製品概要
この高性能熱処理システムは、材料科学研究および産業用ラボの厳しい要求を満たすよう設計されています。精度と耐久性を重視し、焼結、アニール、化学気相成長（CVD）のための安定した高温環境を提供します。高純度アルミナプロセスチューブと堅牢な炭化ケイ素（SiC）発熱体を組み合わせることで、一貫した温度勾配と迅速な昇温を実現し、先端材料の合成や特性評価を行うラボに不可欠なツールとなっています。
半導体製造、航空宇宙材料試験、バッテリー研究などの分野をターゲットとしており、雰囲気制御された熱処理のための汎用性の高いプラットフォームを提供します。コンパクトな設置面積により、加熱能力や技術的性能を損なうことなく、既存のラボスペースにシームレスに統合できます。小規模生産から基礎研究まで、査読付き研究や産業品質管理基準に求められる再現性の高い結果を提供します。
信頼性を核として構築された本システムは、二重壁鋼構造と高度な空冷機構を備えており、ピーク動作時でも外装表面が安全に触れられる温度に保たれます。高精度デジタルコントローラーと真空対応ハードウェアの採用は、複雑な熱プロファイルに対するターンキーソリューションを提供するという当社のコミットメントを裏付けています。本装置は、継続的な高温サイクルの負荷に耐えつつ、優れた精度と安全性を維持するように設計された、長期的運用に最適な投資です。
主な特長
- 高純度アルミナプロセスチューブ： 熱衝撃や化学腐食に非常に強い99.5%高純度アルミナ管を使用しており、1500℃までの高温サイクル中もサンプルの完全性を維持します。
- 高度な炭化ケイ素（SiC）加熱： 4本の高耐久SiCロッドが6インチの加熱ゾーン全体に効率的かつ均一な熱分布を提供し、1400℃での連続運転と最大1500℃のピーク温度に対応します。
- 高精度SCRデジタル制御： 統合されたシリコン制御整流器（SCR）システムが高度な電力管理を行い、30セグメントのプログラム可能な設定を通じて、複雑な昇温・冷却プロファイルにおいて±1℃の温度精度を維持します。
- 包括的な真空シールアセンブリ： 各ユニットには、二重の高温シリコンOリングを備えたステンレス鋼（SUS304）製真空フランジが付属しており、補助ポンプと組み合わせることで10⁻⁵ torrまでの真空レベルを実現可能です。
- 二層強制空冷： 炉体は2基の冷却ファンを内蔵した二重層鋼ケースで構成されており、保護用の空気バッファを作り出すことで外殻温度を下げ、内部の繊細な電子機器を保護します。
- 高効率ファイバーアルミナ断熱材： チャンバー内壁には高品質の高純度ファイバーアルミナボードがライニングされており、熱損失を最小限に抑え、迅速な熱応答時間を実現して優れた省エネ効果を発揮します。
- 標準化された真空モニタリング： フランジに直接取り付けられた機械式真空/圧力計により、炉内圧力（-0.1～0.15 Mpa）をリアルタイムで監視できます。
- 安全第一の保護システム： 過熱防止および熱電対故障アラームを内蔵しており、加熱要素への電力を自動的に遮断することで、ハードウェアの損傷を防ぎ、無人運転時の作業者の安全を確保します。
- 多用途なガス導入ポート： 真空フランジには1/4インチのバーブ継手とニードルバルブが含まれており、不活性ガス処理や低圧化学気相成長（LPCVD）のための雰囲気導入を精密に制御できます。
- 拡張可能な制御オプション： PCベースの制御ソフトウェアやワイヤレス遠隔監視に対応しており、LabVIEWベースのインターフェースを介したデータロギングやレシピ管理が可能です。
アプリケーション
| アプリケーション | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| テクニカルセラミックス | 高純度セラミック粉末および複合材料の焼結。 | 高い熱安定性により、均一な密度と構造的完全性を確保。 |
| バッテリー研究 | リチウムイオン電池および全固体電池用電極材料の焼成。 | 精密な雰囲気制御により、感度の高い粉末化合物の酸化を防止。 |
| 半導体試験 | シリコンウェハーや薄膜基板の拡散およびアニール。 | 99.5%高純度アルミナによる汚染のない環境を提供。 |
