5インチ石英管と2200℃温度コントローラー搭載 15KW高周波誘導加熱システム

カスタム誘導溶解炉

5インチ石英管と2200℃温度コントローラー搭載 15KW高周波誘導加熱システム

商品番号: TU-RL05

最大動作温度: 2200°C 最大入力電力: 15 KW 誘導出力周波数: 30 - 80 kHz
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製品概要

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本高周波誘導加熱システムは熱処理技術の最高峰を体現し、先端材料科学と産業研究開発向けに特別設計されています。高出力15KW誘導加熱器と洗練された石英チャンバーを組み合わせることで、研究者は例外的な速度と精度で最高2200℃の温度に到達することが可能です。本システムはターンキーソリューションとして設計され、高真空機能、循環水冷ユニット、高純度黒鉛るつぼアセンブリを統合して、新金属合金および高温セラミックスの溶解・焼結のための包括的なプラットフォームを提供します。

本装置の主な用途は、SiC結晶成長のための物理的気相輸送(PVT)、溶融浸透、半導体ウェーハの急速熱処理です。材料の純度と熱安定性が最も重要とされる航空宇宙、エネルギー、電子分野で広く活用されています。モジュール設計により、特定のプロセス要件に合わせた改造が可能で、基礎研究からパイロット規模生産へ移行する研究所にとって、柔軟性の高い資産となります。

産業グレードの部品と頑丈な移動式フレームで製造された本装置は、過酷な条件下でも妥協のない信頼性を提供します。耐腐食性静電容量隔膜圧力計から100%負荷サイクルの誘導加熱器まで、すべての部品は長期的な運用安定性を確保するために選定されています。水圧、過昇温、電力変動に対する自動保護プロトコルがシステムに搭載されているため、ユーザーは安心して運用でき、重要度の高い研究環境でも作業者の安全と装置の長寿命が保証されます。

主な特長

  • 高効率15KW誘導電源:先進的なソリッドステート誘導発生器を採用し、本システムは100%負荷サイクルで最大15KWの電力を供給します。30~80kHzの周波数範囲により、深い熱浸透と黒鉛サセプタへの効率的なエネルギー伝達を実現し、従来の抵抗炉では不可能な急速加熱速度を可能にします。
  • 精密PID温度調整: 統合されたデジタルコントローラーには30のプログラム可能セグメントが搭載されており、正確な昇温、保持、冷却段階を含む複雑な熱プロファイルの設定が可能です。自動PIDチューニングにより±3℃の温度精度を維持し、敏感な実験バッチ全体で再現性のある結果を保証します。
  • 優れた断熱性と耐火設計: 高純度アルミナ製の特殊三層耐火アセンブリがるつぼを囲んでいます。この設計は、2200℃の極端な使用環境に耐えるよう設計されていると同時に、外部石英チャンバーへの熱損失を最小限に抑え、システムの構造的完全性を保護します。
  • 高真空・制御雰囲気対応: 156 L/minの複式回転翼ポンプとKF-25真空ポートを搭載し、本システムは10E-2 torr(オプションのターボポンプ使用時は10E-5 torr)までの真空度を達成可能です。不活性ガスを用いた精密な雰囲気制御のため、ニードルバルブ付きステンレススチールフランジと耐腐食性隔膜圧力計を備えています。
  • 堅牢な安全・監視プロトコル: 本装置には0.02MPa設定の自動逃し弁と、フェノール樹脂またはポリカーボネートシート製の保護シールドが装備されています。これらの機能が、水流量および過電力条件の自動センサーと組み合わさることで、高温運転時のリスクを低減します。
  • 統合冷却・ガス管理: 58 L/minの循環冷水チラーが標準付属し、誘導コイルと電源の最適な温度維持を実現します。コンパクトな直読式流量計により、100~1000 cc/minの範囲でガス流量の微調整が可能で、精密な雰囲気処理をサポートします。
  • 設計された石英処理チャンバー: 外径130mmの石英管は、熱処理のための清浄で非反応性の環境を提供します。ヒンジ式の上部フランジにより試料の出し入れが簡素化され、C型熱電対用フィードスルーにより、るつぼ温度の直接かつ正確な監視を保証します。
  • 移動式・モジュール構造: システム全体は頑丈なスチール製移動台車に搭載されており、安定した600mm×800mmの作業スペースを提供します。この設計により、実験室内での移動が容易になり、真空ポンプ、チラー、加熱ユニットの効率的な配置が可能です。

