製品概要
この実験室規模の卓上システムは、高精度な非消耗真空アーク溶解用に設計されており、材料科学者に高純度金属サンプルや合金処方の合成のための多目的なツールを提供します。真空下または高純度不活性ガスバックフィル条件下で動作し、本装置は高エネルギー電気アークを利用して極限温度に迅速に到達し、るつぼによる汚染なしに難融解金属の加工を可能にします。
本装置は、小規模な試験片の作成を目指す学術研究ラボ、産業用研究開発センター、および冶金ラボに特に適しています。そのコンパクトな設置面積と高速な処理サイクルにより、迅速な実験ランと高スループットな材料スクリーニングに最適です。
頑丈な構造、高度な絶縁シール、および統合された安全インターロックを備え、本システムは高度に再現性のある熱サイクルと信頼性の高い動作を保証します。研究者は、炉チャンバーの構造的完全性が維持されていることを確信しながら、厳しい高電流条件下で繊細な溶解手順を自信を持って実行できます。
主な特徴
- 可動式水冷銅電極: 本装置は、柔軟なベローズアセンブリに取り付けられた高い機動性を持つ電極を特徴としており、オペレーターが単一サイクル内で異なるるつぼキャビティ上にアークを手動で再配置できます。このマルチサンプル設計により、ラン間の真空破断が不要になり、実験スループットが大幅に加速され、プロセス効率が向上します。
- 最適化された卓上省スペース設計: クリーンルームやスペースに制約のある研究環境向けに特別に設計されており、本システムは炉チャンバー、制御パネル、および電源を1つのコンパクトなベンチトップフレームに統合しています。この設計は、ラボの設置面積を最小限に抑えながら、完全な産業グレードの能力を維持します。
- 超高温溶解能力: カスタマイズされた高密度アーク溶解電源を利用し、本システムは瞬時に3500℃までの温度を発生させることが可能です。これにより、研究者は過大な産業用設備を必要とせずに、タングステン、タンタル、モリブデン、ニオブなどの難融解金属を容易に溶解・合金化できます。
- 高真空コンパクトチャンバー設計: 小容量のステンレス鋼真空チャンバーは、迅速な排気と低い不活性ガス消費量を実現するように設計されています。チャンバー容積を最小限に抑えることで、システムは目標の真空レベルに迅速に到達し、パージとバックフィルに必要な高純度アルゴンガスの量を削減します。
- 人間工学に基づいた前面アクセスローディングドア: 真空チャンバーには、左開きまたは右開きのバリエーションで利用可能な、便利な広幅の前面ドアが装備されています。このレイアウトにより、るつぼハースへの直接かつ遮られないアクセスが提供され、サンプルの装填、清掃、および定期的なチャンバー保守が簡素化されます。
- 高度な安全絶縁と取り付け: 底部取り付け式の水冷銅るつぼは、高誘電絶縁シールによって炉ベースに直接固定されています。この設計は電気漏れを防ぎ、ステンレス鋼チャンバーの構造的完全性を保護し、高電流動作中のオペレーターの完全な安全を確保します。
- 用途に合わせた真空システム統合: 特定の用途要件に応じて、システムは様々な真空パッケージで構成可能です。オプションは、基本的な不活性雰囲気溶解用の標準ロータリベーンポンプから、高真空・低汚染合金合成用の拡散ポンプまたはターボ分子ポンプステーションまで範囲に及びます。
用途
この真空アーク溶解システムの多様性により、様々な先進材料工学および冶金研究用途において不可欠なツールとなっています。溶解プールを外部雰囲気やるつぼの汚染物質から隔離することにより、純粋な材料特性の研究が可能になります。
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| 高エントロピー合金(HEAs) | 革新的な多成分固溶合金を生成するために、複数の金属元素を同時に溶解します。 | 優れた化学的均質性を実現し、アルミナまたは黒鉛るつぼからの汚染を防ぎます。 |
| 難融解金属の合成 | 3000℃を超える温度で、タングステン、モリブデン、ニオブ合金などの高融点材料を加工します。 | 瞬時の熱発生と局所的な溶解により、周囲のチャンバー構成部品への熱応力を防ぎます。 |
| 超電導材料 | 厳格な真空または高純度アルゴン下で、高感度な金属間化合物および超電導合金を合成します。 | 酸素と窒素の汚染を最小限に抑え、重要な超電導遷移特性を維持します。 |
