C/分 |
| 推奨昇温速度 | ≤ 15°C/分 | ≤ 15°C/分 |
| 温度精度 | +/- 1°C | +/- 1°C |
| 発熱体 | 1900 MoSi2 | 1900 MoSi2 |
| 熱電対 | Bタイプ | Bタイプ |
| 定格電力 | 5.5 KW | 5.5 KW |
| 入力電圧 | 220V | 220V |
| 相 | 単相 | 単相 |
| チャンバー材質 | 98% 多結晶アルミナ繊維 | 98% 多結晶アルミナ繊維 |
| 温度コントローラー | 島電 FP93 (40セグメント/4プログラム) | 島電 FP93 (40セグメント/4プログラム) |
| 制御電子機器 | ドイツSemikron社製サイリスタ / Chint Power | ドイツSemikron社製サイリスタ / Chint Power |
| 真空性能 | 10⁻¹ ~ 10⁻⁴ Torr (ポンプの種類による) | 10⁻¹ ~ 10⁻⁴ Torr (ポンプの種類による) |
| インターフェース | RS485 | RS485 |
当社の管状炉が選ばれる理由
- プレミアムエンジニアリングコンポーネント:標準的なラボ機器とは異なり、島電製コントローラーやSemikron製サイリスタなど、日本やドイツから輸入したハイエンドコンポーネントを使用しており、長期的な産業信頼性を保証します。
- 優れた熱効率:98%多結晶アルミナ断熱材と二重壁冷却システムにより、エネルギー効率を最大化しつつ、熱疲労から内部コンポーネントを保護し、機器の寿命を延ばします。
- 比類なき精度:±1°Cの精度と高度なPIDアルゴリズムにより、査読付き研究や産業品質管理に不可欠な、再現性の高い結果を得ることができます。
- 多用途な統合設計:極高温性能(1800°C)と完全な雰囲気・真空サポートの組み合わせにより、ほぼすべての高温熱処理プロセスに対応できる多目的ツールとなっています。
- 堅牢な安全性とサポート:すべてのユニットは多層のハードウェアおよびソフトウェア保護を備えており、厳格な安全基準への準拠を保証し、夜間の無人運転でも安心を提供します。
カスタム構成オプションや、お客様の特定の用途要件に対する正式なお見積りについては、当社の技術営業チームまで今すぐお問い合わせください。
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