製品概要

この高性能な超高速熱圧システムは、高速熱処理技術の頂点を示すものであり、極端な加熱速度を必要とする高温研究環境向けに特化して設計されています。最大2900℃まで到達可能で、毎秒200℃を超える加熱速度を実現し、過熱状態下での材料特性の研究に特化したプラットフォームを提供します。高真空雰囲気制御と一体型の機械加圧機構を組み合わせることで、このシステムは研究者が極限的な産業環境を再現し、急速凝固や非平衡プロセス条件を必要とする新材料を合成することを可能にします。
本装置の主な用途は、高度な材料科学、冶金学、および半導体研究にわたります。多様な圧力・熱プロファイル下で複数の試料を迅速に試験できるため、高スループット材料探索に不可欠なツールとして機能します。熱圧ユニットとしての基本機能に加え、このシステムの柔軟な構成により、高速アニーリング炉として設定したり、Close-Spaced Sublimation(CSS)薄膜コーターへ改造したりすることも可能です。この適応性により、薄膜太陽電池、先端セラミックス、ハイエントロピー合金に取り組む学際的研究室において、中心的な資産であり続けます。
産業グレードの部品と堅牢な石英・鋼構造を採用し、本システムは要求の厳しい研究開発環境において長期的に安定した運用を行えるよう設計されています。高電流DC電源供給と、精密加工されたタングステンまたはグラファイト製加熱要素の統合により、激しい熱サイクル下でも再現性の高い性能を確保します。調達担当者や研究室管理者は、この装置の卓越した製造品質、安全基準への適合、ならびに現代材料開発の競争分野で信頼性が高く査読可能なデータを得るために必要な精度に依拠できます。
主な特長
- 極限加熱速度: このシステムは毎秒最大200℃の加熱速度を実現し、従来の実験室炉では到達不可能な準安定相や超高速熱力学を研究できます。
- 高温性能: 2900℃の最高温度において安定性を維持できるよう設計されており、超高温セラミックス、耐火金属、先進炭素系材料の処理を可能にします。
- 精密雰囲気制御: 高純度6インチ石英管とステンレス製フランジを備え、真空チャンバーは機械式ポンプで10^-2 torr、ターボポンプ統合時には最大10^-5 torrの真空度を維持します。
- 一体型死荷重加圧: 本装置には真空封止された可動ロッド機構が含まれ、較正済みの死荷重により最大10 kgの機械圧を加え、熱処理と緻密化を同時に行えます。
- 高度な加熱要素: 2インチのタングステンまたはグラファイト箔ディスクを装備し、低電圧・高電流DC電源を利用して迅速な熱応答と試料表面全体の均一加熱を実現します。
- 二重制御方式: 操作員は、最大加熱速度を得るための手動加熱と、高精度IRセンサーおよびデジタル表示による複雑な温度プロファイル用のプログラム制御を切り替えられます。
- 拡張可能な加圧能力: 標準機では死荷重方式を採用していますが、電動モーター駆動の加圧機構とデジタルセンサーを追加することで、最大100 kgの力をかける高圧緻密化にも対応できます。
- 最適化された熱反射: 内部チャンバーには、熱反射を高めるための石英管への金コーティングをオプションで装備でき、熱効率を最大化するとともに放射熱から外部の繊細な部品を保護します。
- 柔軟な試料管理: 加熱箔間の調整可能なギャップにより、最大厚さ1.0 mm、直径35 mmまでの各種試料に対応し、高スループット研究のために複数試料を同時処理できます。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| ハイエントロピー合金 | 多元素金属系の急速合成と急冷により、非平衡固溶体相を安定化します。 | 超高速の冷却・加熱サイクルにより元素偏析を防ぎます。 |
| 先端セラミックス | 制御された圧力と真空雰囲気下で、超高温セラミックス(UHTC)を緻密化します。 | 処理時間を短縮することで、結晶粒成長を最小限に抑えつつ高密度化を実現します。 |
| 半導体アニーリング | シリコンまたは化合物半導体ウェハーの高速熱処理(RTP)により、ドーパント活性化や格子損傷の修復を行います。 | 熱予算を精密に制御し、浅い接合プロファイルを維持します。 |