| 歯科および生体材料研究 | 生体適合性評価のために、チタン、ジルコニウム、およびコバルトクロム合金の小規模な溶解と鋳造を行います。 | 小サンプル対応能力(5g~20g)により、貴重な原材料を無駄にすることなく、コスト効率の高いテストが可能です。 |
| 高純度スパッタリングターゲット | 薄膜堆積研究用のスパッタターゲットとして使用される、小さく均質な金属ディスクを準備します。 | 一貫したスパッタリング性能のために、サンプル全体で均一な密度と微細構造を保証します。 |
| 金属基複合材料(MMCs) | 強化複合材料の特性を研究するために、溶融金属マトリックスに特殊なセラミック粒子または繊維をブレンドします。 | 急速凝固と激しいアーク攪拌により、強化相の均一な分散が促進されます。 |
技術仕様
本システムは、電気アーク溶解プロセスに対する精密な制御を提供するように設計されています。以下の表は、TU-DH02システムの包括的な機械、電気、および真空仕様を概説しており、調達チームやラボマネージャーが研究施設に適切な構成を選択するのに役立ちます。
| パラメータ | 仕様詳細(TU-DH02) |
|---|---|
| 製品名 | Miniature Vacuum Arc Furnace / 微型真空电弧炉 |
| 型番 | TU-DH02 |
| サンプル溶解能力 | バッチあたり5g~20g |
| 最大溶解電流 | 250 A |
| 溶解温度範囲 | 常温(0℃)~3500℃ |
| 入力電圧 / 周波数 | 220 V AC、単相、50/60 Hz |
| 総消費電力 | 8 kW |
| 装置重量 | 60 kg(システム重量、外部真空ポンプを除く) |
| 電極アセンブリ | 多軸手動操作機能付きの非消耗タングステン電極 |
| るつぼ設計 | チャンバーから電気的に絶縁された水冷銅型 |
| チャンバードアアクセス | 観察窓付きヒンジ式前面ドア(左/右構成) |
| 標準真空パッケージオプション | - 統合真空バルブ付きメカニカルポンプ - 中真空用メカニカルポンプ+拡散ポンプ - 超高真空用メカニカルポンプ+分子ターボポンプ |
| チャンバーベント | 独立した手動ベントおよびガス導入バルブ |
| シャーシ / フレーム仕上げ | 産業用耐摩耗性のための静電粉体塗装鋼製フレーム |
| 冷却水要件 | 連続的な外部冷却水供給(ユーザー準備) |
TU-DH02の真空レベルは、選択された排気構成に大きく依存することに注意してください。基本的なメカニカルポンプは不活性ガスパージに適していますが、高真空構成は、深い真空レベルに到達し、重要なアーク溶解段階での酸化を防ぐために、高真空拡散またはターボ分子システムを使用します。
この製品を選ぶ理由
- コンパクトな本体での産業グレードの信頼性: 高級ステンレス鋼チャンバーと頑丈な静電仕上げで設計されており、この炉は大型産業用溶解炉の耐久性をコンパクトなベンチトップシステムで提供します。
- 高効率なリソース管理: 小さな真空チャンバー容積と高真空シールの完全性により、真空ポンプの排気時間と高純度アルゴンガスの消費量が絶対的な最小限に抑えられ、長期的な運用コストが削減されます。
- 高度にカスタマイズ可能なハース構成: 水冷銅ハースは、様々なサンプル形状、吸引鋳造モジュール、または合金ボタンの寸法に対応するために、特定のキャビティ形状、深さ、およびレイアウトでカスタム加工可能です。
- 包括的な安全システム: 完全な電気的絶縁、統合された水流冷却安全プロトコル、および頑丈なチャンバー絶縁により、オペレーターと外部制御を溶解中に発生する極端な電流と熱から保護します。
- 専門的なエンジニアリングサポート: 我々はエンドツーエンドの技術支援を提供し、システム統合、カスタム真空レイアウト、および設置後の最適化において、調達およびエンジニアリングチームを支援します。
カスタム構成、マルチキャビティるつぼオプション、または競争力のある価格見積もりをご希望の場合は、本日までに技術営業部門までお問い合わせください。
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