| CVD研究 | カーボンナノチューブやグラフェンなどの2D材料の化学気相成長。 | 真空密閉フランジとニードルバルブにより、前駆体ガスの流量を制御可能。 |
| 冶金学 | 高性能合金サンプルの応力除去および熱処理。 | 迅速な昇温と正確な冷却セグメントにより、微細構造を精密に制御。 |
| 歯科研究 | ジルコニアやポーセレンクラウン、歯科補綴物の焼結。 | コンパクトなサイズと1500℃の能力は、専門的な医療ラボに最適。 |
| 材料科学教育 | 学生に対する熱相転移や材料特性のデモンストレーション。 | 堅牢な安全機能と直感的なデジタルインターフェース。 |
技術仕様
| 項目 | パラメータ詳細 | TU-62の仕様値 |
|---|---|---|
| モデル識別子 | 商品番号 | TU-62 |
| 最高温度 | 短時間（60分未満） | 1500 °C |
| 常用温度 | 長時間運転 | 1400 °C |
| チューブ材質 | プロセスチューブタイプ | 99.5% 高純度アルミナ |
| チューブ寸法 | 外径 x 長さ | 2インチ x 27インチ (外径50.8mm x 長さ700mm) |
| 発熱体 | ロッドタイプ | 1600℃グレードSiCロッド (4本) |
| 電源 | 電圧 / 相 | 単相, 208 - 240V AC, 50/60 Hz |
| 最大消費電力 | 電力要件 | 2.5 KW (20Aブレーカーが必要) |
| 加熱ゾーン | 総加熱長 | 6インチ (152 mm) |
| 均熱ゾーン | 有効均一性 | 60 mm (±3 °C) |
| コントローラータイプ | デジタルロジック | PID（オートチューニング機能付き, FA-YD518P-AG） |
| プログラム容量 | セグメント | 30セグメント (昇温、冷却、保持) |
| 温度精度 | 精度維持 | ± 1.0 °C |
| 真空完全性 | フランジ材質 | ステンレス鋼304（二重Oリング付き） |
| 真空レベル | ポンプ依存 | 10⁻² torr (メカニカル) / 10⁻⁵ torr (分子ポンプ) |
| 圧力計 | 機械式範囲 | -0.1 ～ 0.15 Mpa |
| 熱電対 | センサータイプ | Bタイプ（Pt-Rh to Pt-Rh、セラミックシース付き） |
| 昇温速度 | 1000°C ～ 1500°C | 5°C / 分 |
| 昇温速度 | 室温 ～ 1000°C | 10°C / 分 |
| 安全機能 | 冷却 / アラーム | デュアル冷却ファン、過熱・熱電対故障アラーム |
| コンプライアンス | 認証 | CE認証取得済み (NRTL/UL61010対応可能) |
コンパクト管状炉 TU-62 を選ぶ理由
- 産業グレードの信頼性： プロ仕様のSiC発熱体と高純度アルミナで設計されており、高負荷の研究環境でも一貫した性能を発揮します。
- 優れた熱管理： 高度なPID/SCR制御と高密度ファイバー断熱材の組み合わせにより、比類のない温度安定性とエネルギー効率を実現し、運用コストを削減します。
- ターンキー真空対応： 追加の改造を必要とする他社製品とは異なり、高品質なSUS304フランジとOリングが付属しており、導入後すぐに雰囲気制御プロセスを開始できます。
- 多用途かつ拡張性： デジタル真空モニタリングやワイヤレスソフトウェア制御のオプションにより、現代のラボの特定のデータ収集ニーズに合わせてカスタマイズ可能です。
- 精密製造： 二重層ケーシングからBタイプ熱電対に至るまで、すべてのコンポーネントが極限状態に耐えられるよう厳選されており、長期的な運用の一貫性を保証します。
当社のエンジニアリングチームは、お客様の研究を支援するプレミアムな熱ソリューションを提供することに専念しています。技術的なご相談や、カスタマイズされたラボセットアップの正式なお見積りについては、今すぐお問い合わせください。
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