製品概要


この高性能熱処理システムは、急速焼結技術の最先端を行く装置であり、極限の温度能力と超高速熱サイクルを必要とする研究室や産業施設向けに特別に設計されています。最高動作温度2900°Cと高度なプレス機構を統合することで、材料研究のための堅牢なプラットフォームを提供します。本装置は、小規模サンプル向けの従来の放電プラズマ焼結(SPS)システムの高効率かつ費用対効果の高い代替手段として機能し、大規模な産業設備を導入することなく迅速な実験を可能にします。
本装置の主な用途は、テクニカルセラミックス、耐火合金、複合材料の開発など、先進材料科学の分野です。このシステムは、目標とする微細構造や材料特性を得るために加熱速度と機械的圧力の精密な制御が不可欠な、要求の厳しい研究開発環境で威力を発揮するように設計されています。高真空環境により、最も反応性の高い材料であっても酸化や汚染なしに処理できるため、航空宇宙、半導体、エネルギー分野の研究に不可欠な装置となっています。
信頼性は、このシステムの設計の中核です。水冷ジャケットを内蔵した二重層ステンレス鋼真空チャンバーを備えており、極端な温度下での持続的な運転中も構造的完全性とユーザーの安全性を維持します。ドイツ製の高精度赤外線パイロメーターとプログラム可能なPIDコントローラーを搭載しており、すべてのサイクルで再現性と一貫性が保証されます。本装置は急速熱処理の過酷な条件に耐えるように構築されており、研究者が予測可能で高品質な結果を得ることで、材料物理学の限界を押し広げる自信を提供します。
主な特長
- 超高速熱サイクル: 最大180°C/秒の加熱速度を達成可能であり、結晶粒の成長を最小限に抑え、従来の低速炉では失われがちな独自の材料特性を保持するフラッシュ焼結プロセスを実現します。
- 極限の温度範囲: 最高温度2900°Cに達するように設計されており、タングステン、モリブデン、先進的な炭化物セラミックスなど、高融点材料の処理に対応します。
- 統合型材料プレス: ベローズシールされたスクリュープレスロッドが10〜100kgfの力をサンプルに直接加え、真空下で粉末を高密度コンポーネントへ固化させることを容易にします。
- 高真空の完全性: ステンレス鋼(SS304)チャンバーは、1e-6 torrを超える究極の真空レベルに達するように構築されており、高純度材料の処理やグラファイト/タングステンヒーターの劣化防止に不可欠です。
- 精密な非接触モニタリング: 高度なドイツ製デジタル赤外線パイロメーターが専用の観察窓を通じてリアルタイムの温度フィードバックを提供し、3000°Cまでの温度で±0.5%以内の精度を保証します。
- 多彩な加熱構成: Ø 50 mmまでのサンプルに対応する標準的なグラファイトシートヒーターが付属しており、特定の材料要件に合わせてオプションのタングステン加熱エレメントや特殊なるつぼヒーターも利用可能です。
- 堅牢なチャンバー設計: 水冷ジャケット付き真空チャンバーにより、2900°Cの運転時でも外装は安全に触れる温度に保たれ、内部コンポーネントを強烈な熱放射から保護します。
- プログラム可能なPID制御: 自動加熱モードは30のプログラム可能なセグメントを備えており、複雑な熱プロファイルや±3°Cの精度での精密な昇温/保持サイクルが可能です。
- 安全性を重視した冷却: 高容量の循環式チラーと併用するように設計されており、高出力サイクル中の熱ストレスから銅製の電気フィードスルーや真空シールを保護します。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| フラッシュ焼結 | 超高速加熱速度を用いたセラミック粉末の急速固化により、結晶粒の粗大化を防止。 | 優れた微細構造制御と密度。 |
| 耐火冶金 | 2500°Cを超える温度でのタングステン、タンタル、レニウム合金の処理。 | 高純度航空宇宙部品の製造が可能。 |
| テクニカルセラミックス | 制御された圧力下での炭化ケイ素(SiC)および炭化ホウ素(B4C)の合成。 | 機械的硬度と耐熱衝撃性の向上。 |
| 半導体研究開発 | 高出力電子材料のための急速熱アニールおよびドーパント活性化。 | 電気特性を最適化するための精密な熱プロファイル。 |
