製品概要




この高温熱処理システムは、焼入れおよび材料相研究向けに設計された先進的な研究室グレードのソリューションです。縦型チューブ炉と精密制御された試料放出機構を統合することで、研究者は材料を最高1700℃まで加熱した後、直ちに焼入れ媒体に浸漬することができます。この急速冷却能力は高温微細組織を固定するのに不可欠であり、緩冷却では失われてしまう準安定状態や相転移の詳細な研究を可能にします。
要求の厳しい材料科学および産業R&D環境での使用を目的として設計された本システムは、制御された雰囲気または真空環境を提供し、敏感な試料を酸化や汚染から保護します。縦型構成は重力を利用した焼入れに最適化されており、加熱ゾーンから炉芯直下に配置された焼入れ槽へのシームレスな移行を実現します。本装置は特に、冶金、セラミック工学、高性能合金開発において優れた効果を発揮します。これらの分野では熱履歴が材料の最終的な機械的・化学的特性を大きく左右するためです。
長期運用の信頼性を重視して製造された本装置は、高品質な1800グレードの二珪化モリブデン(MoSi2)加熱要素と高純度繊維状アルミナ断熱材を採用しています。二層構造の鋼製筐体は一体型空冷システムを備えており、長時間の高温サイクル運転中でも安全で安定した外部表面温度を維持します。この堅牢な設計により、システムは一貫性のある再現可能な結果を提供し、調達チームや主任研究者が熱処理ワークフローを中断することなく高精度に継続できるという確信を得られます。
主な特長
- 高精度1700℃温度管理: 本システムは4本のU字型1800グレードMoSi2加熱要素を採用し、最高使用温度1700℃に到達します。長期安定性のため、信頼性のある連続運転範囲は800℃~1600℃です。
- 自動電磁石による試料放出: 完全一体型の電磁吊り下げシステムにより、焼入れ槽への試料放出を瞬時に行えます。放出ボタンを押すだけで電磁石が非活性化し、手動操作による熱損失を伴うことなく、試料が大きな仕切り弁を通って垂直に落下します。
- 高純度アルミナ処理チューブ: 本装置には99%高純度Al2O3セラミックチューブ(外径60mm、内径54mm)が搭載されており、極限温度下での熱衝撃および化学腐食に対して優れた耐性を発揮し、清浄な処理環境を確保します。
- 一体型焼入れインフラ: 炉の基部に専用のステンレス鋼製焼入れ槽が配置され、4インチの手動仕切り弁とCF-100アダプタを介して接続されており、放出瞬間まで真空または雰囲気の完全性を維持します。
- 先進的なPID制御ロジック: 標準の温度コントローラは昇温・冷却・保持のための30のプログラム可能セグメントを備え、オートチューン機能により±1℃以内の温度精度を維持し、熱オーバーシュートを最小限に抑えます。
- 最適化された加熱ゾーン構造: 130mmの加熱ゾーンと60mmの恒温ゾーン(±5℃以内)を備え、試料表面全体に均一な熱分布を確保します。これはバッチ間で一貫した材料特性を得るために重要です。
- 汎用性の高い雰囲気・真空制御: 真空密封フランジと高品質バルブにより、50mTorrの真空または加圧不活性ガス環境(最大3PSI)での運転が可能で、試料周囲の化学環境を完全に制御できます。
- 安全性を最優先した設計: 本装置には過昇温および熱電対故障のアラームが標準搭載されており、二層筐体設計により実験環境への輻射熱を最小限に抑え、作業者の安全と装置の長寿命化を両立しています。
- 柔軟な試料ハンドリング: 電磁石システムは最大500gまでの試料吊り下げワイヤに対応し、直径50mm・長さ65mmまでの試料を収容できる設計であり、多種多様な実験形状に適しています。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| 冶金・合金開発 | 高温液相または固相から合金試料を急速冷却し、結晶構造を研究します。 | XRDおよびSEM分析のために高温相を正確に保存できます。 |
