製品概要




本システムは、動的な加熱環境を必要とする材料科学研究室や産業用R&D施設向けに特別に設計された、熱処理における専門的な進歩を体現しています。制御された雰囲気の管状炉の精度と回転駆動メカニズムを組み合わせることで、粉体サンプルが均一な熱曝露を受けることを確実にします。その最大の価値は、静的な加熱方法でしばしば見られる温度勾配を排除し、複雑な化学反応や材料変成に対して、より一貫性があり再現性の高い結果を提供できる点にあります。
本装置は主に、先端粉体の合成、特殊金属のリサイクル、および気固相互作用が不可欠な固体反応の研究に使用されます。航空宇宙、電池技術、冶金などの産業をターゲットとしており、触媒調製から高純度セラミックスの焼成に至るまで、幅広い用途で優れた性能を発揮します。コンパクトな設置面積のため、研究スペースが限られているものの、高性能な熱処理能力が不可欠な研究現場に理想的な選択肢です。
過酷な条件下での信頼性を考慮して構築されており、構造的完全性と測定精度の両方を優先した堅牢な設計が特徴です。高品質な加熱エレメントと高度な制御電子機器の統合により、長期間にわたって安定した動作を維持します。単純な乾燥作業から複雑な熱重量分析まで、本装置はハイレベルな研究環境の専門家が求める機械的および熱的一貫性を提供します。
主な特徴
- 統合型熱重量測定システム: この高度な機能により、加熱プロセス中のサンプルのリアルタイムな重量変化を記録できます。反応発生時の質量変動を追跡することで、分解、酸化、還元反応の速度論を理解するための重要なデータを提供します。
- 均一性を実現する動的回転運動: プロセスチューブの連続回転により、粉体材料が転がり、動的に混合されます。これにより、すべての粒子が熱源および特定の雰囲気に均一に曝露され、従来の炉で発生しがちな材料の積み重なりによる反応不完全を効果的に回避します。
- 軽量アルミニウム合金シェル: 外殻は高品質のアルミニウム合金で構成されており、本体重量を軽減するように特別に設計されています。この設計上の選択は、統合された計量・測定システムの感度と精度を高めるために不可欠です。
- 高精度PID温度制御: 高度な自動PIDコントローラーが、30ステップのプログラム可能な加熱サイクルを管理します。このレベルの制御により、複雑な昇温、保持、冷却プロファイルが可能となり、±1°Cの厳密な温度精度を維持します。
- 多目的な真空および雰囲気対応: ステンレス鋼製のシールフランジを備えており、真空下での動作や、さまざまな雰囲気環境の提供が可能です。これにより、熱処理中の化学環境を精密に制御でき、不活性ガスや反応性ガスのフローをサポートします。
- 最適化された加熱エレメント構成: 高性能抵抗線を使用し、最大1000°Cまでの連続動作温度を実現しています。加熱エレメントは石英管への熱伝達を最大化するように配置されており、急速な加熱速度と効率的なエネルギー使用を保証します。
- カスタマイズ可能なプロセスチューブ: 優れた耐熱衝撃性と透明性を持つ高純度石英が標準ですが、チューブの仕様は特定のサンプル量や化学的適合性の要件に合わせてカスタマイズ可能です。
- 優れた製造品質と安全性: 高耐久性のステンレス鋼フランジから高温用Oリングに至るまで、すべてのコンポーネントが耐久性を基準に選定されています。本システムは、シール性能と操作の安全性を維持しながら、繰り返しの熱サイクルに耐えられるよう設計されています。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| 粉体触媒合成 | 前駆体粉体を動的に加熱し、活性触媒サイトを形成。 | バッチ間で均一な表面積と安定した触媒活性を実現。 |
| 熱重量分析 | 鉱物やポリマーの焼成中の質量減少を監視。 | 熱分解温度と反応相の正確な特定。 |
| アルミニウムドロスリサイクル | 1000°C付近の温度で金属スクラップやドロスを処理。 | 継続的な機械的転動により、スラグと金属の分離を促進。 |
| 次世代電池材料R&D | 不活性ガス雰囲気下での正極・負極粉体の熱処理。 | 酸化を防止し、安定した電気化学的特性を確保。 |
| セラミック粉体焼成 | 高純度セラミック粉体から有機バインダーと水分を除去。 | 「コールドスポット」を排除し、より均質な最終粉体構造を実現。 |
| 表面コーティング (CVD) | 気相前駆体を使用して、転動中の粉体粒子をコーティング。 | 個々の粒子すべてに360度の均一なコーティングを実現。 |
| 酸化速度論研究 | 重量増加を監視しながら、制御された酸素フローに粉体を曝露。 | 実環境下での酸化速度に関する高解像度データを提供。 |
技術仕様
| パラメータグループ | 仕様詳細 | 値 |
|---|---|---|
