材料合成用 2インチスーパーアロイ加工チューブ付き 1100℃高圧ロッキング管状炉

ロータリー炉

材料合成用 2インチスーパーアロイ加工チューブ付き 1100℃高圧ロッキング管状炉

商品番号: TU-X20

最大圧力: 40 Bar @ 800°C 加熱ゾーン制御: 3ゾーン独立PID制御 チューブ材質: Ni基超合金 GH747
品質保証 Fast Delivery Global Support
お問合せ

配送: お問い合わせ 配送詳細を確認してください オンタイムディスパッチ保証.

製品概要

Product image 1

この高性能熱処理システムは、高温・高圧・機械的攪拌を同時に必要とする高度な材料科学用途向けに設計されています。3ゾーン加熱構造と専用のロッキング機構を統合することで、合金の溶解や、標準的な大気圧下では蒸発しやすい化合物の合成において、優れた均質性を保証します。これにより、揮発性材料の合成や特殊な結晶成長に注力する研究室にとって欠かせないツールとなります。

過酷な産業用研究開発環境向けに設計された本システムは、不活性ガス環境および酸素環境の両方で優れた材料処理能力を発揮します。装置の核となるのは、高い内部圧力下でも1100℃までの温度で構造的完全性を維持できる高強度スーパーアロイ加工チューブです。この独自の能力の組み合わせにより、研究者は従来の管状炉では到達不可能だった状態図や材料挙動の探求が可能となり、高度な冶金学や化学工学において大きな競争優位性を提供します。

信頼性と一貫性は、本装置の設計の礎です。チューブへのアクセスが容易な分割型炉体と、オペレーターの安全を確保する分離型制御コンソールを備えており、産業用熱処理の厳しいサイクルに耐えうる堅牢な構造となっています。高精度PIDコントローラーと堅牢な機械駆動システムの採用により、すべてのプロセスが再現可能かつ記録可能であり、現代の材料認証やパイロットスケール生産に求められる厳格な品質基準を満たしています。

主な特徴

  • ニッケル基スーパーアロイチューブ: 加工チャンバーはGH747スーパーアロイ製で、高温下での優れた耐クリープ性と酸化安定性を備えており、高圧条件下でも安全な操作が可能です。
  • 精密な3ゾーン加熱: 独立して制御される3つの加熱ゾーンを備えており、精密な温度勾配の作成や、±1℃の精度で280mmの広範囲な恒温ゾーンの維持が可能です。
  • 自動ロッキング機構: 150W DCギアモーターを内蔵し、-30ºから+90ºのロッキング角度を実現。溶融物の機械的混合を促進し、複雑な合金系における沈殿や偏析を防ぎます。
  • 高圧対応: 過酷な環境向けに設計されており、低温下では最大40 barの内部ガス圧をサポートし、1100℃の限界温度でも8 barでの運用が可能です。
  • 高度な温度調節: FA-YD518P-AGデジタルコントローラーを採用し、30セグメントのプログラム設定とオートチューニング機能により、昇温、保持、冷却サイクルを精密に制御します。
  • 分離型安全制御ユニット: オペレーターの保護を強化するため、圧力、温度、ロッキングのすべてのパラメータはリモートタッチスクリーンパネル経由で管理され、ユーザーを高温ゾーンから隔離します。
  • デュアルフランジ統合: 銅製Oリング付き高圧CFフランジと定圧KFアダプターの両方を備えており、さまざまなシール要件やガスハンドリング構成に対応する柔軟性を提供します。
  • 統合ガスろ過システム: コアファンネルフィルターと外部コールドトラップが排気システムを保護し、凝縮性蒸気を加工ゾーンから出る前に捕捉することで、高い純度レベルを維持します。
  • 高い機械的安定性: ロッキングステージは炉の重量を支えつつ、0.1~1回/分の範囲で調整可能な滑らかな周波数を維持し、一貫した処理を可能にします。

用途

用途 説明 主な利点
揮発性合金の溶解 高い蒸気圧を持つ元素を含む合金の処理。 合金元素の損失を防ぎ、正確な組成制御を実現。
Nドープカーボンの研究開発 窒素ドープ炭素材料の高圧黒鉛化。 導電性と触媒部位の安定性を向上。
化合物合成 高圧・高温下での固気反応。 反応速度を加速し、複雑な合成における製品収率を向上。
材料特性評価 熱負荷と圧力負荷を同時に加えた材料のストレス試験。 過酷な産業環境をシミュレートし、耐久性を検証。
結晶成長 連続的なロッキング攪拌を伴う溶融物の制御冷却。 均質な結晶構造を促進し、欠陥密度を低減。
熱水合成の模倣 高圧地質学的または工業的化学プロセスのシミュレーション。 大気圧および加圧実験の柔軟性を1台で実現。
触媒の最適化 メタノール耐性を向上させるための触媒の熱処理。 より安定し、均一に分散された活性クラスター部位を生成。