| 先進セラミックス | 工業用セラミックスの焼結および焼入れを行い、破壊靭性と耐熱衝撃性を向上させます。 | 結晶粒成長と微細組織進化の制御性が向上します。 |
| 相転移研究 | 鋼および特殊機能材料における等温変化の動力学を調査します。 | 動力学モデリングのために、加熱・冷却工程間のタイミングを高精度に制御できます。 |
| 航空宇宙材料試験 | 超合金に極端な熱サイクルを負荷し、タービンエンジンの高応力動作条件を再現します。 | 実環境の急速冷却シナリオを安定的に再現できます。 |
| 材料焼き戻しプロセス | 精密熱処理に続いて瞬時に焼入れを行い、特定の硬度と延性プロファイルを実現します。 | 複数の試験片にわたって機械的特性を再現可能です。 |
| 半導体研究 | 基板材料の焼鈍しおよび焼入れを行い、ドーパント拡散と格子欠陥を制御します。 | 高純度環境により、重要な処理中の汚染を防止します。 |
技術仕様
| 項目 | 仕様詳細(モデルTU-C22) |
|---|---|
| 標準品番 | TU-C22 |
| 入力電源 | 208-240 VAC, 30 A, 単相, 50/60 Hz |
| 最大消費電力 | 4 kVA |
| 最高使用温度 | 1700℃(1時間未満) |
| 連続使用温度 | 800℃ - 1600℃ |
| 加熱要素 | U字型1800グレードMoSi2 4本 |
| 熱電対種別 | 白金ロジウム-白金ロジウム(B型) アルミナ保護管付き |
| 加熱ゾーン長 | 130 mm |
| 恒温ゾーン | 60 mm(± 5℃) |
| 昇温速度(>1400℃) | < 2℃/分 |
| 昇温速度(1200℃-1400℃) | < 5℃/分 |
| 昇温速度(<1200℃) | < 10℃/分 |
| 処理チューブ材質 | 99% 高純度 Al2O3 セラミック |
| チューブ寸法 | 内径: 54mm; 外径: 60mm; 長さ: 850mm |
| 温度コントローラ | 30セグメントPID制御 オートチューン・PC通信ポート付き |
| 温度精度 | ± 1℃ |
| 真空圧力限界 | 50 mTorr(高品質機械式真空ポンプ使用時) |
| 試料放出機構 | 上部フランジ取付け自動電磁石(最大荷重500g) |
| 焼入れ槽寸法 | 400 x 400 x 200 H (mm) |
| 仕切り弁 | 4インチ手動仕切り弁 CF-100アダプタ付き |
| 筐体構造 | 二層鋼製 空冷ファン付き |
| 認証 | CE認証取得済み(UL/CSA オプション対応可) |
当社を選ぶ理由
- 卓越した熱工学: 1800グレードMoSi2要素と精密に位置合わせされたB型熱電対を採用することで、標準装置が故障する極限条件下でも比類のない温度安定性と長寿命を提供します。
- シームレスな自動化: 一体型電磁放出により焼入れプロセスから人的ミスを排除し、研究プロトコルで要求される正確な温度・時間で毎回確実に試料を落下させます。
- 堅牢な真空完全性: 高品質なステンレス鋼フランジと大型4インチ仕切り弁を備えることで、炉は高純度環境を維持し、焼入れ媒体への移行中であっても試料の酸化を防止します。
- 実績のある信頼性: 産業グレードの部品と二層冷却構造で製造された本装置は、高い稼働率と安定した熱性能が求められる材料科学研究室での重度使用に耐える設計です。
- 拡張可能なカスタマイズ: ±0.1℃精度のオプションのEurothermコントローラから、完全なPCベースのLabview制御システムまで、お客様固有のデータ取得・プロセス管理ニーズに合わせてシステムを調整する柔軟性を提供します。
当社の技術チームは、お客様固有の研究目標に最適な熱処理ソリューションを構成するお手伝いをいたします。詳細な見積もり、またはお客様の材料研究要件に合わせたカスタム変更については、今すぐお問い合わせください。
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい!
