粉末処理向け自動給排気システム搭載 2ゾーン回転式CVD炉

製品概要

本高度熱処理システムは、粉末材料の高精度化学気相成長（CVD）および焼成向けに設計されています。デュアルゾーン加熱構造と高度な回転機構を組み合わせることで、極めて優れた熱均一性と定常的な材料撹拌を実現しています。この相乗効果は、分子レベルでの均一性が電気化学性能に不可欠な高性能電池材料や無機化合物を開発する研究者・メーカーにとって非常に重要です。本システムはバッチ処理から連続処理への移行を効率化し、手動介入を大幅に削減するとともに、汚染のリスクを低減します。

連続運転向けに設計された本システムは、堅牢な自動給排機構を搭載しており、大気に曝すことなくシームレスな材料処理を実現します。これにより、シリコンカーボン複合材や各種金属酸化物といった、反応性の高いリチウムイオン電池正極・負極材料の合成に最適なソリューションとなっています。回転しながら制御された雰囲気を維持できる性能により、すべての粒子が均一な熱・化学条件に曝され、優れた結晶成長と表面コーティング品質を実現します。本炉は、実験室・パイロットスケールでの材料合成における処理量を大幅に向上させます。

産業グレードの部品で製造された本装置は、集中的なR&Dや厳しい産業サイクルに必要な信頼性を提供します。真空密封回転アセンブリ、高精度PID制御装置、二重殻筐体の組み合わせにより、複雑な熱処理レシピに対して安定かつ安全な環境を提供します。学術的な材料科学研究から産業用化学処理まで、本システムは最先端技術開発に必要な再現性と性能を提供し、実験結果を生産量へ確実にスケールアップすることができます。

主な特長

• 連続自動粉末処理：一体型のコンパクトフィーダーは真空密封回転アセンブリを介して搭載されており、雰囲気の完全性を維持しながら、チューブ内の材料分布を精密に制御できます。
• デュアルゾーンによる高精度温度制御：2つの独立制御加熱ゾーン（各200mm）により柔軟な温度プロファイルを実現し、特定の温度勾配の作成や、400mmの延長された定温ゾーンを設定することが可能です。
• 動的回転機構：ギア駆動DCモーターが処理チューブを最大10RPMの速度で回転させ、内部の混合ブレードにより、バッチ内のすべての粒子に対して均一な熱とガスへの暴露を確保します。
• 調整可能な傾斜構成：炉本体全体を-5°から20°の範囲で傾斜させることができ、連続処理中の材料の搬送時間と流動特性を制御するための機械的柔軟性を提供します。
• 高品質真空シーリング：60mmステンレス製シーリングフランジと回転可能なガス接続部を標準装備し、4.5x10-2 Torrの真空度を達成します。高純度CVDプロセスに必須の性能です。
• 無空気回収システム：1リットルのステンレス製回収タンクにKF40バタフライバルブを搭載しており、反応性の高い材料を酸素や湿気に曝すことなく、焼成後の粉末を回収・搬送することができます。
• 高度な断熱・冷却システム：高純度アルミナ繊維断熱材と3連冷却ファンを備えた二重殻筐体を採用し、エネルギー効率を最大化すると同時に、外部表面を安全な接触温度に維持します。
• 高速熱応答：分割カバー設計により、石英チューブの積み下ろしが容易になるだけでなく、高処理量試験サイクルに対応するためのより高速な冷却を可能にしています。

用途

技術仕様

当社を選ぶ理由

• 高精度向けに設計：当社のデュアルゾーン構造とPID制御システムは他に類を見ない熱精度を提供し、繊細なCVDプロセスを毎回確実に再現することを保証します。
• 優れた材料完全性：一体型の無空気回収システムは次世代電池材料向けに特別に設計されており、処理から分析までの間に反応性の高い粉末の劣化を防止します。
• 堅牢な産業向け構造：ギア駆動回転モーターから高純度アルミナ断熱材まで、すべての部品は高サイクルな実験室環境での長期耐久性を考慮して選定されています。
• 柔軟なプロセス制御：調整可能な傾斜、可変回転速度、高精度な供給速度により、標準的なチューブ炉よりも多くの制御変数を提供し、より深いプロセス最適化を可能にします。
• 安全性と認証：本システムはCE認証を取得しており、厳格な安全規格に準拠して製造されているため、研究機関・産業施設でも安心してご利用いただけます。

カスタム仕様や、お客様固有の粉末処理要件についてのご相談は、詳細な見積もりのため、弊社テクニカルセールスチームまでお問い合わせください。