製品概要

本システムは、超低圧または高純度不活性ガス環境下での高反応性金属の溶解、合金化、鋳造のために設計された、特殊な熱処理ソリューションです。主に金属リチウムやその他の揮発性合金の取り扱いを目的として設計され、高度な誘導加熱技術を利用して急速な昇温速度と優れた熱効率を実現します。材料を密閉真空チャンバー内に隔離することで、大気中の酸素、窒素、水分との反応を防止し、処理されたサンプルの化学的純度と構造的完全性を維持します。
高温研究室研究および産業研究開発に最適化された本装置は、全固体電池開発、航空宇宙冶金学、希土類磁石合成、先進核材料研究などで広く利用されています。高精度温度追跡と自動化された雰囲気制御の統合により、材料科学者は再現性の高い溶解サイクル、鋳造操作、および熱処理を実施できます。そのコンパクトな設置面積と一体化された構造設計は、パイロットスケールの能力を犠牲にすることなく研究室の床面積を節約する必要がある施設に理想的です。
厳しい熱サイクルと連続運転に耐えるよう構築された本装置は、堅牢な構造材料と高品質の産業用コンポーネントに依存しています。真空チャンバーは高品位ステンレス鋼から精密溶接で製造され、リーク率を最小限に抑え、長期的な耐久性を確保します。統合された安全インターロックネットワーク、水冷モニター、自動圧力リリーフシステムにより、オペレーターとシステムコンポーネントの両方をあらゆる高温運転中に保護するため、オペレーターは安心して作業を進めることができます。
主な特長
- 高度な誘導加熱効率: 高周波誘導コイルがるつぼアセンブリと直接結合し、迅速な熱伝達を実現。完全溶解およびサンプル試験サイクルを10分未満で完了可能。
- 超高真空性能: 機械ポンプを備えた大容量ターボ分子ポンプシステムを装備。6.67 × 10^-4 Paの究極の低温真空レベルを達成し、大気汚染物質を排除。
- 非接触赤外線高温測定: 内蔵の光学高温計が接触することなく溶解温度を連続監視。センサーの劣化を防止し、全動作範囲にわたり正確なPIDフィードバックを提供。
- インテリジェントPLCおよびタッチスクリーン自動化: ヒューマンマシンインターフェースにより、オペレーターは多段階加熱レシピのプログラミング、ガスパージサイクルの制御、システム状態の視覚的グラフィックの監視、過去のプロセスデータの記録が可能。
- 二重ガス不活性保護管理: 高純度窒素またはアルゴンの最大0.03 MPaまでの制御されたバックフィリングをサポートする設計。金属蒸発を抑制するための制御された正圧処理を可能にする。
- 二重壁水冷チャンバー: 重厚なステンレス鋼真空チャンバーは、内蔵の水冷チャネルを備え、外側が触れても冷たい状態を保ち、Oリングシールが熱応力から保護される。
- 包括的な多層安全インターロック: 自動保護ループが水流量、チャンバー圧力、誘導コイル電力を監視。運転パラメータが安全閾値から逸脱した場合、直ちにシャットダウンシーケンスを実行。
- 精密機械鋳造統合: 人間工学に基づいて配置された注湯制御により、完全真空または不活性ガス条件下で滑らかで制御されたるつぼの傾斜が可能。一貫したインゴット鋳型を生成。
アプリケーション
| アプリケーション | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| リチウム電池負極研究 | 厳格な不活性ガスまたは真空条件下での金属リチウムおよびリチウム系合金の溶解と鋳造。 | 酸化物および窒化物の形成を防止し、負極材料の高い電気化学的性能を確保。 |
| 希土類磁石合成 | 酸化を受けやすいネオジム-鉄-ボロン(NdFeB)およびその他の希土類合金の処理。 | 揮発性合金元素の損失を最小限に抑え、磁気特性を保持。 |
| 航空宇宙用超合金開発 | 航空宇宙構造部品用のニッケル、コバルト、チタン系合金の真空誘導溶解。 | 気体介在物を排除し、鋳造部品の均一な結晶粒構造を達成。 |
| 耐火金属及び貴金属 | 低圧環境下での銅、貴金属、高導電性合金の溶解と精製。 | 高周波加熱により均一な熱分布を確保し、炭素汚染を防止。 |
| 核エネルギー材料研究 | 重金属および放射性封じ込め被覆管材料の熱処理と合金配合。 | 安全な真空シールとガスろ過により、有害な微粒子の放出を防止。 |
| 先進鋼鉄及び鉄合金 | 機械試験用の特殊鋼、ステンレス鋼、工具鋼の小規模鋳造。 | 高い熱上昇率により、実験的合金配合の迅速なスクリーニングが可能。 |
技術仕様
| パラメータ | 仕様 (モデル: TU-RL33) |
|---|---|
| モデル識別子 | TU-RL33 |
| 定格温度 | 1100°C |
| 温度範囲 | 0°C ~ 1100°C |
| るつぼ投入容量 | 50 g ~ 200 g (材料密度により異なる) |
| 究極低温真空レベル | 6.67 × 10^-4 Pa |
| 雰囲気ガス | 窒素 (N2)、アルゴン (Ar) |
| 最大雰囲気圧力 | ≤ 0.03 MPa |
| 制御インターフェース | 産業用PLC + タッチスクリーンHMI |
| 電源要件 | 380V、3相、50Hz |
| 装置総重量 | 約300 kg |
| 安全保護 | 水冷却警告、真空インターロック、過熱警報 |
この製品を選ぶ理由
- 高品質な冶金学及び製造: 真空チャンバーはヘリウムリークテスト済みの二重溶接ステンレス鋼構造を採用。高真空条件下での長寿命を設計。
- 卓越したプロセス再現性: PLC駆動のレシピ管理により、真空レベル、ガスパージ、加熱プロファイルを精密に制御。複数の研究試験にわたる一貫した結果を確保。
- 統合された安全インフラストラクチャー: 水流量、ガス圧力、コイル電流の多点監視により、多忙な学術および産業研究ラボでの安心を提供。
- 迅速な昇温とサイクルタイム: 直接誘導加熱により、予熱およびサイクルタイムを短縮。研究者は数時間ではなく数分で材料試験を完了可能。
- サポートとカスタマイズ: 包括的な保証と専任のエンジニアリングチームによるサポート。特定のプロジェクトに合わせて、るつぼ容量、誘導コイル、真空構成をカスタマイズ可能。
カスタム構成、詳細なアプリケーション評価、または正式な見積もりのご依頼については、本日より当社の技術営業チームまでお問い合わせください。
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