関連製品
1700℃ 高温アルミナ管状炉(18インチ加熱ゾーンおよび真空シールフランジ付き)
このプロ仕様の1700℃管状炉は、18インチの加熱ゾーンと高純度アルミナチューブを備え、先端材料研究に最適です。真空および制御雰囲気下での使用を想定して設計されており、過酷な産業用研究プロセスにおいて卓越した熱安定性と信頼性を発揮します。
高温1700℃管状炉(4インチ外径アルミナ管および真空シールフランジ付き)
4インチ外径のアルミナ管と精密なMoSi2発熱体を備えた高性能1700℃管状炉。高度なPID制御と堅牢な雰囲気シール機能を備え、材料研究、化学焼結、真空熱処理など、産業用研究開発に最適です。
80mmアルミナ管採用 垂直型1700℃真空・雰囲気制御チューブ炉
この高精度垂直型チューブ炉は、材料合成のために最高1700℃までの卓越した熱均一性を実現します。80mmのアルミナ管と高度な真空シールフランジを備え、要求の厳しい産業用R&Dや特殊な熱処理プロセスに安定した雰囲気を提供します。
垂直型ハイブリッド高温炉 1500℃ アルミナチューブ SOFC燃料電池試験用 研究用熱処理装置
SOFC燃料電池試験および精密熱処理用に設計された1500℃対応の垂直型ハイブリッド炉で、材料研究を加速させます。高純度アルミナチューブと高度な真空シールフランジを備えた本装置は、要求の厳しい産業用ラボ用途において信頼性の高い性能を保証します。
材料焼結用50mmアルミナ管および真空フランジ付きコンパクト高温1600℃管状炉
50mmアルミナ管と真空フランジを備えた、このコンパクトな高温1600℃管状炉で研究室の能力を強化しましょう。材料焼結や化学研究に最適で、産業用R&D用途向けに精密な熱処理と卓越した信頼性を提供します。
高温1700℃ 4チャンネルチューブ炉 1インチアルミナチューブ ハイスループットアニーリング用
独立温度制御と一体型アルミナチューブを搭載したこの4チャンネル1700℃チューブ炉で材料研究を革新しましょう。コンパクトな実験室対応フットプリントでハイスループットアニーリングと熱処理を実現し、急速な材料開発と産業用合金合成に最適化されています。
材料研究および工業用熱処理用 1700℃高温3ゾーン管状炉(アルミナ管 外径50mm 60mm 80mm)
この高性能1700℃ 3ゾーン管状炉は、精密アルミナ管と独立した加熱制御を特徴としています。高度な材料研究向けに設計されており、化学気相成長(CVD)や複雑な雰囲気制御下の工業用熱処理プロセスにおいて、優れた温度均一性と安定性を提供します。
5インチ加熱ゾーン、高純度アルミナチューブ、真空シーリングフランジ付き 1700℃ 高温卓上チューブ炉
この1700℃の高温チューブ炉は、先進材料研究向けに5インチの加熱ゾーンとアルミナチューブを備えています。焼結、焼なまし、化学気相成長のために、精密な雰囲気制御と50 mTorrまでの真空レベルを実現します。
SOFCコインセル試験および雰囲気処理用 高温縦型ハイブリッド炉(アルミナ管・SiCヒーター搭載)
この高性能1500°C縦型ハイブリッド炉は、25mmアルミナ管と高精度PID制御を備え、SOFC研究に最適です。マッフル炉として、または真空シール雰囲気炉として、先端材料科学や産業試験に優れた汎用性を発揮します。
粉末球状化・材料焼結用 高温1700℃縦型チューブ炉
本1700℃縦型チューブ炉システムは、電池電極や3Dプリンティング向け粉末球状化処理を最適化します。自動フィーダーと双区域制御を搭載し、真空または制御雰囲気下での高純度加工を実現し、産業用材料研究の高度なニーズに応えます。
高温1700℃ 6ゾーン分割型チューブ炉(アルミナチューブ、⽔冷フランジ付き)
