製品概要

この真空誘導溶解炉は、研究および生産環境における高純度合金処理のために設計されています。50kgの容量と中周波電源を備え、厳密な雰囲気制御を維持しながら迅速かつ均一な溶解を実現します。統合システムは、堅牢な炉室と精密な温度調節、真空技術を組み合わせており、先進材料開発のための汎用性の高いツールとなっています。
冶金学研究所、大学、産業研究開発向けに設計された本装置は、真空または保護雰囲気下でのステンレス鋼、ニッケル基超合金、銅、特殊合金の溶解に優れた性能を発揮します。溶解と精密鋳造の両方をサポートし、オプションのポーリング機構により直接サンプル成形が可能です。プログラム可能なコントローラーの追加により、過酷な用途におけるプロセスの再現性がさらに向上します。
全ステンレス鋼構造と内部精密研磨を採用したこの炉は、長期的な耐久性とクリーンな運転を保証します。水平分割式チャンバー設計により、ワークの投入と観察が容易になり、IGBTベースの電源は静かでエネルギー効率の高い溶解を実現します。すべてのコンポーネントは、連続的な高温条件下でも確実に動作するように選定されており、オペレーターは一貫性と再現性のある結果に自信を持つことができます。
主な特長
- 高速溶解性能: 高度なIGBT中周波電源により、高速加熱を実現し、サイクルタイムを大幅に短縮します。オプションの断熱カバーにより、難溶解合金用に最大2100°Cまでの温度到達が可能です。
- プログラム可能な温度制御: 精密PIDコントローラーは、ユーザー定義の昇温・保持プロファイルをサポートし、複雑な熱サイクルの自動実行を可能にします。これにより、重要なプロセスの正確な再現性が確保されます。
- 統合型ポーリング機構: 内蔵チルトシステムにより、溶融金属を顧客提供のインゴット型に安全に移送し、真空または雰囲気の完全性を損なうことなく、所望の形状への直接鋳造を可能にします。
- 堅牢なステンレス鋼構造: チャンバーとフレームは完全にステンレス鋼で製造され、内部は研磨されて清掃が容易で耐食性に優れています。外装は耐久性のある焼付塗装仕上げです。
- ユーザー中心のドア設計: 水平分割式前面ドアは、ワークの容易な出し入れのための広いアクセスを提供し、運転中の溶解状態を明確に観察できます。
- 高性能真空システム: 2段階ポンピング構成(機械ポンプ+拡散ポンプ)により、到達真空度6.7×10⁻³ Paを実現します。より高い真空度が必要な場合は、オプションで分子ポンプシステムへのアップグレードが可能です。
- 静かでエネルギー効率の高い運転: IGBTベースの電源は、最小限の騒音と高い電気効率で動作し、完全な溶解能力を維持しながらエネルギー消費を削減します。
- 安全性と信頼性: 統合水冷システム、過熱保護、漏れのない設計により、24時間365日の生産環境でも安全で中断のない運転を保証します。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| ステンレス鋼溶解 | 耐食性部品の試作および特殊合金開発のための高純度ステンレス鋼インゴットの調製。 | 酸化のない溶解により、合金の化学組成と機械的特性が保持されます。 |
| ニッケル基超合金加工 | 航空宇宙およびタービン研究用のインコネルやハステロイなどの超合金の溶解および鋳造。 | 精密な温度制御により炭化物の析出を防止し、均一な微細組織を確保します。 |
| 銅および銅合金溶解 | 真空下での無酸素銅、黄銅、青銅の加工により、ガス孔を除去し高い導電性を確保。 | 真空環境により酸素吸収を防止し、優れた電気的・熱的特性が得られます。 |
| 希土類磁石合金調製 | エネルギーおよび電子分野における永久磁石開発のためのNdFeBおよびサマリウムコバルト合金溶解。 | 高速溶解と制御された雰囲気により、希土類元素の酸化損失を最小限に抑えます。 |
| 真空精密鋳造 | 複雑な金型に直接注入し、微細な表面仕上げと最小限の後処理でニアネットシェイプ部品を製造。 | ガス欠陥や介在物を除去し、鋳造歩留まりと完全性を向上させます。 |
| 合金研究開発 | 状態図研究、プロセス最適化、新素材スクリーニングのための実験用合金の小ロット合成。 | 柔軟なプログラミングと迅速なサイクルターンアラウンドにより、開発期間を短縮します。 |
技術仕様
| パラメータ | 値 |
|---|---|
| モデル | TU-RL41 |
| 容量 | 50 kg |
| 最高温度(標準) | 1750°C |
| 最高温度(断熱カバー使用時) | 2100°C |
| 温度制御精度 | ±1°C(PIDプログラム可能コントローラー経由) |
| 加熱電力 | 160 kW |
| 周波数範囲 | 1000–4000 Hz |
| 到達真空度 | 6.7×10⁻³ Pa |
| 真空ポンプ構成 | 機械ポンプ + 拡散ポンプ(2段階) |
| オプション真空アップグレード | より低圧用の分子ポンプシステム |
| 電源タイプ | IGBT中周波、水冷式 |
| チャンバー材質 | 全ステンレス鋼、内部精密研磨 |
| ドアタイプ | 水平分割、前面開口 |
| ポーリング機構 | インゴット鋳造用統合チルトシステム |
| 制御インターフェース | プログラム可能プロファイルとデータロギング機能付きデジタルPID |
| 冷却 | 電源および誘導コイル用密閉循環水冷 |
| 安全機能 | 過熱警報、ドアインターロック、非常停止 |
| 全体寸法(概算) | 詳細なレイアウトおよび床面要件については工場にご相談ください |
| 電源 | 3相、380 V、50/60 Hz(カスタム電圧対応可) |
| オプションアクセサリー | 断熱カバー、追加熱電対、鋳造金型、ガス処理システム |
この製品を選ぶ理由
- 長期的な信頼性のために設計: すべてのシステムは、連続運転を想定した産業用グレードのコンポーネントで構築されています。堅牢なステンレス鋼構造、水冷コイル、実績あるIGBTパワーエレクトロニクスにより、過酷な研究開発および生産環境でも10年以上の長寿命を保証します。
- 優れた製造品質: 精密研磨されたチャンバーから密封された真空継手まで、この炉は細心の製造工程を反映しています。厳格なヘリウムリーク試験と工場での徹底的なテストにより、開梕即性能を保証します。
- お客様のプロセスに合わせてカスタマイズ可能: プログラム可能な制御、複数の温度範囲、一連のオプションアクセサリー(分子ポンプアップグレード、断熱カバー、カスタム金型)により、装置全体の交換を必要とせずに、進化する冶金学的ニーズに適応します。
- 業界をリードする専門知識とサポート: 当社は、包括的な設置、トレーニング、アフターサービスを提供します。アプリケーションエンジニアがプロセス開発を支援し、お客様の投資から最大の価値を引き出すお手伝いをします。
溶解および鋳造工程における精密工学の違いを体験してください。特定の要件についてご相談いただき、お客様に合わせた見積もりをご請求ください。
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