1700℃高温焼入れチューブ炉 60mmアルミナチューブ搭載 自動電磁石放出システム

管状炉

1700℃高温焼入れチューブ炉 60mmアルミナチューブ搭載 自動電磁石放出システム

商品番号: TU-C22

最高温度: 1700°C チューブ寸法: Ø60mm アルミナ 真空性能: 50 mTorr
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製品概要

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この高温熱処理システムは、焼入れおよび材料相研究向けに設計された先進的な研究室グレードのソリューションです。縦型チューブ炉と精密制御された試料放出機構を統合することで、研究者は材料を最高1700℃まで加熱した後、直ちに焼入れ媒体に浸漬することができます。この急速冷却能力は高温微細組織を固定するのに不可欠であり、緩冷却では失われてしまう準安定状態や相転移の詳細な研究を可能にします。

要求の厳しい材料科学および産業R&D環境での使用を目的として設計された本システムは、制御された雰囲気または真空環境を提供し、敏感な試料を酸化や汚染から保護します。縦型構成は重力を利用した焼入れに最適化されており、加熱ゾーンから炉芯直下に配置された焼入れ槽へのシームレスな移行を実現します。本装置は特に、冶金、セラミック工学、高性能合金開発において優れた効果を発揮します。これらの分野では熱履歴が材料の最終的な機械的・化学的特性を大きく左右するためです。

長期運用の信頼性を重視して製造された本装置は、高品質な1800グレードの二珪化モリブデン(MoSi2)加熱要素と高純度繊維状アルミナ断熱材を採用しています。二層構造の鋼製筐体は一体型空冷システムを備えており、長時間の高温サイクル運転中でも安全で安定した外部表面温度を維持します。この堅牢な設計により、システムは一貫性のある再現可能な結果を提供し、調達チームや主任研究者が熱処理ワークフローを中断することなく高精度に継続できるという確信を得られます。

主な特長

  • 高精度1700℃温度管理: 本システムは4本のU字型1800グレードMoSi2加熱要素を採用し、最高使用温度1700℃に到達します。長期安定性のため、信頼性のある連続運転範囲は800℃~1600℃です。
  • 自動電磁石による試料放出: 完全一体型の電磁吊り下げシステムにより、焼入れ槽への試料放出を瞬時に行えます。放出ボタンを押すだけで電磁石が非活性化し、手動操作による熱損失を伴うことなく、試料が大きな仕切り弁を通って垂直に落下します。
  • 高純度アルミナ処理チューブ: 本装置には99%高純度Al2O3セラミックチューブ(外径60mm、内径54mm)が搭載されており、極限温度下での熱衝撃および化学腐食に対して優れた耐性を発揮し、清浄な処理環境を確保します。
  • 一体型焼入れインフラ: 炉の基部に専用のステンレス鋼製焼入れ槽が配置され、4インチの手動仕切り弁とCF-100アダプタを介して接続されており、放出瞬間まで真空または雰囲気の完全性を維持します。
  • 先進的なPID制御ロジック: 標準の温度コントローラは昇温・冷却・保持のための30のプログラム可能セグメントを備え、オートチューン機能により±1℃以内の温度精度を維持し、熱オーバーシュートを最小限に抑えます。
  • 最適化された加熱ゾーン構造: 130mmの加熱ゾーンと60mmの恒温ゾーン(±5℃以内)を備え、試料表面全体に均一な熱分布を確保します。これはバッチ間で一貫した材料特性を得るために重要です。
  • 汎用性の高い雰囲気・真空制御: 真空密封フランジと高品質バルブにより、50mTorrの真空または加圧不活性ガス環境(最大3PSI)での運転が可能で、試料周囲の化学環境を完全に制御できます。
  • 安全性を最優先した設計: 本装置には過昇温および熱電対故障のアラームが標準搭載されており、二層筐体設計により実験環境への輻射熱を最小限に抑え、作業者の安全と装置の長寿命化を両立しています。
  • 柔軟な試料ハンドリング: 電磁石システムは最大500gまでの試料吊り下げワイヤに対応し、直径50mm・長さ65mmまでの試料を収容できる設計であり、多種多様な実験形状に適しています。

