製品概要


この高温横型熱処理システムは材料科学計測の大きな進歩を代表するもので、特に電気支援焼結(EAS)およびフラッシュ焼結プロトコル向けに設計されています。精密制御された1600℃横型チューブ炉と、一体型の3KWプログラム可能AC電源を組み合わせることで、本装置は研究者がセラミックスの緻密化に対する電界の変革効果を調査できるようにします。この一体型アプローチにより、熱エネルギーと制御された電流を同時に印加することが可能となり、従来の方法と比較して大幅に低い温度かつ短い時間での材料焼結を実現します。
本システムは主に、技術セラミックス、固体電解質バッテリー、高性能複合材料を研究する最先端の研究室環境や産業R&Dセンターで利用されています。横型構成は特殊なサンプル装填に最適化されており、スライド式フランジシステムを搭載しているため、高温ゾーン内への繊細なセラミックス試料の配置を効率化します。フラッシュ焼結以外にも、本装置は雰囲気制御熱処理、化学気相成長(CVD)、粉体仮焼の多用途なプラットフォームとして機能し、固体イオニクスや構造セラミックス工学の境界を押し広げる研究機関にとって欠かせない資産となっています。
要求の厳しい研究室環境での高負荷サイクル性能向けに設計された本システムは、信頼性と精度を重視しています。高純度アルミナプロセスチューブから白金電極フィードスルーまで、すべてのコンポーネントが極端な熱勾配と電気負荷に耐えられるよう選定されています。この堅牢な構造により、毎サイクルで再現性のある高密度な結果を達成でき、査読付き研究や商用グレードの先進材料開発に必要な確実性を提供します。本装置は厳格な真空完全性と温度均一性を維持するよう製造されており、国際材料科学界の厳しい基準を満たしています。
主な特長
- 一体型 3KW プログラム可能 AC 電源:本システムには、最大208 VAC / 3000W容量を供給可能な専用電源が搭載されており、フラッシュ焼結のトリガーや電気支援による材料変態の探索のために、電界を精密に印加することができます。
- 高精度多段階温度制御:先進的なPIDコントローラーが30個のプログラム可能セグメントを介して熱サイクルを±1℃の精度で管理し、複雑な材料合成の厳しい要件に加熱速度と保持時間が適合することを保証します。
- 高純度アルミナプロセスチューブ:標準で外径80mmのアルミナチューブを搭載し、本炉は1600℃での連続運転に適した化学的不活性かつ熱安定性の高い環境を提供し、敏感なセラミックス試料の汚染を防止します。
- スライド式真空フランジとサンプル治具:右側のフランジは支持レールに沿って容易にスライドできる設計で、内部発熱体やサンプルの位置合わせを保護しつつ、簡単にサンプルの装填・取り出しを行えます。
- 白金電極フィードスルー:高導電性のØ1 mm 白金線が電気フィードスルーに使用されており、酸化や材料劣化を起こすことなく、高温ゾーン内で最大15Aの安定した電流供給を保証します。
- デュアルゾーン熱管理:本炉は18インチの加熱ゾーンを備え、6インチの恒温領域を±3℃以内に維持するため、サンプル全長にわたって均一な緻密化に必要な熱均一性を提供します。
- 石英観測窓:真空フランジに一体化された直径30mmの石英窓により、フラッシュ焼結プロセス中にリアルタイムでサンプルを目視監視でき、研究者がプラズマ形成や材料の発光効果を観測することが可能です。
- 先進的な安全保護機能:搭載された過昇温および熱電対故障保護システムが自動的に電源を遮断して装置の損傷を防止するほか、プログラム可能AC電源には作業者の安全のために過負荷および短絡保護が搭載されています。
- 真空対応封止システム:ニードルバルブと機械式ゲージを備えたステンレススチール製フランジにより、機械ポンプを使用して10^-2 torrの真空度に到達可能で、大気酸化に敏感な材料の処理に不可欠です。
- カスタマイズ可能な制御オプション:堅牢なPIDインターフェースが標準搭載されていますが、コンピューターによる自動データロギングやリモートプロセス管理のために、RS485通信を搭載した高精度Eurothermコントローラーにアップグレードすることが可能です。
用途
| 用途 | 説明 | 主なメリット |
|---|---|---|
| フラッシュ焼結研究 | 高強度AC電界下でのセラミックス粉体の急速緻密化の調査 | 焼結時間を数時間から数秒に短縮しつつ、ピーク温度を低下させます |