| モデル識別 | 製品番号 | TU-13 |
| 熱性能 | 最大連続温度 | ≤1000°C |
| 熱性能 | 温度精度 | ±1°C |
| 制御システム | 温度コントローラー | PID自動制御(30ステッププログラム可能) |
| 制御システム | 熱電対タイプ | Kタイプ |
| 電源要件 | 定格電力 | 1.25 kW |
| 電源要件 | 電圧 / 相 | 240V, 単相, 50 Hz |
| 機械設計 | シェル材質 | アルミニウム合金(重量最適化) |
| 機械設計 | チューブ材質 | 高純度石英(オプション/カスタマイズ可能) |
| 機械設計 | シール機構 | ステンレス鋼製真空フランジ |
| 動作機能 | 統合測定 | リアルタイム質量追跡用計量システム |
| 動作機能 | 加熱エレメント | 高品質抵抗線 |
ミニ回転管状炉を選ぶ理由
- 比類のない材料均一性: バルクサンプルで熱遮蔽が発生する静的炉とは異なり、本システムの回転動作はすべての粒子が同じ熱履歴を受けることを保証します。これは、ラボの結果を産業生産にスケールアップするために不可欠です。
- 統合データ取得: 内蔵の計量システムは、標準的な炉を強力な分析ツールへと変貌させます。熱処理と質量測定を組み合わせることで、二次的な分析ステップを必要とせずに、材料の挙動に関するより深い洞察を得ることができます。
- プレミアム材料工学: アルミニウム合金シェルと精密加工されたステンレス鋼フランジを採用することで、測定精度を高める軽量さと、産業用ラボでの長年の過酷な使用に耐えうる堅牢さを両立させています。
- 高度なカスタマイズ性: すべての研究プロジェクトがユニークであることを認識し、チューブ寸法のカスタマイズや特殊なガス供給システムを提供しています。これにより、プロセスを装置に合わせるのではなく、装置をプロセスに適合させることができます。
- 専門的な技術サポート: 熱処理ソリューションにおける10年以上の経験に基づき、設置からプロセス最適化まで包括的なサポートを提供し、お客様の投資が安定した価値を生み出すことを保証します。
特定のプロセス要件のご相談や、カスタム構成の熱処理システムの詳細な見積もりについては、今すぐ当社の技術営業チームまでお問い合わせください。
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい!
関連製品
連続粉体熱処理および制御雰囲気焼結用高温傾斜回転管状炉
この産業用高温傾斜回転管状炉は、制御された雰囲気下で精密な連続粉体処理と均一な熱処理を提供します。研究開発および製造の卓越性を追求して設計されており、高度な傾斜機構、統合型マスフローコントローラー、および信頼性の高いPID温度管理機能を備えています。
連続材料合成向け自動粉体供給・回収システム搭載 60mm 1500℃ 3ゾーンロータリーチューブ炉
この1500℃ 3ゾーンロータリー炉は、連続材料加工のための一体型自動供給・回収システムを搭載しています。電池正極材の合成や化学気相成長に最適で、高度な産業研究開発において高精度な温度制御と雰囲気安定性を提供します。
粉末窒化用のボールミル機能とガスフロー機能を統合した高温回転式チューブ炉
この先進的な1100°C回転式チューブ炉は、精密な粉末窒化のために、高温ボールミリングと制御されたガスフローを統合しています。材料科学の研究開発に最適で、デュアルゾーン加熱、磁性流体シール、プログラム可能なPID制御を備え、優れた材料合成と触媒用途を実現します。
粉末CVDおよび材料合成用 5インチ2ゾーン回転管状炉 1100℃
高精度1100℃ 2ゾーン回転管状炉で材料研究を加速させます。均一な粉末CVDおよびコアシェル合成のために特別に設計されたこの5インチ石英システムは、高度な雰囲気制御と独立したデュアルゾーン熱処理最適化を提供します。
均一な粉末焼成用デュアルゾーン回転管状炉 1000℃ 2インチ石英管
この1000℃対応デュアルゾーン回転管状炉で、優れた材料の均一性を実現します。可変回転機能とプログラム可能なPIDコントローラーを備えた本システムは、高純度無機粉末の焼成やリチウムイオン電池正極材の開発プロジェクトに最適化されています。カスタム熱処理ソリューションについては、今すぐお問い合わせください。
粉体CVDコーティングおよびコアシェル材料合成用 1100℃ 2ゾーン回転管状炉
この高性能な1100℃ 2ゾーン回転管状炉で粉体処理を最適化します。CVDコーティングおよびコアシェル合成専用に設計されており、5インチの石英管と混合ブレードを備え、優れた熱均一性と一貫した材料バッチ生産を実現します。
自動供給・受取システム付き5インチ回転式チューブ炉 1200℃ 3ゾーンCVD粉体処理
