製品概要

この高性能な真空溶解・鋳造システムは、高度な冶金に取り組む材料科学者や産業研究者にとって洗練されたソリューションです。高温溶解能力に、統合型機械攪拌および多段階二次投入機能を組み合わせることで、卓越した均一性を備えた複雑合金の作製を可能にします。この装置は、特に揮発性元素や反応性元素を含み、正確な化学量論を維持するために制御された環境を必要とする高純度金属合金の調製に向けて設計されています。
主にリチウム系アノード、マグネシウム合金、熱電子材料の開発に用いられ、本システムは相変態エネルギー貯蔵研究のための多用途なプラットフォームを提供します。次世代電池製造から航空宇宙材料開発まで、幅広い分野で重要な役割を果たします。真空下または不活性雰囲気下で、水冷式または耐火性金型へ直接鋳造できるため、急冷と高スループットな合金スクリーニングを必要とする研究室にとって不可欠な装置です。
産業グレードのステンレス鋼と高真空コンポーネントで構成されており、長期にわたる運転信頼性を確保します。高度な圧力検知とプログラム可能な温度制御システムの統合により、数千回のサイクルにわたって再現性のある結果を実現します。基礎的な学術研究にも産業用パイロット生産にも使用できる本システムは、重要な材料合成に必要な精度と堅牢性を備え、あらゆる鋳造品が最も厳格な品質基準を満たすことを保証します。
主な特長
- 統合型機械攪拌:本システムには、合金元素を均一に分散させるために設計された内蔵型機械攪拌機構が搭載されています。これは、特に密度の異なる成分を扱う際に、元素の偏析を防ぎ、均質な溶湯を得るために重要です。
- 三路式二次材料供給装置:真空を破らずに揮発性ドーパントを添加できるよう、溶解工程中に最大3種類の異なる材料をるつぼへ導入できる専用供給装置を備えています。これにより、真空環境の完全性を維持しながら、正確な組成制御が可能になります。
- 高精度ロッカーアーム鋳造:真空チャンバー内には高精度ロッカーアームが搭載されており、操作者がるつぼを回転させて溶融金属を金型へ直接鋳込むことができます。この機構は、急冷用の水冷銅金型と、制御固化用の耐火金型の両方に対応します。
- 高真空性能:ターボ分子ポンプ用の専用DN160 ISO-Kポートを含む複数の真空ポートを備え、最大1E-6 torrの真空度を達成できます。この高真空環境は、酸化や汚染を防ぐうえで不可欠です。
- 高度な熱制御:NiCrAl抵抗コイルヒーターと30セグメントのプログラム可能なPIDコントローラーを採用し、±1ºCの温度精度を維持します。オートチューニングと過熱保護機能により、最大1200ºCの範囲でプロセスの安全性と一貫性を確保します。
- 二雰囲気運転:本装置は、高真空および正圧の不活性ガス雰囲気(最大2 bar)の両方で効果的に機能するよう設計されています。この柔軟性により、揮発性成分の蒸発を抑制するために特定の加圧を必要とする材料も処理できます。
- 高視認性観察:直径Ø120 mmの大型石英観察窓をチャンバーに統合しており、研究者は溶解および鋳造工程をリアルタイムで安全かつ明瞭に観察できます。これは相変化や攪拌効率の監視に極めて重要です。
- 耐腐食圧力モニタリング:セラミックコーティングされた静電容量式ダイヤフラムゲージを搭載し、高真空から大気圧まで正確な圧力測定を行います。反応性のある金属蒸気による腐食にも耐性があります。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| リチウムアノード開発 | 高エネルギー密度電池向けのLi–3Al–1Ybのような複雑なLi系電極の合成。 | 反応性の高いリチウム合金に対して、正確な化学量論比と高純度を確保します。 |
| 航空宇宙冶金 | 構造部品向けの軽量マグネシウム合金およびアルミニウム合金の研究開発。 | 反応性金属の酸化を防ぎながら、元素の均一分散を実現します。 |
| エネルギー貯蔵材料 | 熱エネルギー貯蔵システムに使用される相変態材料の調製。 | 優れた溶湯均一性により、一貫した熱特性を提供します。 |