技術仕様

項目 パラメータ TU-X20の仕様
モデル識別子 アイテム番号 TU-X20
加熱構造 構成 3つの独立した加熱ゾーンを持つ分割型炉
ゾーン長 各ゾーン / 合計 1ゾーンあたり150mm / 合計450mm
恒温ゾーン 精度範囲 280mm (±1°C)
最高温度 ピーク動作限界 1100°C (1時間未満)
連続使用温度 標準動作限界 1000°C
昇温速度 最大昇温 10°C / 分
加工チューブ 材質・寸法 Ni基スーパーアロイ GH747; 外径60 x 内径52 x 長さ1000 mm
圧力耐性 圧力 vs 温度 40 bar (@800°C), 25 bar (@900°C), 12 bar (@1000°C), 8 bar (@1100°C)
ロッキングパラメータ 角度 / 周波数 -30º ~ +90º / 0.1 ~ 1回/分(調整可能)
駆動システム モーター出力 / 速度 150W DCギアモーター / 10 - 70 RPM表示
温度制御 コントローラーモデル 3つのFA-YD518P-AG PIDコントローラー (RS485搭載)
電源 電圧 / 消費電力 AC 208-240V, 50/60Hz; 4.2 KW
ガス適合性 媒体 不活性ガスまたは酸素 (可燃性ガス/水素は不可)
フランジタイプ シール方法 銅製Oリング付きCFフランジ (高圧用)
ろ過 コンポーネント コアファンネルフィルターおよび外部コールドトラップ
適合規格 規格 CE認証取得済み; ご要望に応じてNRTL (UL61010/CSA)対応可能

TU-X20が選ばれる理由

  • 優れた圧力・温度性能: 高品質なGH747スーパーアロイを使用し、大気圧加熱と高圧化学合成の間のギャップを安全に埋めることで、標準的な石英やセラミックチューブでは不可能な実験を可能にします。
  • プロセスの均質性: 精密に設計されたロッキング機構は、溶融物の沈殿を防ぎ、プロセスサイクル全体を通じて均一な気固相互作用を確保する必要がある研究者にとって重要な利点となります。
  • プロセスの安全性向上: リモート制御アーキテクチャとモジュール設計により、高圧・高温のリスクをオペレーターから隔離し、マルチユーザー施設にとって安全な研究環境を保証します。
  • 多彩なガス管理: デュアルフランジオプションと高度なろ過機能を備えており、腐食性ガスや凝縮性ガスを容易に扱い、装置および周囲の研究環境を保護します。
  • 産業グレードの信頼性: 高トルクギアモーターから精密PID温度コントローラーまで、すべてのコンポーネントが過酷な研究開発サイクルにおける長期的な動作の一貫性を考慮して選定されています。

現代の材料科学の洗練された要件を満たすように設計された当社の1100℃ロッキング管状炉は、貴施設の研究能力に対するプレミアムな投資となります。詳細な技術相談や、特定の合成ニーズに合わせたカスタム見積もりについては、今すぐTHERMUNITSまでお問い合わせください。

この製品に関するよくある質問をもっと見る

引用を要求

弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい!

関連製品

研究室材料研究および高度な産業用熱処理向け 1100℃ マルチポジション管状炉

研究室材料研究および高度な産業用熱処理向け 1100℃ マルチポジション管状炉

このマルチポジション管状炉は、垂直および水平方向の柔軟な設置が可能で、1100℃の精密加熱を実現します。先端材料研究向けに設計されており、30セグメントPIDコントローラーと高純度繊維断熱材を採用することで、優れた熱安定性と信頼性の高い産業用研究室性能を提供します。

1100°C 8ゾーン高圧スーパーアロイ管状炉(高圧ガス制御システム一体型)

1100°C 8ゾーン高圧スーパーアロイ管状炉(高圧ガス制御システム一体型)

スーパーアロイ製容器と統合制御システムを備えた、1100°C対応の8ゾーン高圧管状炉です。安定した高圧雰囲気と、要求の厳しいプロセスに必要な精密なマルチゾーン熱均一性を必要とする、超伝導材料の合成や先端酸化物セラミックスの研究に最適です。