| CSS薄膜コーティング | 本システムをClose-Spaced Sublimation装置に改造し、CdTeのような半導体薄膜を成膜します。 | 優れた化学量論制御と結晶構造により、高品質な膜成長を実現します。 |
| 相変化材料 | カルコゲナイドガラスやその他のメモリ関連材料における高速相転移の動力学を研究します。 | 研究室規模で高速スイッチング環境のシミュレーションを可能にします。 |
| 耐火金属の接合 | 2000℃を超える温度で、耐火金属の固相拡散接合またはろう付けを行います。 | 高真空環境により酸化を防ぎ、強固で清浄な接合を実現します。 |
| 炭素ナノ構造研究 | グラフェン、カーボンナノチューブ、または炭素-炭素複合材の高温処理を行います。 | 構造欠陥のアニーリングやグラファイト化に必要な極限の熱エネルギーを提供します。 |
技術仕様
| 仕様カテゴリ | パラメータ詳細 | TU-RT18 メトリック値 |
|---|---|---|
| 熱性能 | 最大動作温度 | 2900℃ |
| 最大加熱速度 | ≤ 200 ℃ / 秒 | |
| 維持可能な温度時間 | 30秒(最大温度時) | |
| 加熱アーキテクチャ | 加熱要素 | 二重タングステンディスク(厚さ0.2 mm)またはグラファイト箔 |
| 電源 | 208 - 240 VAC、50/60Hz、三相 | |
| トランス出力 | 20 kW、二次側20VDC | |
| 最大電流 | 500A(DC) | |
| 圧力システム | 標準加圧方式 | 1000gの死荷重を備えた真空封止可動ロッド |
| 付属死荷重 | 10個(合計10 kg) | |
| オプション加圧 | 電動モーター駆動、デジタルセンサー付き、最大100 kg | |
| チャンバー構造 | 真空管材質 | 高純度石英(外径216mm、内径206mm、長さ300mm) |
| フランジタイプ | ガス入口/出口およびKF 25ポート付きステンレス鋼 | |
| 真空度 | 10^-2 torr(機械式)から10^-5 torr(ターボポンプ) | |
| 試料容量 | 最大試料直径 | 35 mm |
| 最大試料厚さ | 1.0 mm | |
| 複数試料対応 | 高スループット研究向けに有効 | |
| 制御 & 冷却 | 温度測定 | デジタルIR温度センサーおよび表示装置 |
| 制御モード | 手動およびプログラマブルPID | |
| 冷却要件 | 循環式水チラー(例: KJ5000)が必要 | |
| 規制 | 適合性 | CE認証済み(NRTL/CSAはオプションで対応可能) |
このシステムを選ぶ理由
- 比類なき熱ダイナミクス: この装置は業界最速級の加熱速度を実現し、非平衡材料状態や超高速動力学を研究する研究者にとって重要な優位性を提供します。
- 堅牢な多機能設計: 熱圧だけでなく、RTPアニーリングユニットやCSSコーターへ切り替え可能なため、進化する研究室のニーズに対して優れた価値と柔軟性を提供します。
- 優れた製造品質: 高純度石英、ステンレス鋼、タングステン部品を用い、真空完全性や構造安定性を損なうことなく極限温度での高稼働運転に対応できるよう設計されています。
- 精密な加圧: 死荷重方式は電子的なドリフトの影響を受けない一定の重力ベースの圧力を保証し、オプションのモーター駆動アップグレードにより高度な力制御実験が可能になります。
- 包括的なサポートとカスタマイズ: 当社は、特定の研究要件に合わせて加熱要素、真空構成、加圧機構をカスタマイズできるほか、広範な技術サポートを提供します。
この装置は、現代の研究室において、温度範囲、加熱速度、雰囲気制御を比類なく兼ね備えています。お見積りのご依頼や、お客様固有の材料処理目標に合わせたカスタム構成のご相談は、本日中に当社の技術営業チームまでご連絡ください。
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい!