| 固体電解質バッテリー開発 | LLZOやNASICONなど、精密な熱および電気制御が必要な固体電解質セラミックスの加工 | 高いイオン伝導度と粒界最適化を実現します |
| 超伝導材料合成 | 制御された雰囲気下でのセラミックス超伝導体の高温アニーリングおよび焼結 | 均一な熱処理により、相純度と臨界電流密度を向上させます |
| CVD / PECVD プロセス | オプションのガス供給システムを使用し、炉を反応器として薄膜またはカーボンナノチューブを成長 | 熱CVDおよびプラズマ強化CVDの両方に対応する多用途プラットフォームです |
| 高温メタライジング | 航空宇宙または電子用途向けに、セラミックス部品を金属基材に接合 | 堅牢な気密封止に必要な正確な雰囲気と温度を提供します |
| 誘電特性分析 | 電気負荷下で高温上昇時の材料特性の変化を測定 | 一体型白金線により、加熱中にその場で電気測定を行えます |
| 先進耐火物試験 | 高性能耐火物の耐熱衝撃性と電気抵抗率を評価 | 高温性能(最大1700℃)により、極限環境のシミュレーションが可能です |
技術仕様
| 仕様カテゴリ | パラメータ詳細 (TU-86) | 値 / 説明 |
|---|---|---|
| 炉電源 | 入力電圧 | 208-240 VAC, 50/60 Hz |
| 消費電力 | 5.2 KVA | |
| AC 電源 | 入力電圧 | AC220V ±10%, 50/60Hz, 単相 |
| 最大電力容量 | 3000 W | |
| 出力電圧範囲 | 20V - 208 VAC 調整可能 | |
| 電圧安定性 | ≤ 1% | |
| 保護機能 | 過負荷、過昇温、短絡 | |
| 熱性能 | 最大動作温度 | 1700°C |
| 連続動作温度 | 1600°C | |
| 加熱ゾーン長 | 18" (457 mm) | |
| 恒温ゾーン | 6" (150 mm) 偏差±3℃以内 | |
| プロセスチューブ | 素材 | 高純度アルミナ |
| 寸法 | Ø 2 3/8" x 40" (外径60mm x 内径54mm x 長さ1000mm) | |
| 制御システム | コントローラー種別 | PID SSRによる自動制御 |
| プログラム機能 | 30ステッププログラム可能 | |
| 精度 | ±1°C | |
| 熱電対 | B型 | |
| 真空 & 封止 | フランジ素材 | ステンレススチール |
| 到達真空度 | 10^-2 torr (機械ポンプ使用時) | |
| 観測窓 | 直径30 mm 石英 | |
| サンプル治具 | 白金リード付きスライド式フランジ標準搭載 | |
| 適合規格 | 規格 | CE認証済み (NRTL/UL61010は別途リクエストに応じて提供可能) |
当社を選ぶ理由
- 科学的発見のために設計されています:本システムは単なる炉ではなく、フラッシュ焼結という新興分野を促進するために設計された特殊な計測器であり、研究者がインパクトの高い結果を得るために必要な一体型ツールを提供します。
- 産業グレードの熱安定性:高品質なB型熱電対と高純度セラミックス部品で製造された本装置は、1600℃までの温度で卓越した安定性を維持し、投資の長寿命化を保証します。
- 精密な電気統合:3KWプログラム可能AC電源は炉の熱サイクルと連携して動作するよう特別に調整されており、1%未満の安定性で電界を印加するためのシームレスなインターフェースを提供します。
- 多用途で拡張可能な設計:多チャンネルガス供給システムや高真空デジタルゲージのオプションを備えており、本装置は基本的な焼結炉から高度なCVDまたは雰囲気制御反応器まで適応させることが可能です。
- 妥協のない安全性と品質:CE認証を取得し、包括的な保護回路を搭載して製造された本装置は、大学の研究室と産業施設の両方に安全な動作環境を提供します。
当社の技術チームは、お客様の特定の研究ニーズに合わせてこの先進焼結システムを構成するお手伝いをいたします。研究室の能力を強化するために、本日お問い合わせいただき技術コンサルティングまたは正式な見積もりをご依頼ください。
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