| 熱電子材料 | 電子ヒートシンクおよび熱管理インターフェース向けの特殊合金の製造。 | 不純物や空隙を除去することで高い熱伝導率を実現します。 |
| 半導体ドーパント | 半導体製造におけるドーパント源として使用する高純度金属の溶解および合金化。 | 二次投入機能を用いて、ドーパント濃度を正確に制御できます。 |
| 核材料研究 | 高放射線または高温の原子炉環境で使用される金属合金の合成。 | 堅牢なステンレス鋼構造により、安全な取り扱いと高真空の完全性を確保します。 |
技術仕様
| 仕様カテゴリ | パラメータ詳細(TU-RL03) |
|---|---|
| 電源要件 | 208 - 240 VAC、単相;最大消費電力 3500W |
| 最高温度 | 1200ºC(最大加熱速度は負荷に依存) |
| 温度精度 | 30セグメントのプログラム可能なPIDコントローラーで±1ºC |
| 真空チャンバー材質 | 産業グレードのステンレス鋼 |
| チャンバー寸法 | Ø315 mm × 315 mm H(内寸) |
| 観察窓 | Ø120 mm 石英窓 |
| 標準るつぼ 1 | 黒鉛:外径 Ø47 × 内径 Ø35 × 高さ 88 mm;容量:約70 ml(Fe 最大400g) |
| 標準るつぼ 2 | 黒鉛:外径 Ø75 × 内径 Ø60 × 高さ 105 mm;容量:約250 ml(Fe 最大1200g) |
| オプションライナー | 両方の黒鉛るつぼサイズに対応するBNライナーあり |
| 攪拌機能 | 溶湯の均一化のための統合型機械攪拌 |
| 二次供給装置 | 真空封止された材料追加用の3チャンネルドーパント供給装置 |
| 鋳造機構 | 金型への手動傾動鋳造用内部ロッカーアーム |
| 真空ポート 1 | ターボ分子ポンプ接続用 DN160 ISO-K(左側) |
| 真空ポート 2 & 3 | 補助真空システム用 KF25 および KF40(背面) |
| 計測ポート | ゲージまたはアクセサリ用に上部に KF16 ×2 と KF25 ×1 |
| 真空性能 | 10E-2 torr(機械式);2E-5 torr(67L/s ターボ);1E-6 torr(260L/s ターボ) |
| 正圧 | 最大 2 bar(29 psi)の不活性ガス圧 |
| 圧力計測 | 耐腐食性静電容量式ダイヤフラムゲージ(3E-5~1013 torr) |
| ガス制御 | フロート式流量計付属(0.2 - 2 L/min 範囲) |
| 認証 | CE認証済み(NRTL および CSA は要望に応じて対応可) |
高真空溶解鋳造炉を選ぶ理由
- 優れた溶湯均一性:能動的な機械攪拌と精密な二次投入を組み合わせることで、標準炉では製造不可能な複雑合金の作製が可能になります。これにより、研究対象材料の特性が一貫し、予測可能であることが保証されます。
- 堅牢な真空完全性:当社の設計は高真空性能に重点を置き、ISO-KおよびKF規格を採用して、大気汚染のないプロセスを維持します。これは高純度金属研究に不可欠です。
- 多用途な鋳造オプション:さまざまなるつぼサイズ、BNライナー、複数の金型タイプに対応し、本システムは研究を装置に合わせるのではなく、研究内容に合わせて柔軟に適応します。
- 実証済みの産業信頼性:NiCrAl加熱コイルやセラミックコーティングセンサーなどの高品質部品を採用し、産業R&D環境で求められる高い稼働率に対応できるよう設計されています。
- カスタマイズ可能な構成:研究室や生産施設の特定の安全・性能基準に適合するよう、さまざまなポンプ構成や認証オプションを提供します。
詳細な技術相談や、特定の合金研究要件に対する正式なお見積りをご希望の場合は、どうぞ本日中に当社エンジニアリングチームまでお問い合わせください。
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい!
