高融点金属溶解およびバルクアモルファス材料研究用非消耗電極式真空アーク炉

製品概要

本システムは、不活性ガスまたは高真空条件下で先端材料の高温処理を行うために設計された非消耗電極式真空アーク溶解炉です。3500°Cを超えるアークプラズマ温度を実現し、加工が困難な高融点金属の溶解を可能にします。統合されたマルチステーション・るつぼ、吸引鋳造、真空機能を備えており、冶金研究や小規模生産のための完全なプラットフォームを提供します。

主な用途は、大学、材料科学研究所、および新しい合金、アモルファス材料、高純度金属を開発する産業用R&Dセンターです。典型的なアプリケーションには、ハイエントロピー合金の合成から、吸引鋳造による引張試験片の作製までが含まれます。炉の柔軟な構成は、粉末、チップ、ワイヤー、顆粒など幅広いサンプル形態に対応し、迅速な反復実験を可能にするため、先端材料イノベーションに不可欠なツールとなっています。

信頼性を追求した設計で、高耐久の水冷コンポーネント、工業グレードの真空シール、高精度PLC制御システムを搭載しています。サイドドア設計により積み下ろしが容易で、大型観察窓によりリアルタイムの監視が可能です。すべての側面が過酷な実験環境での一貫した性能のために強化されており、実験ごとに再現性の高い結果を保証します。

主な特長

• 超高温アークプラズマ: タングステン電極が3500°Cを超える温度のアークを生成し、事実上あらゆる金属を溶解可能です。タングステン、タンタル、モリブデンなどの高融点金属や超高温セラミックスに最適です。
• 大口径観察窓: 広視野のビューポートにより、動作中のメルトプール、電極位置、サンプル状態をリアルタイムで明確に視覚化できます。これによりプロセス制御と安全性が向上し、オペレーターはパラメータを即座に調整できます。
• 反転・撹拌機能付きマルチポジション・るつぼ: 1〜5個の半球状溶解ポケット（ø70×30 mm、容量130〜250 g）を備えています。1つのステーションには均質な合金化のための電磁撹拌機能があり、手動反転ハンドルにより、雰囲気を乱すことなくサンプルの回転や移動が可能です（多段階溶解プロセスに不可欠）。
• 統合型吸引鋳造モジュール: スライドフィット式の専用グラファイト金型システムにより、溶解物から直接、引張試験片、ロッド、その他の小さな部品を素早く鋳造できます。サンプル重量は30〜100 gで、機械的特性評価用のテストクーポン作製に最適です。
• 構成可能な高真空システム: ダイレクトドライブポンプ単体、または拡散ポンプや分子ポンプとの組み合わせを選択可能で、最大≤5.0×10⁻⁴ Paの極限真空度に到達します。これにより酸素や窒素の混入を最小限に抑え、材料の純度を保持します。
• 柔軟なサンプル投入形態: 粉末、ワイヤー、チップ、ドリル屑、顆粒、棒、リング、さらには不規則なスクラップまで受け入れ可能です。この汎用性によりサンプル準備時間を短縮し、多様な研究ワークフローに対応します。
• 迅速な溶解サイクル時間: 高密度アークと効率的なるつぼ冷却により、ほとんどの金属材料を1分以内に完全に溶解できます。この高いスループットが実験キャンペーンを加速させます。
• 人間工学に基づいたサイドローディングチャンバー: 上部投入式とは異なり、サイドドア開口部は、重いサンプルや扱いにくいサンプルの積み下ろしを容易にします。ドアには独自の観察窓があり、積み込み中の監視も便利です。
• 高精度PLCタッチスクリーン制御: 電流、真空度、撹拌、シーケンスなどのすべてのパラメータは、PLCロジックを備えたユーザーフレンドリーなタッチスクリーンインターフェースで制御されます。データログとレシピ保存により、一貫した再現性と操作の簡素化を実現します。
• 非消耗電極システム: アークカソードには高耐久のタングステンチップを使用しており、頻繁な交換が不要で、運用コストとダウンタイムを削減します。電極の高さは電動で調整可能で、最適なアークギャップ制御が可能です。

用途

技術仕様

本製品を選ぶ理由

• 妥協のない高温性能: 安定した電流制御により3500°C超を維持できるアーク炉の能力は、従来の抵抗加熱炉や誘導炉では溶解できない材料の研究を可能にします。当社の設計は均一な加熱と迅速な溶解時間を保証し、酸化リスクを低減してインゴットの均質性を向上させます。
• 堅牢で適応性の高いプラットフォーム: 構成可能な真空システム、複数のるつぼ形状、オプションの吸引鋳造や傾斜鋳造により、幅広い実験プロトコルに適応します。特殊な形状のるつぼからグローブボックス統合まで、特殊用途向けのカスタムエンジニアリングも提供しています。
• 過酷な研究室での実績ある信頼性: 世界中のトップ研究機関で10年以上にわたるフィールド使用実績が、水冷銅るつぼ、高品質真空シール、工業用PLC制御の耐久性を証明しています。システムは最小限のダウンタイムで24時間365日の稼働を想定して設計されています。
• 操作とデータ管理の簡素化: 直感的なタッチスクリーンインターフェースとPLCプログラミングにより、オペレーターはレシピの保存と呼び出し、プロセスデータの記録、真空度と電流の傾向監視が可能です。これによりトレーニング時間を短縮し、実験の再現性を確保します。
• 包括的なサービスとサポート: 設置・試運転から継続的な技術相談まで、経験豊富なエンジニアがタイムリーにサポートします。予防保守契約、スペアパーツパッケージ、迅速な対応を提供し、お客様の研究を前進させます。

特定の溶解要件についてのご相談や、先端材料研究のためのカスタム構成のご依頼は、今すぐお問い合わせください。