用途

用途 説明 主なメリット
金属合金溶解 真空または不活性ガス雰囲気下での高純度合金および特殊金属組成物の急速誘導溶解。 酸化を防止し、最終溶解物の高い化学的均質性を確保します。
SiC結晶成長(PVT) 黒鉛ボックス内で物理的気相輸送法を利用したバルク炭化ケイ素結晶の成長。 高品質半導体結晶構造に必要な高い温度勾配制御を実現します。
溶融浸透 極端な温度で多孔質材料に溶融二次相を浸透させる加工。 航空宇宙向け複合セラミックマトリックス複合材料(CMC)の製造を可能にします。
半導体ウェーハ処理 特殊設計の黒鉛ボックスを使用し、外径1.5インチまでのウェーハを収容し均一熱処理を実施。 ウェーハ表面全体にわたって優れた温度均一性を実現し、ドーピングやアニールの均質性を確保します。
粉末焼結 セラミックまたは金属粉末を高温で緻密化し、高密度・高性能な部品に成形。 急速加熱サイクルにより結晶粒成長を抑制し、焼結体の機械的特性を向上させます。
高温材料試験 先進材料を最高2200℃の温度に曝し、熱膨張と安定性を評価。 極限高温環境での材料性能を検証するための、信頼性が高く制御された環境を提供します。

技術仕様

システム概要:TU-RL05

コンポーネント 仕様項目 技術データ
誘導加熱器 動作電圧 三相交流 220V、50/60Hz
最大入力電力 15 KW
動作電流 5~52 A(60Aブレーカーが必要)
出力周波数 30 - 80 kHz
負荷サイクル 100%
誘導コイル寸法 外径150mm × 内径140mm × 高さ65mm
冷却・保護 リアファン冷却;水圧/温度/過電力保護
温度制御 コントローラー種別 高精度デジタルPID、30プログラムセグメント
熱電対種別 C型(1/4" × 10" L)
最高使用温度 2200℃(30分未満);2000℃(2時間)
連続使用温度範囲 1000℃ – 1900℃
温度精度 ± 3 ℃
最大昇温速度 10℃/秒(1200℃時);3℃-6℃/秒(1700℃時)
チャンバー・真空 石英管寸法 外径130mm × 内径122mm × 長さ360mm
真空ポンプ排気速度 156 L/min(複式回転翼)
真空度 10E-2 torr(標準);10E-5 torr(オプションのターボポンプ使用時)
圧力センサー 耐腐食性静電容量隔膜式(3.8x10E-5 torrまで対応)
封止フランジ ステンレススチール製、KF-25ポート・ニードルバルブ付き
るつぼ・ツール 黒鉛るつぼ 外径2" × 内径1.57" × 深さ4"
耐火材料 高純度アルミナ(三層設計)
流量計範囲 100 - 1000 cc/min(精度:4%)
圧力逃し 安全弁設定 0.02 MPa
補助装置 冷水チラー 流量58 L/min;15L ステンレスタンク;温度範囲5 - 30°C
移動台車 スチールフレーム;表面寸法 長さ600mm × 幅800mm
保護シールド フェノール樹脂(非UL認証)またはポリカーボネート(UL認証)シート

当社を選ぶ理由

  • 極限熱性能のための設計:標準的な実験炉と異なり、本システムは最高2200℃の温度に最適化されており、高周波誘導を利用した急速熱サイクルにより、プロセス時間を大幅に短縮します。
  • 包括的なターンキーソリューション:本装置は完全統合システムとして出荷され、誘導発生器、真空ポンプ、冷水チラー、必要な耐火部品すべてが含まれるため、設置後すぐに運用開始可能です。
  • 高精度と再現性:高精度C型熱電対と30セグメントPIDコントローラーの組み合わせにより、複雑な加熱曲線を正確に再現することが可能で、冶金・半導体研究の一貫性にとって重要です。
  • 堅牢な産業品質:ステンレススチール真空フランジから頑丈な移動台車まで、すべてのコンポーネントは厳しい産業・学術環境での耐久性のために製造されており、高い投資効率と最小限のメンテナンスを保証します。
  • 安全第一の設計:過昇温・水圧に対する統合自動保護機能が、物理的保護シールドや圧力逃し弁と組み合わさり、高圧・高温運転に対して複数のセキュリティレイヤーを提供します。

当社のエンジニアリングチームは、お客様の特定の研究ニーズに合わせて本システムを構成したり、特注のるつぼやチャンバー改造についてご相談したりする準備ができています。技術コンサルティングまたは正式な見積もりについて、今すぐお問い合わせください。

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