材料研究および産業用蒸着用途向けに設計された高精度1700℃六ゾーン分割型チューブ炉です。この多用途システムは、独立した温度ゾーン制御と真空対応フランジを備え、一貫した熱処理と高度な材料開発要件に対応し、最大限の性能を実現します。
材料焼入れおよび単結晶育成用 1700℃高温縦型分割式チューブ炉
この高度な1700℃縦型分割式チューブ炉は、材料の焼入れや単結晶育成のための精密な熱処理を実現します。研究開発向けに設計された本システムは、真空対応およびPID制御を備えており、要求の厳しい産業研究ラボ環境において、信頼性が高く再現性のある結果を提供します。
Kanthal Super 1800 発熱体と60mmアルミナ処理管を備えた1750°C高温卓上真空雰囲気管状炉
Kanthal Super-1800発熱体と高純度アルミナ管を備えた高性能1750°C真空管状炉。精密な材料研究に最適で、本システムは±1°Cの精度と30セグメントのプログラム制御を提供し、要求の厳しい実験室での熱処理および雰囲気制御下での焼結に対応します。
1800°C 高温コンパクト真空管状炉(60mm外径アルミナ管およびKanthal MoSi2発熱体搭載)
この1800°C高温コンパクト真空管状炉は、高品質なKanthal製発熱体と60mm外径のアルミナ管を備えています。材料研究や焼結用に設計されており、研究開発ラボ向けに真空または制御雰囲気下での精密な熱処理を提供します。
高温1700℃チューブ炉(高真空ターボ分子ポンプシステムおよびマルチチャンネルマスフローコントローラーガスミキサー搭載)
この先進的な高温1700℃チューブ炉は、精密ターボ分子高真空ポンプシステムとマルチチャンネルマスフローコントローラーガスミキサーを統合しており、要求の厳しい産業用R&D環境における高度なCVD、拡散、材料研究に卓越したパフォーマンスを提供します。
高温1700℃ スプリットチューブ炉(真空フランジ・バルブ、60mmアルミナ管付き)
60mmアルミナ管と真空フランジを備えた、この高温1700℃スプリットチューブ炉で精密な材料加工を実現します。厳格な研究環境において、精密な雰囲気制御、高度なPIDプログラミング、信頼性の高い高純度熱処理を必要とするR&D用途に最適です。
1700℃水素ガス管状炉 60mmアルミナプロセスチューブ一体型水素安全検知器付き
この高温1700℃水素ガス管状炉は、実験室の安全性を最大限に確保するため、60mmアルミナチューブと電磁遮断弁付きの一体型ガス検知器を搭載しています。可燃性雰囲気または不活性雰囲気環境での材料合成と熱処理用に設計されています。
高温コンパクト真空管状炉 最高1750℃ 60mm外径アルミナ管
高純度アルミナ処理と精密なSCR制御を備えたこの1750℃コンパクト真空管状炉で、材料研究を最適化します。信頼性を重視して設計されており、真空または制御されたガス環境下での先端材料の焼結において±1℃の精度を実現します。
材料科学および産業用熱処理向け真空フランジ・プログラム温度コントローラー付き1100℃管状炉
プログラム可能なPIDコントローラーと高真空フランジを備えた、汎用性の高い1100℃管状炉で、研究室の熱処理プロセスを最適化します。精密な材料合成や産業用R&D向けに設計されており、デュアルオリエンテーション(水平・垂直)の柔軟性と、要求の厳しい用途にも対応する一貫した温度均一性を提供します。
急速熱焼入れおよび制御雰囲気下での材料処理用 ステンレス製真空フランジ付きコンパクト縦型分割式石英管炉
高精度研究用に設計されたこのコンパクトな縦型分割式石英管炉は、最大1100°Cまでの急速加熱を実現します。ステンレス製真空フランジと30セグメントのプログラム制御を備えており、材料科学や工業的な焼入れ用途に不可欠なツールです。信頼性の高い性能を提供します。