| 複合材料の固化 | 炭素-炭素(C/C)複合材料および金属基複合材料(MMCs)の製造。 | 急速プレスサイクルによる界面結合の改善。 |
| 材料合成 | 新しい超伝導材料や熱電材料の発見のための高温反応。 | 急速加熱・冷却により研究開発サイクルを加速。 |
技術仕様
電気および電源システム
| パラメータ | TU-RT19の仕様 |
|---|---|
| 入力電圧 | 480または400 VAC、50/60Hz、3相 |
| 総消費電力 | 30 KW |
| 出力電圧 | < 30 VDC |
| 出力電流 | < 1700 A |
熱性能
| 機能 | 仕様詳細 |
|---|---|
| 最高温度 | 2900 °C |
| 加熱速度 | < 180 °C/ s |
| 温度測定 | デジタル赤外線パイロメーター(ドイツ製) |
| パイロメーター範囲 | 1000 °C - 3000 °C |
| 精度 | ± (0.5% F.S. + 2 °C) |
| 再現性 | ± 0.3% F.S. |
| PID制御 | 30プログラムセグメント、± 3 °C精度 |
動作デューティサイクル(熱安定性)
| 温度 (°C) | 最大保持時間(分) |
|---|---|
| 2900 | < 1 |
| 2800 | < 5 |
| 2700 | < 10 |
| 2600 | < 20 |
| 2500 | < 30 |
| 2400 | < 40 |
| 2300 | < 60 |
| 2000 | < 120 |
| < 2000 | 連続運転 |
機械およびプレス仕様
| コンポーネント | TU-RT19の仕様 |
|---|---|
| プレス力 | 10 - 100 kgf |
| 駆動方式 | ベローズシール付きスクリューロッド(手動標準、電動オプション) |
| 圧力精度 | ± 1 kg(電動PID補正オプション使用時) |
| サンプルサイズ(標準) | Ø 50 × 1 mm(グラファイトシートヒーター) |
| サンプルサイズ(ダイ/るつぼ) | Ø 33 × 5 mm(オプションのグラファイトダイヒーター) |
| 緩衝プレート | セラミックプレス緩衝プレート付属 |
チャンバーおよび真空環境
| 機能 | 仕様詳細 |
|---|---|
| チャンバー材質 | 水冷ジャケット付きSS304ステンレス鋼 |
| チャンバー寸法 | Ø 345 × Ø 315 × L 380 mm |
| 断熱材 | 高純度グラファイトフェルトセット |
| 観察窓 | Ø 138 mm石英(前面)/ Ø 35 mm(パイロメーター用) |
| 究極真空レベル | > 1e-6 torr |
| 真空ポート | KF 40真空ポート; 1/4"ガス入出力 |
| 真空計 | デジタル真空計付属 |
TU-RT19を選ぶ理由
- 比類なき速度と経済性: 本システムは、産業用放電プラズマ焼結装置の数分の一のコストで、フラッシュ焼結に必要な極限の加熱速度と圧力を提供し、材料研究開発への投資として理想的です。
- 優れた材料の完全性: 高真空(1e-6 torr)環境と水冷ステンレス鋼構造の組み合わせにより、熱プロセスを純粋に保ち、装置コンポーネントを劣化から保護します。
- 精密工学: 世界クラスのドイツ製赤外線パイロメーターと30セグメントPIDコントローラーを装備しており、科学論文や産業品質管理に求められる再現性を提供します。
- 柔軟な機能: グラファイトヒーターとタングステンヒーターの両方に対応し、手動または電動のプレスオプションも備えているため、軟質合金から超硬セラミックスまで、多様な材料を扱うようにカスタマイズ可能です。
- 実証済みの信頼性: すべてのユニットはCE認証を受けており、厳格な産業基準に基づいて構築されているため、2900°Cの限界までサイクルを繰り返しても長期的な運用の一貫性が保証されます。
弊社の技術チームが、お客様の特定の研究要件に最適な加熱およびプレスソリューションの構成をサポートいたします。詳細な技術相談や競争力のある見積もりについては、今すぐお問い合わせください。
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい!