自動供給・受取システムを備えた業務用5インチ回転式チューブ炉。制御雰囲気または真空下でのリチウムイオン電池材料合成に向けた、高容量の1200℃3ゾーン加熱。熱処理効率に最適化され、スケーラブルな産業R&Dおよびパイロット生産に最適です。
材料科学研究および制御雰囲気下での少量サンプル処理用 20mm石英管・真空フランジ付き1000℃ミニ管状炉
20mm石英管と真空フランジを備えたこの1000℃ミニ管状炉で、研究室の実験を加速させましょう。少量サンプルの処理やCVDアプリケーションに最適化されており、精密なPID制御と、垂直または水平設置が可能な柔軟な構成により、多目的な用途に対応します。
高温粉末処理および材料研究向け三ゾーン回転管式炉
この先進的な三ゾーン回転管式炉は、バルク粉末材料に対して均一な熱処理を実現します。材料研究および産業R&D向けに設計されており、精密な温度制御、調整可能な傾斜角、動的混合により、バッチ全体で一貫した品質を確保します。
産業用粉体熱処理および材料研究向け連続供給式ロータリーチューブ炉
300Lの大容量ストレージビンとデュアル供給システムを備えたこの高性能連続供給式ロータリーチューブ炉は、現代の要求の厳しい研究・生産環境において、先端粉体の均一な熱処理を実現し、産業プロセスの効率を最大化します。
先進的な粉末焼結および材料処理のための高温回転傾斜管状炉
均一な粉末焼結と材料処理のために設計された先進的な高温回転傾斜管状炉。動的回転、高精度PID制御、自動傾斜機能を備え、このプロフェッショナルシステムは、要求の厳しい産業用途および材料科学の研究開発ラボ用途において、均一な熱処理を実現します。
材料科学および産業用熱処理向け実験室用傾斜回転管状炉
高性能な傾斜回転管状炉は、精密な実験室熱処理向けに設計されています。高度なPID制御、調整可能な傾斜角度、優れた温度均一性を備え、これらのシステムは、要求の厳しい産業研究およびR&D用途における金属回収と材料合成を最適化します。
粉末処理向け自動給排気システム搭載 2ゾーン回転式CVD炉
自動給排気システムを搭載したこの2ゾーン回転式CVD炉で、材料研究の効率を最大化しましょう。精密に制御された雰囲気・温度環境下でのリチウムイオン電池電極製造や無機化合物の焼成に最適で、産業R&Dに対応しています。
900°C対応 最大回転式チューブ炉(8インチ310S合金チューブ、マルチゾーン加熱オプション付、工業用材料焼成向け)
先進的な900°C回転式チューブ炉は、8インチの310S合金チューブとオプションのマルチゾーン加熱機能を備えています。この工業用システムは、電池正極材料の精密な熱処理を実現し、研究開発ラボや施設において、一貫した焼成結果と高収率の生産を保証します。
大規模CVDコーティング向け自動粉体供給装置搭載 1100℃ 3ゾーン回転式管状炉
大規模CVDコーティング向けに自動粉体供給装置と15インチ石英管を搭載した、高性能1100℃ 3ゾーン回転式管状炉です。産業研究・生産環境において、正確な熱均一性と効率的な粉体加工により、電池電極の合成を最適化します。
60mmアルミナチューブと精密回転制御を備えた、高温1700℃対応デュアルゾーン回転管状炉
この高性能1700℃対応2ゾーン回転管状炉は、材料合成において優れた熱均一性を実現します。独立PID制御と高純度アルミナチューブを備え、安定した粉末処理および先進的なリチウムイオン電池研究用途に最適化されており、今日の産業レベルの卓越性に貢献します。
高温電池材料合成および先端材料焼成用 4インチ2ゾーン回転式CVD管状炉
この高性能2ゾーン回転式CVD管状炉は、最高1200℃までの精密な熱処理を提供します。電池材料研究に最適で、可変回転、調整可能な傾斜角、デュアルゾーンPID制御を備えており、無機化合物の焼成やシリコンカーボン負極の合成において優れた均一性を実現します。
統合マスフロー制御とマルチゾーン加熱を備えた高温傾斜回転式チューブ炉
この高性能な傾斜回転式チューブ炉は、精密な温度制御と多チャネルガス統合による連続材料処理を実現します。産業向けR&D用に設計されており、高度材料合成および大規模冶金試験用途において均一な熱処理を保証します。
挿入型温度校正器および真空システム一体型コンパクト分割式管状炉
この高性能なコンパクト分割式管状炉は、真空システムと精密温度校正器を一体化しています。1200°Cまでの材料研究用に設計されており、優れた熱均一性、高度なPID制御、および要求の厳しい産業・研究用加熱用途に対応する堅牢な性能を提供します。
5インチ3ゾーン回転式管状炉(統合ガス供給システム搭載、1200℃対応、先端材料CVDプロセス向け)
この高精度1200℃ 3ゾーン回転式管状炉は、4チャンネル統合ガス供給システムと自動チルト機構を備えており、先端電池材料、カソード合成、工業用粉末研究用途向けに均一な熱処理と化学気相成長(CVD)を提供します。