関連製品
1900°C 最大高温 7KW 真空誘導溶解システム(60mm石英管・手動温度制御付き、金属合金研究用)
この7KW真空誘導溶解システムは、金属合金研究のために最高温度1900°Cを実現します。60mm石英管、ステンレス製真空フランジ、グラファイトるつぼ、循環式水冷チラー、ロータリーベーン真空ポンプをモバイルカートに搭載した構成です。
1750℃ 真空高周波金属加工ユニット用 誘導溶解鋳造炉
プロ仕様の1750℃誘導溶解鋳造炉は、真空または不活性ガス条件下で高純度合金の製造を実現します。15kWの出力と一体型ドロップキャスティングを備え、このシステムは高度な冶金研究および産業試作向けに精密な熱制御を提供します。
撹拌機能・グローブボックス一体型 10坩堝自動誘導溶解鋳造システム 2000℃対応
本装置は合金研究の効率化を実現する10坩堝対応の自動誘導溶解鋳造システムです。超高純度グローブボックス内に撹拌機能を統合し、2000℃までの処理に対応。ハイスループットな材料探索と24時間連続自動運転を可能にし、要求の厳しい産業・研究開発ラボに対応します。
雰囲気制御型誘導溶解 грануляция 鋳造炉 1500℃ 5kg容量
この業務用の雰囲気制御型誘導溶解炉は、最大1500℃、5kg容量で精密な造粒を実現します。産業向け研究開発に対応するよう設計されており、統合された真空制御と水冷急冷機能により、より高純度な合金加工と材料の均一性を実現します。
金属合金加工用超高純度グローブボックス一体型高温誘導溶解システム
グローブボックス一体型の高温誘導溶解システムで、精密な熱処理を実現。先進的な材料科学研究や、空気に対して敏感な金属合金の開発・製造向けに、酸素および水分濃度を1ppm未満に維持します。
雰囲気制御型誘導溶解鋳造システム 1600℃ 10L容量
高度な冶金研究のためのプロフェッショナル向け高温雰囲気制御型誘導溶解・鋳造システムです。1600℃の熱処理能力と10Lの容量を備え、真空対応により、要求の厳しい材料科学、産業用合金開発、金属製造用途において優れた純度を保証します。
貴金属溶解および材料研究用 高真空対応1100℃コンパクトトップローディング式縦型真空管状炉
この1100℃コンパクトトップローディング式縦型真空管状炉は、貴金属の溶解や材料研究に高真空環境を提供します。精密なPID制御と高耐久ヒーターを備え、要求の厳しい研究開発や産業用熱処理アプリケーションにおいて、信頼性の高い安定した性能を発揮します。
超合金研究用高スループット誘導溶解・鋳造炉 1700℃ 雰囲気制御マルチサンプルシステム
この高スループット誘導溶解・鋳造システムで材料研究を加速させましょう。雰囲気制御下で1700℃、1バッチあたり32サンプルを処理可能。急速な合金開発に理想的なシステムで、厳しい産業用・実験室用熱処理プロセスに対し、一貫性のある高純度の結果を提供します。
高温真空焼結・溶解用温度制御付き誘導加熱システム
このプロフェッショナル誘導加熱システムは、高度な冶金プロセス向けに1900ºCまでの急速熱処理を提供します。精密なPID温度制御、真空能力、統合水冷機能を備え、金属溶解、焼結、革新的な材料研究における卓越した信頼性を保証します。
二次投入機能付き雰囲気制御式連続鋳造炉(誘導溶解および金属合金ワイヤ製造用)
二次投入機能と誘導溶解を備えたこの雰囲気制御式連続鋳造炉で、材料研究を最適化しましょう。精密な1700℃温度制御と統合された真空機能を備え、アディティブ・マニュファクチャリング(AM)向けの高純度合金製造において優れた結果を実現します。