関連製品
超高速熱圧炉 最高温度2900℃、毎秒200Kの加熱速度、真空雰囲気、迅速処理システム
この2900℃対応の超高速熱圧炉は、先進的な研究開発向けに毎秒200Kを超える加熱速度を実現します。高精度な真空制御と一体型の死荷重加圧を備えた本システムは、材料科学研究および高速熱処理用途に高性能なソリューションを提供します。
2500℃ 高真空超高速加熱ペレットプレス(8サンプル自動ローディングシステム搭載)
2500℃までの超高速加熱と8サンプル自動ローディングシステムを備えた、この高真空ペレットプレスで迅速な熱処理を実現します。先端材料研究に最適であり、高速ロボットによるサンプルハンドリングと自動化性能により、研究室での精密な焼結結果を保証します。
高温1700℃チューブ炉(高真空ターボ分子ポンプシステムおよびマルチチャンネルマスフローコントローラーガスミキサー搭載)
この先進的な高温1700℃チューブ炉は、精密ターボ分子高真空ポンプシステムとマルチチャンネルマスフローコントローラーガスミキサーを統合しており、要求の厳しい産業用R&D環境における高度なCVD、拡散、材料研究に卓越したパフォーマンスを提供します。
高速昇降温可能なスライドフランジ付き1500℃高温チューブ炉、外径50mm、ラピッドサーマルプロセシング用
高速昇降温を実現する手動スライドフランジ付き最大1500℃チューブ炉です。材料科学研究向けに設計されたこの高精度システムは、優れた真空性能とデュアルコントローラーによる監視機能を備え、要求の厳しい実験室用途に対応します。
材料合成用 2インチスーパーアロイ加工チューブ付き 1100℃高圧ロッキング管状炉
加圧下での高温合成を実現する、2インチスーパーアロイ加工チューブを備えた先進的な1100℃高圧ロッキング管状炉です。産業用研究開発向けに設計されており、精密な温度制御、自動ロッキング動作、そして複雑な材料加工用途に対応する高い安全性を備えています。
材料科学および産業用熱処理向け真空フランジ・プログラム温度コントローラー付き1100℃管状炉
プログラム可能なPIDコントローラーと高真空フランジを備えた、汎用性の高い1100℃管状炉で、研究室の熱処理プロセスを最適化します。精密な材料合成や産業用R&D向けに設計されており、デュアルオリエンテーション(水平・垂直)の柔軟性と、要求の厳しい用途にも対応する一貫した温度均一性を提供します。
超電導材料用 高真空圧力チャンバー炉 800°C 3.5バール焼結システム
この800°C対応真空・圧力チャンバー炉は、研究開発向けに3.5バールの環境を提供します。310Sステンレス鋼構造とマルチゾーン加熱を採用し、過酷な産業用途における超電導材料処理や高度な焼結プロセスに精密な性能を発揮します。
雰囲気制御マッフル炉 最高温度1700℃ 80L大容量 真空・不活性ガス対応ボックス炉
先端材料研究向けの高性能1700℃雰囲気制御マッフル炉(容量80L)。MoSi2発熱体と精密PID制御を搭載し、産業用R&Dやパイロット生産プロセスにおける不活性ガス、真空、酸素環境下での熱処理に対応します。
材料焼結および研究用アニール向け 8インチIDチャンバー搭載 1000℃高温真空炉
8インチIDチャンバーを備えたこの1000℃真空炉で、精密な焼結やろう付けなど、優れた熱処理を実現します。このデュアルゾーンシステムは、超高真空レベルとEurotherm PID制御を提供し、要求の厳しい産業用R&D材料科学アプリケーションに対応します。
5インチ加熱ゾーン、高純度アルミナチューブ、真空シーリングフランジ付き 1700℃ 高温卓上チューブ炉
この1700℃の高温チューブ炉は、先進材料研究向けに5インチの加熱ゾーンとアルミナチューブを備えています。焼結、焼なまし、化学気相成長のために、精密な雰囲気制御と50 mTorrまでの真空レベルを実現します。