用途

用途 説明 主な利点
冶金・合金開発 高温液相または固相から合金試料を急速冷却し、結晶構造を研究します。 XRDおよびSEM分析のために高温相を正確に保存できます。
先進セラミックス 工業用セラミックスの焼結および焼入れを行い、破壊靭性と耐熱衝撃性を向上させます。 結晶粒成長と微細組織進化の制御性が向上します。
相転移研究 鋼および特殊機能材料における等温変化の動力学を調査します。 動力学モデリングのために、加熱・冷却工程間のタイミングを高精度に制御できます。
航空宇宙材料試験 超合金に極端な熱サイクルを負荷し、タービンエンジンの高応力動作条件を再現します。 実環境の急速冷却シナリオを安定的に再現できます。
材料焼き戻しプロセス 精密熱処理に続いて瞬時に焼入れを行い、特定の硬度と延性プロファイルを実現します。 複数の試験片にわたって機械的特性を再現可能です。
半導体研究 基板材料の焼鈍しおよび焼入れを行い、ドーパント拡散と格子欠陥を制御します。 高純度環境により、重要な処理中の汚染を防止します。

技術仕様

項目 仕様詳細(モデルTU-C22)
標準品番 TU-C22
入力電源 208-240 VAC, 30 A, 単相, 50/60 Hz
最大消費電力 4 kVA
最高使用温度 1700℃(1時間未満)
連続使用温度 800℃ - 1600℃
加熱要素 U字型1800グレードMoSi2 4本
熱電対種別 白金ロジウム-白金ロジウム(B型) アルミナ保護管付き
加熱ゾーン長 130 mm
恒温ゾーン 60 mm(± 5℃)
昇温速度(>1400℃) < 2℃/分
昇温速度(1200℃-1400℃) < 5℃/分
昇温速度(<1200℃) < 10℃/分
処理チューブ材質 99% 高純度 Al2O3 セラミック
チューブ寸法 内径: 54mm; 外径: 60mm; 長さ: 850mm
温度コントローラ 30セグメントPID制御 オートチューン・PC通信ポート付き
温度精度 ± 1℃
真空圧力限界 50 mTorr(高品質機械式真空ポンプ使用時)
試料放出機構 上部フランジ取付け自動電磁石(最大荷重500g)
焼入れ槽寸法 400 x 400 x 200 H (mm)
仕切り弁 4インチ手動仕切り弁 CF-100アダプタ付き
筐体構造 二層鋼製 空冷ファン付き
認証 CE認証取得済み(UL/CSA オプション対応可)

当社を選ぶ理由

  • 卓越した熱工学: 1800グレードMoSi2要素と精密に位置合わせされたB型熱電対を採用することで、標準装置が故障する極限条件下でも比類のない温度安定性と長寿命を提供します。
  • シームレスな自動化: 一体型電磁放出により焼入れプロセスから人的ミスを排除し、研究プロトコルで要求される正確な温度・時間で毎回確実に試料を落下させます。
  • 堅牢な真空完全性: 高品質なステンレス鋼フランジと大型4インチ仕切り弁を備えることで、炉は高純度環境を維持し、焼入れ媒体への移行中であっても試料の酸化を防止します。
  • 実績のある信頼性: 産業グレードの部品と二層冷却構造で製造された本装置は、高い稼働率と安定した熱性能が求められる材料科学研究室での重度使用に耐える設計です。
  • 拡張可能なカスタマイズ: ±0.1℃精度のオプションのEurothermコントローラから、完全なPCベースのLabview制御システムまで、お客様固有のデータ取得・プロセス管理ニーズに合わせてシステムを調整する柔軟性を提供します。

当社の技術チームは、お客様固有の研究目標に最適な熱処理ソリューションを構成するお手伝いをいたします。詳細な見積もり、またはお客様の材料研究要件に合わせたカスタム変更については、今すぐお問い合わせください。

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