関連製品
高温超高速加熱プレス炉 2900℃ 最大100kgf 急速熱処理システム
急速熱処理用に設計されたこの2900°C超高速加熱・プレス炉は、180°C/秒の昇温速度と100kgfの加圧能力を実現します。フラッシュ焼結や先進材料の研究開発に最適で、高真空環境により究極の精度、実証済みの信頼性、そして費用対効果の高い産業パフォーマンスを提供します。
2500℃ 高真空超高速加熱ペレットプレス(8サンプル自動ローディングシステム搭載)
2500℃までの超高速加熱と8サンプル自動ローディングシステムを備えた、この高真空ペレットプレスで迅速な熱処理を実現します。先端材料研究に最適であり、高速ロボットによるサンプルハンドリングと自動化性能により、研究室での精密な焼結結果を保証します。
高速昇降温可能なスライドフランジ付き1500℃高温チューブ炉、外径50mm、ラピッドサーマルプロセシング用
高速昇降温を実現する手動スライドフランジ付き最大1500℃チューブ炉です。材料科学研究向けに設計されたこの高精度システムは、優れた真空性能とデュアルコントローラーによる監視機能を備え、要求の厳しい実験室用途に対応します。
高速熱処理 RTP 雰囲気制御型ボトムローディング炉 1100℃ 高スループット 昇温速度 50℃/秒
超高速50℃/秒の昇温と雰囲気制御を特徴とする、この1100℃対応ボトムローディング式RTP炉で研究開発の効率を最大化しましょう。この高スループットシステムはロボットアームと連携可能で、自動単原子触媒や精密な6インチウェハアニーリング用途に最適です。
回転基板ホルダー付き12インチウェハCSSコーティング用950℃高速熱処理炉
この高精度950℃高速熱処理炉は、12インチウェハ向けの回転基板ホルダーとデュアルゾーンIR加熱を備えています。高度なCSS薄膜コーティングおよび半導体アニーリング向けに設計され、高真空条件下で均一な薄膜堆積を実現し、産業研究に対応します。
4インチ内径石英管付きコンパクト雰囲気制御ラピッドサーマルプロセッシング(RTP)炉 1100℃
このコンパクトな雰囲気制御RTP炉で半導体研究を強化しましょう。4インチの石英管と1100℃の処理能力を備え、精密アニール、CVD、高スループットな材料処理のために毎秒50℃の加熱が可能です。
半導体ウェーハボンディングおよび高度な複合材料熱処理用高温真空ラミネート熱プレス炉装置
この高度な真空熱プレスラミネート装置は、酸素に敏感な材料のために、油圧の精密さと制御された熱環境を統合しています。半導体ウェーハボンディングや薄膜変換向けに設計されており、研究開発や工業製造において優れた圧力均一性と温度精度を提供します。
秒速50℃の昇温速度を実現する1100℃ 雰囲気制御ボトムローディング式ラピッドサーマルプロセシング炉(ウェハーアニール用)
秒速50℃の昇温速度と自動雰囲気制御を備えた1100℃ボトムローディング式ラピッドサーマルプロセシング炉で、最高の効率を実現します。先進的な研究環境における高スループットな単原子触媒合成や6インチ半導体ウェハーの精密アニールに最適です。
高速加熱・冷却対応 自動スライド式管状炉 外径2インチ 1100℃対応
この高性能な自動スライド式管状炉で材料研究を最適化します。毎分100℃の超高速加熱・冷却を実現するこの1100℃対応システムは、半導体、ナノテクノロジー、および急速熱サイクルを必要とする産業用R&Dアプリケーションにおいて、精密な熱処理を保証します。
近接昇華および薄膜太陽電池研究用回転式サンプルホルダー付き800℃高温高速熱処理炉
この高度な800℃ CSS(近接昇華)およびRTP(高速熱処理)炉は、デュアルハロゲンヒーターと5x5インチウェハー用回転式基板ホルダーを備えています。薄膜太陽電池の高速熱処理用に設計されており、精密な制御、高い均一性、優れた冷却性能を提供します。