粉末球状化・材料焼結用 高温1700℃縦型チューブ炉
本1700℃縦型チューブ炉システムは、電池電極や3Dプリンティング向け粉末球状化処理を最適化します。自動フィーダーと双区域制御を搭載し、真空または制御雰囲気下での高純度加工を実現し、産業用材料研究の高度なニーズに応えます。
真空対応・PID制御付き 高温ハイブリッドマッフル炉兼チューブ炉
この1200°C対応ハイブリッドマッフル炉兼チューブ炉は、精密な材料処理を実現する多用途な2-in-1ソリューションです。6x6x7インチのチャンバーと石英チューブのオプションを備え、真空または大気中での研究開発をサポート。高温実験用熱処理装置として卓越した信頼性を提供します。
熱処理および焼結用石英チャンバー搭載 1100C 高温真空るつぼ炉
この1100C真空るつぼ炉は、精密な熱処理のための石英チャンバーを備えています。真空または不活性雰囲気下での焼結および熱処理用に設計されており、材料科学研究、産業エンジニアリング、およびプロフェッショナルな研究開発ラボの品質要件に応える一貫した結果を提供します。
高温1700℃ 6ゾーン分割型チューブ炉(アルミナチューブ、⽔冷フランジ付き)
材料研究および産業用蒸着用途向けに設計された高精度1700℃六ゾーン分割型チューブ炉です。この多用途システムは、独立した温度ゾーン制御と真空対応フランジを備え、一貫した熱処理と高度な材料開発要件に対応し、最大限の性能を実現します。
1200°C 5インチ垂直型石英管状炉(ステンレス製真空フランジ付き)
5インチ径のチャンバーとステンレス製真空フランジを備えた高性能1200°C垂直型石英管状炉。30セグメントの精密PID制御により、材料科学の研究開発、CVD、および制御雰囲気下での特殊な焼入れ用途において正確な熱処理を実現します。
Kanthal Super 1800 発熱体と60mmアルミナ処理管を備えた1750°C高温卓上真空雰囲気管状炉
Kanthal Super-1800発熱体と高純度アルミナ管を備えた高性能1750°C真空管状炉。精密な材料研究に最適で、本システムは±1°Cの精度と30セグメントのプログラム制御を提供し、要求の厳しい実験室での熱処理および雰囲気制御下での焼結に対応します。
500C 真空式縦型チューブ炉 84mm OD 試料回転・昇降システム
この高性能真空式縦型チューブ炉は、高温性能と84mm ODムライトチューブを備え、試料回転および手動昇降システムにより、先端材料研究や産業用熱処理プロセスにおいて均一な焼結を実現します。卓越したエンジニアリングが信頼性を提供します。
80mmアルミナ管採用 垂直型1700℃真空・雰囲気制御チューブ炉
この高精度垂直型チューブ炉は、材料合成のために最高1700℃までの卓越した熱均一性を実現します。80mmのアルミナ管と高度な真空シールフランジを備え、要求の厳しい産業用R&Dや特殊な熱処理プロセスに安定した雰囲気を提供します。
材料研究およびCVDプロセス用高温デュアルゾーン真空管状炉
この高精度デュアルゾーン真空管状炉で、研究室の能力を強化しましょう。高度な材料研究やCVDプロセス向けに設計されており、独立した温度制御、急速昇温、堅牢な真空シールを備え、工業グレードの一貫した熱処理結果を提供します。
1800°C 高温コンパクト真空管状炉(60mm外径アルミナ管およびKanthal MoSi2発熱体搭載)
この1800°C高温コンパクト真空管状炉は、高品質なKanthal製発熱体と60mm外径のアルミナ管を備えています。材料研究や焼結用に設計されており、研究開発ラボ向けに真空または制御雰囲気下での精密な熱処理を提供します。