製品概要
この真空ホットプレス炉は、厳密に制御された雰囲気と圧力下での高温焼結のために設計されており、研究および小規模生産において優れた材料高密度化を実現します。完全統合設計により、高真空チャンバー、グラファイト加熱システム、サーボ電気式加圧機構を一つのコンパクトなユニットに組み合わせ、設置と操作を簡素化しています。
大学の研究室や産業界のR&Dセンターに最適で、先端セラミックス、金属マトリックス複合材料、新規ナノ材料を処理します。横開きドア式チャンバーとタッチスクリーンPLC制御により、迅速なバッチ交換と再現性のあるレシピ管理が可能で、要求の厳しい熱処理プロセスにおける頼りになる主力機器です。
頑丈なコンポーネントと堅牢なフレームワークで構築されたこの装置は、何千サイクルにもわたって一貫した性能を維持します。高精度サーボ駆動により、従来の油圧プレスに見られる圧力スパイクやメンテナンスの煩わしさが解消され、最も繊細なサンプルに対しても清潔で安定した正確な力の印加を保証します。
主な特徴
- サーボ電気式加圧: 高精度サーボ電気シリンダーが1～3トンの加圧力を提供し、変動はわずか±100 N、変位精度は≤0.01 mm。繊細な小サンプル試験に最適なキログラムレベルでの制御を可能にします。
- 高温対応能力: グラファイト加熱体により最大作動温度2000 °C（使用可能範囲：室温～1900 °C）を実現。超高温セラミックス、耐熱金属、サーメットの焼結をサポートします。
- 先進的な自動化: タッチスクリーンPLCコントローラーにより、オンラインレシピの編集、保存、呼び出し、アップロード、ダウンロードが可能です。タングステン・レニウム熱電対による1ゾーン温度制御で、プロセス全体を通じて±1 °Cの精度を維持します。
- コンパクト＆可動式設計: 統合型炉は内蔵キャスターを備え、実験室内での移動が容易です。横開きドアにより、サンプルの出し入れが便利に行えます。
- 清浄な高真空環境: 6.67 × 10⁻³ Pa（ベークアウト後）の冷時極限真空度により、無酸素雰囲気を保証します。真空下または不活性ガスの微少正圧（≤0.03 MPa）下で処理を行い、酸化を防止できます。
- 精密ホットゾーン: 100 × 100 × 100 mmの加熱領域は、作業ゾーンの上部にサンプル試験スペースを備え、温度均一性を維持しながら使用可能体積を最大化しています。
- 定格加熱電力: 標準3相380 V/50 Hz電源から≤15 kW。急速昇温とエネルギー効率のバランスが取れています。
- 精密圧力制御: デジタル圧力表示、自動調整、自動保持機能により、目標圧力を最小偏差で維持します。圧力ストロークは0～100 mmでデジタル表示されます。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| 先端セラミックス焼結 | 高性能ベアリング、切削工具、装甲用の窒化ケイ素、炭化ケイ素、アルミナ、ジルコニアの高密度化 | 理論密度に近い微細組織 |
| 金属マトリックス複合材料 | 熱管理および航空宇宙部品用のAl-SiC、Cu-WなどのMMCの固結 | 均一な圧力により、繊維破断なく気孔を除去 |
| ナノ材料固結 | ナノ粉末（例：ナノセラミックス、カーボンナノチューブ複合材料）をナノ構造を保持したままバルクサンプルに焼結 | 低圧力・高精度制御により粒成長を防止 |
| スパッタリングターゲット製造 | 薄膜堆積用の高密度で均質なITO、AZO、セラミックターゲットの作製 | 高真空・清浄雰囲気により化学量論的で高純度のターゲットを生成 |
| 生体材料加工 | インプラントや足場用のハイドロキシアパタイト、バイオガラスなどの生体セラミックスのホットプレス | 汚染のない環境で生体医療規格を満たす |
| 研究開発 | 大学や国立研究所における汎用高温・高圧材料開発 | 柔軟なレシピ管理と小サンプルサイズにより、開発時間とコストを削減 |
技術仕様
| パラメータ | 仕様 |
|---|---|
| モデル | TU-VH05 |
| 電源 | 3相 380 V ±10 %, 50 Hz |
| 定格加熱電力 | ≤15 kW |
| 最大作動温度 | 2000 °C（使用可能：室温～1900 °C） |
| ホットゾーン寸法（幅×奥行き×高さ） | 100 × 100 × 100 mm（上部サンプル試験スペース付き） |
| 真空チャンバー寸法（幅×奥行き×高さ） | 400 × 400 × 400 mm |
| 温度制御ゾーン数 | 1 |
| 温度制御方式 | タングステン・レニウム熱電対 |
| 温度制御精度 | ±1 °C |
| 極限真空度（冷時、ベークアウト後） | 6.67 × 10⁻³ Pa（空炉時） |
| 処理雰囲気 | 不活性ガス（Ar, N₂） |
| 最大ガス圧力 | ≤0.03 MPa（微正圧） |
| 最大加圧力 | 1 – 3 トン（デジタル表示、自動調整、自動保持） |
| 圧力変動 | ≤±100 N |
| 変位精度 | ≤0.01 mm |
| 圧力ストローク | 0 – 100 mm（デジタル表示） |
| 加圧方式 | サーボ電気シリンダー |
この製品を選ぶ理由
- 卓越した圧力精度 – サーボ電気駆動が従来の油圧方式に取って代わり、油漏れや圧力ドリフトを解消します。±100 N以内で力を維持し、サイクルごとに再現性の高い高密度化を保証します。
- 優れた熱性能 – 2000 °C対応で制御精度±1 °Cのグラファイト加熱体により、耐熱材料であっても均一な焼結を保証します。頑丈なホットゾーン設計は、何千回もの高温サイクルに耐えます。
- 清浄な処理環境 – 高真空システム（6.67 × 10⁻³ Pa）と不活性ガス対応機能により汚染を防止し、先端セラミックスや電子材料に不可欠な高純度製品を生成します。
- ユーザー中心の自動化 – タッチスクリーン付きPLCは、直感的なレシピ管理とデータロギングにより操作を簡素化し、オペレータエラーとトレーニング時間を削減すると同時に、追跡可能なプロセス文書化を可能にします。
- 実験室に適したフットプリント – キャスター内蔵の独立型ユニットで移動が容易で、標準3相電源が利用できる場所ならどこでも設置可能。施設改修を最小限に抑えます。
特定の用途についてのご相談やカスタム構成のご要望は、ぜひお問い合わせください。当社のエンジニアリングチームが、お客様の研究に必要な精密な温度、圧力、雰囲気制御の実現をお手伝いします。
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