材料科学および産業用熱処理向け真空フランジ・プログラム温度コントローラー付き1100℃管状炉

材料科学および産業用熱処理向け真空フランジ・プログラム温度コントローラー付き1100℃管状炉

プログラム可能なPIDコントローラーと高真空フランジを備えた、汎用性の高い1100℃管状炉で、研究室の熱処理プロセスを最適化します。精密な材料合成や産業用R&D向けに設計されており、デュアルオリエンテーション(水平・垂直)の柔軟性と、要求の厳しい用途にも対応する一貫した温度均一性を提供します。

高精度振動式高温チューブ炉 1700°C アルミナ処理チューブ 材料合成用

高精度振動式高温チューブ炉 1700°C アルミナ処理チューブ 材料合成用

この先進的な1700°C振動式チューブ炉は、外径60mmのアルミナチューブと+/-45度の振動を特徴とします。プログラム可能なPID制御、高純度断熱材、頑丈なMoSi2加熱体により材料の均一性を向上させ、厳しい産業用および実験室用熱処理アプリケーションに対応します。

石英管と真空フランジを備えた材料合成用高温ロッキングチューブ炉

石英管と真空フランジを備えた材料合成用高温ロッキングチューブ炉

高純度石英管と真空フランジを備えた高精度ロッキングチューブ炉で、材料研究を強化します。均一な熱処理のために設計されており、安定した試料撹拌を実現し、優れた熱電材料合成や先進的な2次元結晶成長に貢献します。

最大1100℃まで個別に温度制御可能な、材料科学研究およびハイスループット熱処理用16チャンネル揺動管状炉

最大1100℃まで個別に温度制御可能な、材料科学研究およびハイスループット熱処理用16チャンネル揺動管状炉

この16チャンネル揺動管状炉は、最大1100℃までのハイスループットな材料合成において、独立した温度制御と動的な攪拌機能を提供します。合金研究、セラミックス開発、高度な触媒最適化に最適で、真空対応のコンパクトな産業用実験室向け熱処理装置です。

1100°C 大口径石英チューブ炉(24インチ加熱ゾーンおよび水冷フランジ付き)

1100°C 大口径石英チューブ炉(24インチ加熱ゾーンおよび水冷フランジ付き)

この1100°C大口径石英チューブ炉は、24インチの加熱ゾーンと精密なCVD処理のための水冷フランジを備えています。材料研究や産業用R&Dに最適で、優れた熱安定性と堅牢な熱性能を提供します。

1100℃材料研究用 高磁場対応チューブ炉(雰囲気制御・水冷非磁性筐体仕様)

1100℃材料研究用 高磁場対応チューブ炉(雰囲気制御・水冷非磁性筐体仕様)

二重螺旋加熱エレメントと非磁性SS316水冷筐体を備えた、1100℃対応のチューブ炉です。不活性雰囲気下での高度な材料特性研究や高性能な実験用途向けに設計されており、超高磁場環境下での精密な熱処理を実現します。

1100°C 分割型縦型チューブ炉(80mm石英管およびステンレス製真空フランジ付き)

1100°C 分割型縦型チューブ炉(80mm石英管およびステンレス製真空フランジ付き)

この高性能な1100°C分割型縦型チューブ炉は、80mm石英管、ステンレス製真空フランジ、および精密な30セグメントPID制御を備えています。材料研究開発、急速冷却、および専門的な産業研究所での雰囲気制御熱処理のために設計されています。

Kanthal Super 1800 発熱体と60mmアルミナ処理管を備えた1750°C高温卓上真空雰囲気管状炉

Kanthal Super 1800 発熱体と60mmアルミナ処理管を備えた1750°C高温卓上真空雰囲気管状炉

Kanthal Super-1800発熱体と高純度アルミナ管を備えた高性能1750°C真空管状炉。精密な材料研究に最適で、本システムは±1°Cの精度と30セグメントのプログラム制御を提供し、要求の厳しい実験室での熱処理および雰囲気制御下での焼結に対応します。

1200°C対応 3ゾーン管状炉 最大外径6インチ(チューブ・フランジ付き)

1200°C対応 3ゾーン管状炉 最大外径6インチ(チューブ・フランジ付き)

外径6インチの処理能力と高度なタッチスクリーン制御を備えた、この1200°C対応3ゾーン管状炉で熱処理プロセスを最適化します。この高精度システムは、先端材料研究、半導体アニール、工業用熱処理用途において均一な温度分布を保証します。