1700°C 40L容量 高温ボトムローディング式ボックス炉(急速熱処理対応)
プロ仕様の1700°Cボトムローディング式ボックス炉は、先端材料研究のために急速加熱・冷却を実現します。自動昇降機能と高純度断熱材を備え、世界中の産業研究所や研究施設において精密な熱処理を保証します。信頼の品質です。
1200°C スライディングチューブ炉(外径100mm対応、急速熱処理およびCVDグラフェン成長用)
急速熱処理(RTP)およびCVD用途向けに設計された1200°Cスライディングチューブ炉で、研究を加速させましょう。高精度PLC制御と電動スライドレールを備え、先端材料科学や産業用R&Dラボにおける超高速加熱・冷却サイクルを実現します。
先進材料焼結用 工業用真空熱間プレス炉および高温加熱真空プレス
この高性能真空熱間プレス炉は、先進材料の高密度化のために熱と一軸圧力を同時に供給します。精密な真空または制御雰囲気条件下で、優れた結晶成長、金属熱処理、セラミック焼結を実現し、産業界の研究開発および製造を支えます。
サファイア観察窓と上部投入ポートを備えた、材料研究および熱処理向け 1800°C ベンチトップ超高温マッフル炉
この高性能ベンチトップマッフル炉は、サファイア製観察窓と投入ポートを一体化し、1800°Cまでの精密な熱処理を実現します。先端材料研究向けに設計されており、卓越した温度均一性、信頼性、プロセス監視性能を備えています。
高速熱処理(RTP)炉 1100℃ 雰囲気制御ボトムローディング式 ウェハアニール・触媒研究用システム
この1100℃ボトムローディング式RTP炉は、ウェハアニールや触媒研究向けに最大50℃/秒の超高速加熱を実現します。自動雰囲気制御とロボット統合機能を備え、要求の厳しい産業用R&Dや材料科学分野において、一貫した信頼性と比類のない性能で高スループットな精密処理を保証します。
小型高温ボトムローディング炉 1700℃ 急速加熱冷却システム 小型サンプル熱サイクル装置
この小型1700℃ボトムローディング炉は、高速サンプル処理に対応した電動リフト、高精度PID制御、先進的なMoSi2発熱体を搭載しており、産業研究所用途における高温材料研究や厳格な熱サイクル衝撃試験に最適なソリューションです。
高温1500℃ ベンチトップマッフル炉 3.6L アルミナファイバーチャンバー プログラマブルコントローラー 焼結・アニール・炭化・熱処理システム
この精密な1500℃ベンチトップマッフル炉は、3.6Lのアルミナファイバーチャンバーと、焼結・アニール用の高度なPID制御を備えています。堅牢なSiC発熱体とプログラマブルインターフェースにより、材料科学や産業用R&Dの厳しい要求に応える一貫した熱処理を実現します。
自律型材料研究向け急速冷却機能付き高温コンパクト自動ボトムローディング炉
1500℃対応のコンパクトな自動ボトムローディング炉で、研究開発の生産性を向上させます。急速冷却機能と自動化対応により、グローブボックスへの統合やロボットワークフローへの組み込みが可能。最先端の産業研究所や材料科学研究センターに最適な、高精度熱処理ソリューションです。
22L加熱チャンバー・最高温度1200℃ 高温縦型るつぼ炉
22Lのチャンバー、30セグメントPID制御、高度な安全プロトコルを備えたプロ仕様の1200℃縦型るつぼ炉。高純度焼結、金属焼鈍、材料科学研究など、要求の厳しい産業および研究開発の熱処理環境に最適です。
熱画像撮影と材料分析用 石英観察窓付き高温卓上マッフル炉
統合型石英観察窓を備えたこの1700℃高温卓上マッフル炉で、精密な熱処理を実現します。本システムは、優れた温度均一性、高度なPID制御、そして重要な材料研究および産業用熱処理のための堅牢なMoSi2発熱体を提供します。