材料焼結および研究用アニール向け 8インチIDチャンバー搭載 1000℃高温真空炉
8インチIDチャンバーを備えたこの1000℃真空炉で、精密な焼結やろう付けなど、優れた熱処理を実現します。このデュアルゾーンシステムは、超高真空レベルとEurotherm PID制御を提供し、要求の厳しい産業用R&D材料科学アプリケーションに対応します。
先端材料焼結・アニール用高温コールドウォール真空炉 1600℃ 加熱エリア 200x200x300mm
この高温コールドウォール真空炉は、クリーンな金属加熱ゾーン内で1600℃の熱処理を実現します。一体型水冷チラーと高精度Eurothermコントローラーを搭載し、先端冶金や材料科学研究に不可欠な汚染のない環境を保証します。
溶融塩電解機能と3000度精密制御を備えた超高温誘導加熱真空炉
高純度黒鉛化およびセラミック焼結向けに設計された、精密3000ºC誘導加熱真空炉です。この多用途熱処理システムは、先進的な誘導技術とオプションの溶融塩電解機能を備え、今日の最も要求の厳しい産業R&Dおよび材料科学用途に対応します。
先端材料加工用 1400℃ 高温コールドウォール高真空チャンバー炉
この1400℃対応コールドウォール高真空チャンバー炉で研究を最適化しましょう。水冷式ステンレス製容器と金属断熱材を採用し、超クリーンな処理を実現。1e-6 torrの真空度を達成し、高純度熱処理や先端材料開発に最適です。
熱処理および焼結用石英チャンバー搭載 1100C 高温真空るつぼ炉
この1100C真空るつぼ炉は、精密な熱処理のための石英チャンバーを備えています。真空または不活性雰囲気下での焼結および熱処理用に設計されており、材料科学研究、産業エンジニアリング、およびプロフェッショナルな研究開発ラボの品質要件に応える一貫した結果を提供します。
縦型真空炉 1100℃ 高温 8インチ石英チャンバー 水冷フランジシステム
半導体ウェハー処理用に設計された、8インチ石英チャンバーと水冷フランジを備えた高度な1100℃縦型真空炉です。材料研究、工業用アニール、焼成用途において、高性能な真空レベルと精密な熱制御を実現します。
マルチキャビティるつぼ搭載 15kW高精度デジタル温度制御付き高温誘導溶解システム
最大2000°Cまで対応可能なマルチキャビティるつぼを備えた15kW誘導溶解システムで、材料研究を強化します。真空または不活性ガス雰囲気下での高精度デジタル制御と高スループットな合金開発を実現し、最適な結果を提供します。
コンパクト高真空ボックス炉 1050℃対応 6.2L セラミックチャンバー ステンレスシェル 材料科学研究用プログラム温度コントローラー付
6.2Lセラミックチャンバーと10-4 torrの真空性能を備えた1050℃対応真空ボックス炉で、研究室の熱処理プロセスを最適化します。制御された雰囲気下や精密な真空環境下での焼結、アニール、熱処理に最適で、高度な産業研究用途に適しています。
一体型ターボポンプシステムと8インチ加熱ゾーンを備えた1200℃高真空コンパクトチューブ炉
この1200℃高真空コンパクトチューブ炉は、10^-5 torrを実現する一体型ターボポンプシステムを搭載しています。材料科学の研究開発に最適で、精密なPID制御、8インチの加熱ゾーン、そして処理用の堅牢な石英管構造を備えています。
モリブデン加熱式 400mmキューブワークゾーン 1600°Cコールドウォール高真空チャンバー炉
本1600°Cコールドウォール高真空チャンバー炉で、優れた材料純度を実現します。64リットルの金属加熱ゾーンと超高真空レベルを備え、現代の高度な冶金、結晶成長、特殊半導体研究用途向けに設計されています。