高速昇降温可能なスライドフランジ付き1500℃高温チューブ炉、外径50mm、ラピッドサーマルプロセシング用

高速昇降温可能なスライドフランジ付き1500℃高温チューブ炉、外径50mm、ラピッドサーマルプロセシング用

高速昇降温を実現する手動スライドフランジ付き最大1500℃チューブ炉です。材料科学研究向けに設計されたこの高精度システムは、優れた真空性能とデュアルコントローラーによる監視機能を備え、要求の厳しい実験室用途に対応します。

高温1700℃ 4チャンネルチューブ炉 1インチアルミナチューブ ハイスループットアニーリング用

高温1700℃ 4チャンネルチューブ炉 1インチアルミナチューブ ハイスループットアニーリング用

独立温度制御と一体型アルミナチューブを搭載したこの4チャンネル1700℃チューブ炉で材料研究を革新しましょう。コンパクトな実験室対応フットプリントでハイスループットアニーリングと熱処理を実現し、急速な材料開発と産業用合金合成に最適化されています。

1700℃水素ガス管状炉 60mmアルミナプロセスチューブ一体型水素安全検知器付き

1700℃水素ガス管状炉 60mmアルミナプロセスチューブ一体型水素安全検知器付き

この高温1700℃水素ガス管状炉は、実験室の安全性を最大限に確保するため、60mmアルミナチューブと電磁遮断弁付きの一体型ガス検知器を搭載しています。可燃性雰囲気または不活性雰囲気環境での材料合成と熱処理用に設計されています。

材料焼結用50mmアルミナ管および真空フランジ付きコンパクト高温1600℃管状炉

材料焼結用50mmアルミナ管および真空フランジ付きコンパクト高温1600℃管状炉

50mmアルミナ管と真空フランジを備えた、このコンパクトな高温1600℃管状炉で研究室の能力を強化しましょう。材料焼結や化学研究に最適で、産業用R&D用途向けに精密な熱処理と卓越した信頼性を提供します。

1100°C 高温石英チャンバー炉 8インチ外径 7.6リットル容量 真空雰囲気対応

1100°C 高温石英チャンバー炉 8インチ外径 7.6リットル容量 真空雰囲気対応

外径8インチ、容量7.6リットルの1100°C石英チャンバー炉で、研究室の能力を向上させましょう。真空および制御雰囲気環境向けに設計されたこのシステムは、先端材料研究や半導体製造のための精密な熱処理を提供します。

5インチ加熱ゾーン、高純度アルミナチューブ、真空シーリングフランジ付き 1700℃ 高温卓上チューブ炉

5インチ加熱ゾーン、高純度アルミナチューブ、真空シーリングフランジ付き 1700℃ 高温卓上チューブ炉

この1700℃の高温チューブ炉は、先進材料研究向けに5インチの加熱ゾーンとアルミナチューブを備えています。焼結、焼なまし、化学気相成長のために、精密な雰囲気制御と50 mTorrまでの真空レベルを実現します。

高温1700℃管状炉(4インチ外径アルミナ管および真空シールフランジ付き)

高温1700℃管状炉(4インチ外径アルミナ管および真空シールフランジ付き)

4インチ外径のアルミナ管と精密なMoSi2発熱体を備えた高性能1700℃管状炉。高度なPID制御と堅牢な雰囲気シール機能を備え、材料研究、化学焼結、真空熱処理など、産業用研究開発に最適です。

材料焼入れおよび単結晶育成用 1700℃高温縦型分割式チューブ炉

材料焼入れおよび単結晶育成用 1700℃高温縦型分割式チューブ炉

この高度な1700℃縦型分割式チューブ炉は、材料の焼入れや単結晶育成のための精密な熱処理を実現します。研究開発向けに設計された本システムは、真空対応およびPID制御を備えており、要求の厳しい産業研究ラボ環境において、信頼性が高く再現性のある結果を提供します。

1800°C 高温コンパクト真空管状炉(60mm外径アルミナ管およびKanthal MoSi2発熱体搭載)

1800°C 高温コンパクト真空管状炉(60mm外径アルミナ管およびKanthal MoSi2発熱体搭載)

この1800°C高温コンパクト真空管状炉は、高品質なKanthal製発熱体と60mm外径のアルミナ管を備えています。材料研究や焼結用に設計されており、研究開発ラボ向けに真空または制御雰囲気下での精密な熱処理を提供します。

関連記事